JP2006286324A5 - - Google Patents

Claims (18)

1. 放電空間を介して対向配置された一対の基板と、
   前記一対の基板の少なくとも一方の基板に形成された複数の電極を覆って基板上に形成された誘電体層と、
   前記誘電体層を覆って基板上に形成された保護膜と、
   前記放電空間に封入されたキセノンを含む放電ガスとを備え、
   前記誘電体層が酸化ケイ素を含む材料で形成され、
   前記保護膜が、電極間の放電で発生される特定の紫外線波長をカットする金属酸化物の組成比を備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
2. 前記保護膜が、少なくとも１４５ｎｍ〜１９０ｎｍの紫外線波長をカットすることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
3. 前記保護膜のカットオフ周波数が１９０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
4. 前記保護膜はＭｇＯおよびＣａＯの混合物を含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
5. 前記保護膜はＣａＯおよびＳｒＯの混合物を含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
6. 前記保護膜はＳｒＯおよびＢａＯの混合物を含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
7. 前記保護膜はＭｇＯおよびＳｒＯの混合物、または、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＳｒＯの混合物を含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
8. 前記保護膜はＣａＯおよびＢａＯの混合物、または、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの混合物を含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
9. 前記保護膜はＭｇＯおよびＢａＯの混合物、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＢａＯの混合物、ＭｇＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの混合物、または、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの混合物を含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
10. 前記保護膜の金属酸化物が（Ｍｇ、Ｃａ）Ｏ系であり、カットオフ周波数が１７０ｎｍ〜１９０ｎｍとなる組成比であることを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイパネル。
11. 前記保護膜の金属酸化物が（Ｃａ、Ｓｒ）Ｏ系であり、カットオフ周波数が１９０ｎｍ〜２４０ｎｍとなる組成比であることを特徴とする請求項５記載のプラズマディスプレイパネル。
12. 前記保護膜の金属酸化物が（Ｓｒ、Ｂａ）Ｏ系であり、カットオフ周波数が２４０ｎｍ〜２９０ｎｍとなる組成比であることを特徴とする請求項６記載のプラズマディスプレイパネル。
13. 前記保護膜の金属酸化物が（Ｍｇ、Ｓｒ）Ｏ系または（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ）Ｏ系であり、カットオフ周波数が１７０ｎｍ〜２４０ｎｍとなる組成比であることを特徴とする請求項７記載のプラズマディスプレイパネル。
14. 前記保護膜の金属酸化物が（Ｃａ、Ｂａ）Ｏ系または（Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）Ｏ系であり、カットオフ周波数が１９０ｎｍ〜２９０ｎｍとなる組成比であることを特徴とする請求項８記載のプラズマディスプレイパネル。
15. 前記保護膜の金属酸化物が（Ｍｇ、Ｂａ）Ｏ系、（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ）Ｏ系、（Ｍｇ、Ｓｒ、Ｂａ）Ｏ系または（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）Ｏ系であり、カットオフ周波数が１７０ｎｍ〜２９０ｎｍとなる組成比であることを特徴とする請求項９記載のプラズマディスプレイパネル。
16. 前記保護膜が、ＣａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯからなる群から選択された１つまたは２つ以上の混合物を主成分とする金属酸化物、またはその金属酸化物にＭｇＯを混合した金属酸化物で形成されてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
17. 前記保護膜が、（Ｃａ、Ｓｒ）Ｏ系、（Ｃａ、Ｂａ）Ｏ系、（Ｓｒ、Ｂａ）Ｏ系、（Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）Ｏ系からなる群から選択された１つまたは２つ以上の混合物を主成分とする金属酸化物、またはその金属酸化物にＭｇＯを混合した金属酸化物で形成されてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル。
18. 前記放電ガスのキセノン濃度が４％以上である請求項１から１７の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル。