JP2006307317A - 窒素含有クロム被膜、その製造方法及び機械部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 膜厚方向の中間部11bの含有窒素濃度を他の部位11a,11cの含有窒素濃度より高くした窒化含有クロム被膜11である。膜全体としての耐摩耗性、耐焼き付き性等の特性は、前記中間部11bの含有窒素濃度が高く、したがって、前記中間部11bの硬度が高いことによって担保される。また、膜厚方向における含有窒素濃度の違いにより、前記中間部11bにおいて硬度が高く、その両側の基材側11a及び被膜表面側11cにおいて、硬度が低くなっている。したがって、膜全体としての靭性も良好となる。加えて、前記基材側11aにおいては、含有窒素濃度が前記中間部11bより低い分だけクロム濃度が高いので、基材4に対する密着性も良好となる。
【選択図】 図2
Description
発明者等は、第一実施例として、本発明による窒素含有クロム被膜と、比較例としての、本発明による前記窒素含有クロム被膜の中間層と同じ硬度を持つ均一な組成の窒素含有クロム被膜と、を比較した。
基材となるSUS304のプレートに、10μmの膜厚で、本実施例による被膜、比較例の被膜をそれぞれ形成したものを試験片として用い、アブレシブ摩耗試験機にて実施した。被膜を擦る摩耗輪には、800番のサンドペーパーを取り付けた。前記摩耗輪を試験片の被膜に1.5kgfで押しつけながら、試験片を連続的に往復運動させた。試験片に対するサンドペーパーの接触面を常に新規な状態に維持するため、前記摩耗輪は、試験片が1往復(30mm×2)するごとに1°回転させた。その結果、本実施例の被膜と比較例の被膜には大きな差はなかったが、いずれも、摺動回数300往復で摩耗量が0.7mg程度、摺動回数が1100往復でも、摩耗量が2mg程度であり、良好な耐摩耗性が確認された。
SCM415の基材に、20μmの膜厚で、本実施例による被膜、比較例の被膜をそれぞれ形成したものを試験片として用い、スクラッチ試験機(AEセンサー付スクラッチ試験機)により測定した。ダイヤモンド圧子(0.2mmR)により、荷重速度100N/min、スクラッチ速度10mm/minで、被膜のスクラッチを行った。
試験に使用した本発明による窒素含有クロム被膜は、アルミニウムの基材の表面に形成したもので、基材側のHVが500、中間層のHVが1700、表面層のHVが1000のものである。また、比較例の窒素含有クロム被膜は、アルミニウムの基材の表面に形成した硬度の異なる二層構造の被膜であり、基材側のHVが500(厚さ約1μm)、表面層のHVが1700のものである。膜厚は、いずれの被膜も、20μmで同一である。被膜の形成は第一実施例に準じて行った。
試験に使用した本発明による窒素含有クロム被膜は、チタンの基材の表面に形成したもので、基材側のHVが500、中間層のHVが1700、表面層のHVが1000のものである。また、比較例の窒素含有クロム被膜は、チタンの基材の表面に形成した硬度の異なる二層構造の被膜であり、基材側のHVが500(厚さ約1μm)、表面層のHVが1700のものである。膜厚は、いずれの被膜も、20μmで同一である。被膜の形成は第一実施例に準じて行った。
2 真空ポンプ
3 回転テーブル
5 治具
4 基材(被処理部材)
6 クロムターゲット
7 スパッタ電源
8 イオンボンバード及びバイアス電源
9 ガス導入パイプ
10 スパッタリング装置
11 窒素含有クロム被膜
11a 基材側層
11b 中間部層
11c 被膜表面側層
11d 基材への接触面
11s 被膜表面
12 機械部材
Claims (15)
- 基材の表面に形成される窒素含有クロム被膜であって、膜厚方向の中間部の含有窒素濃度が他の部位の含有窒素濃度より高くなっている、窒素含有クロム被膜。
- 前記含有窒素濃度が、前記基材側から前記中間部にかけて逓増し、該中間部から被膜表面側にかけて逓減している、請求項1に記載の窒素含有クロム被膜。
- 被膜表面の含有窒素濃度が、前記基材への接触面の含有窒素濃度より高くなっている、請求項1又は2に記載の窒素含有クロム被膜。
- 前記中間部の含有窒素濃度が、0.5〜3.0アトミックパーセントである、請求項1,2又は3に記載の窒素含有クロム被膜。
- 被膜表面の含有窒素濃度が、0.3〜0.6アトミックパーセントである、請求項1,2,3又は4に記載の窒素含有クロム被膜。
- 前記基材への接触面の含有窒素濃度が、0〜0.6アトミックパーセントである、請求項1,2,3,4又は5に記載の窒素含有クロム被膜。
- 基材の表面に形成される窒素含有クロム被膜であって、膜厚方向の中間部の硬度が他の部位の硬度より高くなっている、窒素含有クロム被膜。
- 被膜表面の硬度が、前記基材への接触面の硬度より高くなっている、請求項7に記載の窒素含有クロム被膜。
- 前記中間部のビッカース硬度HVが800〜2000である、請求項7又は8に記載の窒素含有クロム被膜。
- 被膜表面のビッカース硬度HVが700〜1900である、請求項7,8又は9に記載の窒素含有クロム被膜。
- 前記基材への接触面のビッカース硬度HVが500〜1000である、請求項7,8,9又は10に記載の窒素含有クロム被膜。
- 窒素を含む雰囲気中でクロムを所定時間スパッタリングすることによって基材の表面に窒素含有クロム被膜を形成する方法であって、スパッタリングの中間時点における雰囲気の窒素濃度を他の時点に比べて高くすることを特徴とする、窒素含有クロム被膜の製造方法。
- スパッタリングの開始時点からスパッタリングの中間時点にかけて、雰囲気の窒素濃度を逓増せしめ、スパッタリングの中間時点からスパッタリングの終了時点にかけて、雰囲気の窒素濃度を逓減せしめる、請求項12に記載の窒素含有クロム被膜の製造方法。
- スパッタリングの終了時点における雰囲気の窒素濃度が、スパッタリングの開始時点における雰囲気の窒素濃度より高くされている、請求項12又は13に記載の窒素含有クロム被膜の製造方法。
- 請求項1乃至11のいずれか一項に記載の窒素含有クロム被膜を有する、機械部材。
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