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- 金属鞘および充填組成物からなるガス遮蔽した電気アーク溶接法においてガストラッキングが低下した溶接ビードを形成する芯つき電極であって、該充填組成物は、15−80重量%の金属酸化物スラグ形成剤、0.5−20重量%の少なくとも1つのフッ素含有化合物、および1−70重量%の金属脱酸素剤および/または金属合金化剤を含み、該金属酸化物スラグ形成剤の該重量%が該フッ素含有化合物のその重量%より大きく、該フッ素含有化合物が該充填組成物の重量%に基づいて少なくとも0.2重量%のフッ素をもたらし、そして該金属酸化物スラグ形成剤は酸化アルミニウム、酸化硼素、酸化カルシウム、酸化クロム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化カリウム、二酸化珪素、酸化ナトリウム、酸化錫、酸化バナジウム及び酸化ジルコンからなる群から選ばれることを特徴とする芯つき電極。
- 該金属酸化物の大部分が酸化チタンである請求項1の芯つき電極。
- 該フッ素含有化合物が、AlF3、BaF2、CaF2、Na3AlF6、K3AlF6、Na2SiF6、K2SiF6、MnF3、SrF2またはこれらの混合物を含む請求項1または2の芯つき電極。
- 該金属酸化物スラグ形成剤:該フッ素含有化合物の重量%比が1.1−12:1である請求項1〜3の何れか1つの項の芯つき電極。
- 該金属酸化物スラグ形成剤:該フッ素含有化合物の重量%比が5−12:1である請求項1〜4の何れか1つの項の芯つき電極。
- 該金属鞘が少なくとも80重量%の鉄を含む請求項1〜5の何れか1つの項の芯つき電極。
- 該充填組成物が、該芯つき電極の全重量の8−60重量%をしめる請求項1〜6の何れか1つの項の芯つき電極。
- 該充填組成物が、TiO 2 30−65%、TiO 2 以外のスラグ形成剤0−15%、フッ素含有化合物1−12%、鉄粉末0−12%、鋳鉄粉末0−8%、金属合金化剤(鉄粉末を除く)0−18%、金属脱酸素剤0−20%を含む請求項1〜7の何れか1つの項の芯つき電極。
- 該充填組成物が、TiO 2 10−35%、TiO 2 以外の金属酸化物15−45%、Al 2 O 3 0−10%、シリカ及び/又はシリカ化合物0−10%、フッ素含有化合物1.5−8%、FeB0−1%、FeMn0−15%、FeSi0−15%、FeTi0−15%、Mg0−6%、鋳鉄粉末0−5%、Fe粉末0−15%を含む請求項1〜8の何れか1つの項の芯つき電極。
- 該充填組成物が、ルチル12−30%、珪チタン酸カリウムおよび/または珪チタン酸ナトリウム24−35%、Al2O3 2−8%、シリカおよび/またはシリカ化合物1−8%、K2SiF6、Na2SiF6、Na3AlF6 、K 3 AlF 6 、NaF、KFおよび/またはMnF1.5−6%、FeB0.05−1%、FeMn1−10%、FeSi1−10%、FeTi1−10%、Mg1−5%、鋳鉄粉末0−4%、Fe粉末2−10%を含む請求項1〜9の何れか1つの項の芯つき電極。
- 該充填組成物が、ルチル14−30%、珪チタン酸カリウムおよび/または珪チタン酸ナトリウム25−32%、Al 2 O 3 4−8%、シリカおよび/またはシリカ化合物2−8%、K 2 SiF 6 、Na 2 SiF 6 、Na 3 AlF 6 および/またはK 3 AlF 6 1.5−6%、FeB0.05-0.6%、FeMn5−10%、FeSi5−10%、FeTi2−8%、Mg1−4%、鋳鉄粉末0−4%、Fe粉末4−10%を含む請求項1〜10の何れか1つの項の芯つき電極。
- 該充填組成物が、ルチル16−28%、珪チタン酸カリウムおよび/または珪チタン酸ナトリウム26−32%、Al 2 O 3 4−8%、シリカ2−6%、K 2 SiF 6 、Na 2 SiF 6 、Na 3 AlF 6 および/またはK 3 AlF 6 1.5−5%、FeB0.2−0.6%、FeMn5−10%、FeSi5−8%、FeTi2−6%、Mg1−3%、鋳鉄粉末1−4%、Fe粉末4−8%を含む請求項1〜11の何れか1つの項の芯つき電極。
- a)金属鞘および充填組成物からなり、該充填組成物が、15−80重量%の金属酸化物スラグ形成剤、0.5−20重量%の少なくとも1つのフッ素含有化合物、および1−70重量%の金属脱酸素剤および/または金属合金化剤を含み、該金属酸化物スラグ形成剤の該重量%が該フッ素含有化合物のその重量%より大きく、該フッ素含有化合物が該充填組成物の重量%に基づいて少なくとも0.2重量%のフッ素をもたらし、そして該金属酸化物スラグ形成剤が、酸化アルミニウム、酸化硼素、酸化カルシウム、酸化クロム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化カリウム、二酸化珪素、酸化ナトリウム、酸化錫、酸化バナジウム及び酸化ジルコンからなる群から選ばれる少なくとも2つの化合物からなる芯つき電極を用意し、そして
b)電流により該芯つき電極を少なくとも部分的に溶融して該芯つき電極の該溶融部分を素材上に溶着させる
ことを特徴とするガストラッキングが低下した溶融ビードを形成する方法。 - 遮蔽ガスを該素材に向かわせて素材上に溶着した該芯つき電極の該溶融部分を少なくとも部分的に遮蔽する請求項13の方法。
- 該遮蔽ガスがアルゴン、二酸化炭素またはこれらの混合物を含む請求項14の方法。
- 該金属酸化物の大部分が酸化チタンである請求項13〜15の何れか1つの項の方法。
- 該フッ素含有化合物が、AlF 3 、BaF 2 、CaF 2 、Na 3 AlF 6 、K 3 AlF 6 、Na 2 SiF 6 、K 2 SiF 6 、MnF 3 、SrF 2 またはこれらの混合物を含む請求項13〜16の何れか1つの項の方法。
- 該金属酸化物スラグ形成剤:該フッ素含有化合物の重量%比が1.1−12:1である請求項13〜17の何れか1つの項の方法。
- 該金属酸化物スラグ形成剤:該フッ素含有化合物の重量%比が5−12:1である請求項13〜18の何れか1つの項の方法。
- 該金属鞘が少なくとも80重量%の鉄を含む請求項13〜19の何れか1つの項の方法。
- 該充填組成物が、該芯つき電極の全重量の8-60重量%をしめる請求項13〜20の何れか1つの項の方法。
- 該充填組成物が、TiO 2 30−65%、、TiO 2 以外のスラグ形成剤0−15%、フッ素含有化合物1−12%、鉄粉末0−12%、鋳鉄粉末0−8%、金属合金化剤(鉄粉末を除く)0−18%、金属脱酸素剤0−20%を含む請求項13〜21の何れか1つの項の方法。
- 該充填組成物が、TiO 2 10−35%、TiO 2 以外の金属酸化物15−45%、Al 2 O 3 0−10%、シリカ及び/又はシリカ化合物0−10%、フッ素含有化合物1.5−8%、FeB0−1%、FeMn0−15%、FeSi0−15%、FeTi0−15%、Mg0−6%、鋳鉄粉末0−5%、Fe粉末0−15%を含む請求項13〜22の何れか1つの項の方法。
- 該充填組成物が、ルチル12−30%、珪チタン酸カリウムおよび/または珪チタン酸ナトリウム24−35%、Al 2 O 3 2−8%、シリカおよび/またはシリカ化合物1−8%、K 2 SiF 6 、Na 2 SiF 6 、Na 3 AlF 6 、K 3 AlF 6 、NaF、KFおよび/またはMnF1.5−6%、FeB0.05−1%、FeMn1−10%、FeSi1−10%、FeTi1−10%、Mg1−5%、鋳鉄粉末0−4%、Fe粉末2−10%を含む請求項13〜23の何れか1つの項の方法。
- 該充填組成物が、ルチル14−30%、珪チタン酸カリウムおよび/または珪チタン酸ナトリウム25−32%、Al 2 O 3 4−8%、シリカおよび/またはシリカ化合物2−8%、K 2 SiF 6 、Na 2 SiF 6 、Na 3 AlF 6 および/またはK 3 AlF 6 1.5−6%、FeB0.05−0.6%、FeMn5−10%、FeSi5−10%、FeTi2−8%、Mg1−4%、鋳鉄粉末0−4%、Fe粉末4−10%を含む請求項13〜24の何れか1つの項の方法。
- 該充填組成物が、ルチル16−28%、珪チタン酸カリウムおよび/または珪チタン酸ナトリウム26−32%、Al 2 O 3 4−8%、シリカ2-6%、K 2 SiF 6 、Na 2 SiF 6 、Na 3 AlF 6 および/またはK 3 AlF 6 1.5−5%、FeB0.2−0.6%、FeMn5−10%、FeSi5−8%、FeTi2−6%、Mg1−3%、鋳鉄粉末1−4%、Fe粉末4−8%を含む請求項13〜25の何れか1つの項の方法。
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