JP2006290709A - 窒化ケイ素材料およびその製造方法 - Google Patents
窒化ケイ素材料およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006290709A JP2006290709A JP2005117420A JP2005117420A JP2006290709A JP 2006290709 A JP2006290709 A JP 2006290709A JP 2005117420 A JP2005117420 A JP 2005117420A JP 2005117420 A JP2005117420 A JP 2005117420A JP 2006290709 A JP2006290709 A JP 2006290709A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon nitride
- oxide
- mass
- iva
- thermal conductivity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Sliding-Contact Bearings (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
【解決手段】 窒化ケイ素80〜99質量%と、粒界相がIVa族元素の窒化物のうち少なくとも1種の窒化物0.1〜5質量%、残部がMg、SiおよびIVa族元素の少なくとも1種を含む酸化物もしくは酸窒化物からなり、かつIVa族元素とMgのモル比が酸化物換算で1:1〜1:10の範囲内であり、密度が3.1g/cm3以上、ヤング率が300GPa以上かつ熱伝導率が50W/mK以上であることを特徴とする窒化ケイ素材料。
【選択図】 なし
Description
Claims (4)
- 窒化ケイ素80〜99質量%と、粒界相がIVa族元素の窒化物のうち少なくとも1種の窒化物0.1〜5質量%、残部がMg、SiおよびIVa族元素の少なくとも1種を含む酸化物もしくは酸窒化物からなり、かつIVa族元素とMgのモル比が酸化物換算で1:1〜1:10の範囲内であり、密度が3.1g/cm3以上、ヤング率が300GPa以上かつ熱伝導率が50W/mK以上であることを特徴とする窒化ケイ素材料。
- 原料として窒化ケイ素、マグネシウム源およびIVa族元素の酸化物を、窒化ケイ素80〜99質量%、マグネシウム源を酸化物換算で0.1〜10質量%、IVa族元素の酸化物0.1〜10質量%の範囲で、かつIVa族元素とMgのモル比が酸化物換算で1:1〜1:10の範囲となる比率で配合、混合した後、焼成過程で窒素ガス雰囲気または不活性ガス雰囲気で焼成することにより、IVa族酸化物の少なくとも一部を窒化させることを特徴とする請求項1記載の窒化ケイ素材料の製造方法。
- マグネシウム源としてMgOもしくはMg(OH)2を用いることを特徴とする請求項2記載の窒化ケイ素材料の製造方法。
- 1500℃以上1750℃以下の温度で常圧焼成することを特徴とする請求項2または3記載の窒化ケイ素材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005117420A JP5111736B2 (ja) | 2005-04-14 | 2005-04-14 | 窒化ケイ素材料およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005117420A JP5111736B2 (ja) | 2005-04-14 | 2005-04-14 | 窒化ケイ素材料およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006290709A true JP2006290709A (ja) | 2006-10-26 |
JP5111736B2 JP5111736B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=37411683
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005117420A Expired - Fee Related JP5111736B2 (ja) | 2005-04-14 | 2005-04-14 | 窒化ケイ素材料およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5111736B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009128386A1 (ja) * | 2008-04-18 | 2009-10-22 | 株式会社東芝 | 耐摩耗性部材、耐摩耗性機器および耐摩耗性部材の製造方法 |
JP2016011218A (ja) * | 2014-06-27 | 2016-01-21 | 京セラ株式会社 | 窒化珪素質基板およびこれを備える回路基板ならびに電子装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63151681A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | 電気化学工業株式会社 | 窒化けい素焼結体の製造方法 |
JPS63166763A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-09 | 日本碍子株式会社 | 高硬度窒化珪素焼結体 |
JPS63182259A (ja) * | 1987-01-23 | 1988-07-27 | 日本碍子株式会社 | 均質窒化珪素焼結体の製造方法 |
JPH07149569A (ja) * | 1993-11-30 | 1995-06-13 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 耐磨耗性窒化珪素焼結体及びその製造方法 |
-
2005
- 2005-04-14 JP JP2005117420A patent/JP5111736B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63151681A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | 電気化学工業株式会社 | 窒化けい素焼結体の製造方法 |
JPS63166763A (ja) * | 1986-12-27 | 1988-07-09 | 日本碍子株式会社 | 高硬度窒化珪素焼結体 |
JPS63182259A (ja) * | 1987-01-23 | 1988-07-27 | 日本碍子株式会社 | 均質窒化珪素焼結体の製造方法 |
JPH07149569A (ja) * | 1993-11-30 | 1995-06-13 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 耐磨耗性窒化珪素焼結体及びその製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009128386A1 (ja) * | 2008-04-18 | 2009-10-22 | 株式会社東芝 | 耐摩耗性部材、耐摩耗性機器および耐摩耗性部材の製造方法 |
EP2266935A1 (en) * | 2008-04-18 | 2010-12-29 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Anti-wear member, anti-wear instrument and method of producing anti-wear member |
EP2266935A4 (en) * | 2008-04-18 | 2011-09-14 | Toshiba Kk | ANTI-WEAR ELEMENT, ANTI-WEAR INSTRUMENT AND METHOD FOR PRODUCING ANTI-WEAR ELEMENT |
US8377837B2 (en) | 2008-04-18 | 2013-02-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Wear resistant member, wear resistant device and method for manufacturing the wear resistant member |
JP5487099B2 (ja) * | 2008-04-18 | 2014-05-07 | 株式会社東芝 | 耐摩耗性部材、耐摩耗性機器および耐摩耗性部材の製造方法 |
JP2016011218A (ja) * | 2014-06-27 | 2016-01-21 | 京セラ株式会社 | 窒化珪素質基板およびこれを備える回路基板ならびに電子装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5111736B2 (ja) | 2013-01-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5527949B2 (ja) | 窒化珪素質焼結体 | |
JP5692845B2 (ja) | 高剛性セラミックス材料およびその製造方法 | |
JPS6256104B2 (ja) | ||
JP2829229B2 (ja) | 窒化ケイ素系セラミックス焼結体 | |
JP5111736B2 (ja) | 窒化ケイ素材料およびその製造方法 | |
JP2008069031A (ja) | 窒化珪素質焼結体およびその製造方法 | |
JP2005075659A (ja) | セラミックス焼結体とその製法および生体用材料 | |
JP2008050179A (ja) | 高密度のAlN−SiC−MeB複合焼結体を製造する方法 | |
JP4758617B2 (ja) | 高緻密質炭化ケイ素セラミックスおよびその製造方法 | |
JP2007320778A (ja) | 高緻密質炭化ケイ素セラミックスおよびその製造方法 | |
JP2008156142A (ja) | 窒化アルミニウム焼結体およびその製造方法 | |
JP2002053376A (ja) | 窒化ケイ素セラミックスの焼結方法 | |
JP2980342B2 (ja) | セラミックス焼結体 | |
JP2006347806A (ja) | 高剛性セラミックス材料およびその製造方法 | |
JPS63100055A (ja) | 高靭性を有するアルミナ基セラミックス製切削工具 | |
JP2010173877A (ja) | 窒化珪素焼結体 | |
JP5864631B2 (ja) | 窒化珪素質焼結体 | |
WO2022210369A1 (ja) | 窒化ケイ素焼結体の製造方法 | |
JP3044290B2 (ja) | 粒子分散型複合セラミックスの製造方法 | |
JP2009173508A (ja) | 窒化珪素質焼結体および切削工具ならびに切削加工装置、切削方法 | |
JPS60137873A (ja) | 窒化珪素質焼結体 | |
JPH06116045A (ja) | 窒化珪素焼結体及びその製造方法 | |
JPH01145380A (ja) | 窒化珪素質焼結体の製法 | |
JPH09268062A (ja) | 炭化ケイ素焼結体及びその製造方法 | |
JP2694368B2 (ja) | 窒化珪素質焼結体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20061019 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070703 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070815 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080401 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20100517 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100517 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110719 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110912 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120228 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120409 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121002 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121010 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |