JP2006303534A5 - - Google Patents
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Description
また、前記オリフィス管の先端は、細孔に接続され、前記細孔は、前記オリフィス管内におけるキャリアガスの圧力を５００〜１０００Ｔｏｒｒにするように内径が選定されることを特徴とする。
また、キャリアガス中に原料溶液を微粒子状又は霧状に分散させるオリフィス管と、前記オリフィス管の前記ガス通路に連通されたところの前記原料溶液を供給する原料溶液用通路と、前記オリフィス管に前記キャリアガスを供給するキャリアガス用通路と、前記オリフィス管で分散された前記原料溶液を気化する気化管と、前記気化管内に挿入され前記オリフィス管のガスを噴出する細孔とを有し、前記オリフィス管は、円柱状のガス通路を備えるＣＶＤ用気化器を具備することを特徴とする。
また、本発明に係るＣＶＤ用気化方法は、キャリアガス用通路から円柱状のガス通路を備えるオリフィス管にキャリアガスを供給すると共に、原料溶液用通路から前記オリフィス管に原料溶液を供給し、前記オリフィス管で前記キャリアガス中に原料溶液を微粒子状又は霧状に分散させ、前記オリフィス管のガスを噴出する気化管に挿入された細孔から前記オリフィス管のキャリアガスと原料溶液を噴出して、前記原料溶液を霧化させて気化することを特徴とする。
また、本発明に係るＣＶＤ用気化器は、１乃至複数の原料溶液を供給する溶液供給系から原料溶液を供給する原料溶液用配管と、前記原料溶液用配管の先端に接続された配管内径の小さい溶液配管と、前記溶液配管の先端に設けられたノズルと、前記ノズルの外側に設けられた導入口と、前記ノズルの先端に設けられた分散部と、前記分散部に接して設けられた噴霧フランジとを備え、前記分散部で前記溶液配管から供給される原料溶液と前記導入口から供給されるキャリアガスとが合流し、前記噴霧フランジ中央部に形成された細孔からキャリアガスと原料溶液とを気化管上部に高速で噴出させることを特徴とする。また、前記細孔は、前記分散部内におけるキャリアガスの圧力を５００〜１０００Ｔｏｒｒにするように内径が選定される。
また、前記気化管の基端と前記分散部及び前記噴霧フランジとの間に配置された断熱材を備えることを特徴とする。
Claims (25)
- キャリアガス中に原料溶液を微粒子状又は霧状に分散させるオリフィス管と、
前記オリフィス管の前記ガス通路に連通された前記原料溶液を供給する原料溶液用通路と、
前記オリフィス管に前記キャリアガスを供給するキャリアガス用通路と、
前記オリフィス管で分散された前記原料溶液を気化する気化管と、
前記気化管内に挿入され前記オリフィス管のガスを噴出する細孔とを有し、
前記オリフィス管は、円柱状のガス通路を備える
ことを特徴とするＣＶＤ用気化器。 - 前記オリフィス管は、内径が１ｍｍ以下である
ことを特徴とする請求項１記載のＣＶＤ用気化器。 - 前記オリフィス管の先端は、細孔に接続され、
前記細孔は、前記オリフィス管内におけるキャリアガスの圧力を５００〜１０００Ｔｏｒｒにするように内径が選定される
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のＣＶＤ用気化器。 - 前記細孔の内径は、０．２ｍｍ〜０．７ｍｍである
ことを特徴とする請求項３に記載のＣＶＤ用気化器。 - 前記オリフィス管、前記細孔及び前記気化管のうち少なくとも一つを洗浄する洗浄機構をさらに具備することを特徴とする請求項１〜４のうちいずれか１項に記載のＣＶＤ用気化器。
- 前記キャリアガスの圧力をモニターする機構をさらに具備することを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１項に記載のＣＶＤ用気化器。
- 前記気化管の基端とオリフィス管との間に配置された断熱材を備える
ことを特徴とする請求項１〜６のうちいずれか１項に記載のＣＶＤ用気化器。 - キャリアガス中に原料溶液を微粒子状又は霧状に分散させるオリフィス管と、
前記オリフィス管の前記ガス通路に連通されたところの前記原料溶液を供給する原料溶液用通路と、
前記オリフィス管に前記キャリアガスを供給するキャリアガス用通路と、
前記オリフィス管で分散された前記原料溶液を気化する気化管と、
前記気化管内に挿入され前記オリフィス管のガスを噴出する細孔とを有し、
前記オリフィス管は、円柱状のガス通路を備えるＣＶＤ用気化器と、
前記気化管に接続された反応室とを具備する
ことを特徴とする溶液気化式ＣＶＤ装置。 - キャリアガス用通路から円柱状のガス通路を備えるオリフィス管にキャリアガスを供給すると共に、
原料溶液用通路から前記オリフィス管に原料溶液を供給し、
前記オリフィス管で前記キャリアガス中に原料溶液を微粒子状又は霧状に分散させ、
前記オリフィス管のガスを噴出する気化管に挿入された細孔から前記オリフィス管のキャリアガスと原料溶液を噴出して、前記原料溶液を霧化させて気化する
ことを特徴とするＣＶＤ用気化方法。 - 前記原料溶液を気化させた後、前記オリフィス管及び前記原料溶液を気化する領域の少なくともいずれか一方を洗浄することを特徴とする請求項９に記載のＣＶＤ用気化方法。
- 前記原料溶液を気化する際に、前記キャリアガスの圧力をモニターしておき、前記キャリアガスが所定の圧力を超えた場合に、前記原料溶液の前記オリフィス管への供給を停止し、前記オリフィス管及び前記原料溶液を気化する領域の少なくともいずれか一方を洗浄することを特徴とする請求項９に記載のＣＶＤ用気化方法。
- 洗浄する際は、前記オリフィス管及び前記原料溶液を気化する領域の少なくともいずれか一方に溶剤及びキャリアガスを流し、前記洗浄する際に前記キャリアガスの圧力をモニターしておき、前記キャリアガスが所定の圧力以下になったときに前記溶剤を流すのを停止して洗浄を終了することを特徴とする請求項１１に記載のＣＶＤ用気化方法。
- １乃至複数の原料溶液を供給する溶液供給系から原料溶液を供給する原料溶液用配管と、
前記原料溶液用配管の先端に接続された配管内径の小さい溶液配管と、
前記溶液配管の先端に設けられたノズルと、
前記ノズルの外側に設けられた導入口と、
前記ノズルの先端に設けられた分散部と、
前記分散部に接して設けられた噴霧フランジとを備え、
前記分散部で前記溶液配管から供給される原料溶液と前記導入口から供給されるキャリアガスとが合流し、
前記噴霧フランジ中央部に形成された細孔からキャリアガスと原料溶液とを気化管上部に高速で噴出させることを特徴とするＣＶＤ用気化器。 - 前記細孔は、前記分散部内におけるキャリアガスの圧力を５００〜１０００Ｔｏｒｒにするように内径が選定される
ことを特徴とする請求項１３に記載のＣＶＤ用気化器。 - 前記細孔の内径は、０．２ｍｍ〜０．７ｍｍである
ことを特徴とする請求項１３に記載のＣＶＤ用気化器。 - 前記細孔及び前記気化管のうち少なくとも一つを洗浄する洗浄機構をさらに具備することを特徴とする請求項１３〜１５のうちいずれか１項に記載のＣＶＤ用気化器。
- 前記キャリアガスの圧力をモニターする機構をさらに具備することを特徴とする請求項１３〜１６のうちいずれか１項に記載のＣＶＤ用気化器。
- 前記気化管の基端と前記分散部及び前記噴霧フランジとの間に配置された断熱材を備える
ことを特徴とする請求項１３〜１７のうちいずれか１項に記載のＣＶＤ用気化器。 - １乃至複数の原料溶液を供給する溶液供給系から原料溶液を供給する原料溶液用配管と、
前記原料溶液用配管の先端に接続された配管内径の小さい溶液配管と、
前記溶液配管の先端に設けられたノズルと、
前記ノズルの外側に設けられた導入口と、
前記ノズルの先端に設けられた分散部と、
前記分散部に接して設けられた噴霧フランジとを備え、
前記分散部で前記溶液配管から供給される原料溶液と前記導入口から供給されるキャリアガスとが合流し、前記噴霧フランジ中央部に形成された細孔からキャリアガスと原料溶液とを気化管上部に高速で噴出させるＣＶＤ用気化器と、
前記気化管に接続された反応室とを具備する
ことを特徴とする溶液気化式ＣＶＤ装置。 - 原料溶液用配管から供給される原料溶液をノズルから前記ノズルの先端に設けられた分散部に供給すると共に、
前記ノズルの外側に設けられた導入口からキャリアガスを供給し、
前記分散部で前記ノズルから供給される前記原料溶液と前記導入口から供給される前記キャリアガスとが合流し、前記分散部に接して設けられた噴霧フランジの中央部の噴霧口から前記キャリアガスと原料溶液を、気化管上部に噴霧し、前記気化管で前記キャリアガスと原料溶液を膨張させて気化する
ことを特徴とするＣＶＤ用気化方法。 - 前記原料溶液を気化させた後、前記原料溶液を気化する領域を洗浄する
ことを特徴とする請求項２０に記載のＣＶＤ用気化方法。 - 前記原料溶液を気化する際に、前記キャリアガスの圧力をモニターしておき、
前記キャリアガスが所定の圧力を超えた場合に、原料溶液を前記ノズルに供給するのを停止し、
前記原料溶液を気化する領域を洗浄する
ことを特徴とする請求項２０又は２１に記載のＣＶＤ用気化方法。 - 前記洗浄する際は、前記原料溶液を気化する領域に溶剤及びキャリアガスを流し、
前記洗浄する際に前記キャリアガスの圧力をモニターしておき、前記キャリアガスが所定の圧力以下になったときに前記溶剤を流すのを停止して洗浄を終了する
ことを特徴とする請求の範囲２２に記載のＣＶＤ用気化方法。 - 前記溶剤は、前記原料溶液に含まれる溶剤と同質である
ことを特徴とする請求の範囲２３に記載のＣＶＤ用気化方法。 - 前記溶剤は、エチルシクロヘキサン、n-ヘキサン、ベンゼン、トルエン、ＴＨＦ、オクタン、デカン、酢酸ブチルからなる群から選ばれた１種又は複数の混合物である
ことを特徴とする請求の範囲２３又は２４に記載のＣＶＤ用気化方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006186605A JP4110576B2 (ja) | 2006-07-06 | 2006-07-06 | Ｃｖｄ用気化器、溶液気化式ｃｖｄ装置及びｃｖｄ用気化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006186605A JP4110576B2 (ja) | 2006-07-06 | 2006-07-06 | Ｃｖｄ用気化器、溶液気化式ｃｖｄ装置及びｃｖｄ用気化方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004290087A Division JP3896594B2 (ja) | 2004-10-01 | 2004-10-01 | Ｃｖｄ用気化器、溶液気化式ｃｖｄ装置及びｃｖｄ用気化方法 |
Publications (3)
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| JP2006303534A5 true JP2006303534A5 (ja) | 2007-09-20 |
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Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2006186605A Expired - Fee Related JP4110576B2 (ja) | 2006-07-06 | 2006-07-06 | Ｃｖｄ用気化器、溶液気化式ｃｖｄ装置及びｃｖｄ用気化方法 |
Country Status (1)
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