JP2006278103A - 電子管用コーティングゲッター膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被ゲッター膜形成体22にZr,Ti,Taから選ばれた少なくとも一つの金属を含むゲッター膜25を被着してなる電子管用ゲッター膜の製造方法において、前記金属の水素化物粉末を被ゲッター膜形成体に被着し焼結させて前記金属のゲッター膜を形成する。
【選択図】図1
Description
エンドハットは電子レンジ用マグネトロンのカソード部分に取り付けられる。図5に示すように、マグネトロンは発振部11、アンテナ部12、ステム部13からなり、発振部を構成するアノードシリンダー14の内側にコイル状に巻かれたカソード15が管軸に沿って配置されている。またアノードシリンダー14の内壁からカソード15に向ってアノードシリンダー14の円周方向に等間隔に、複数でかつ偶数個のベイン16を設けられている。ベイン16の外側管部はアノードシリンダー14の内壁に固定され内側管部は遊端になっている。
ゲッター膜はゲッター能および剥離などを考慮すると10〜25μmの膜厚にすることが望ましく、被ゲッター形成体にくまなく均一に付着させるために電着によって塗膜を形成する。電着条件は焼結されるゲッター膜の性状に大きく影響する。そのためゲッター材粉末の粒度分布は平均粒度分布(d50)が3〜6μmであって、10μmを超える粒子は含まれないようにする。粒径は平均粒径を中心に狭い分布とするのが望ましい。
電着法によりゲッター材を塗膜する場合、被ゲッター膜形成体の平面部を電着液の液面に対して垂直な方向に配置する。ほとんどのゲッター材は面積の広い平面部に塗布されるので、従来のように平面部を液面に水平に配置すると、沈降速度の影響により大粒径の粒子が先に被ゲッター膜形成体の平面部表面に付着してしまい、リンスした際にほとんど洗い落とされるということが起きる。そこで被ゲッター膜形成体の広い面である平面が沈降物の影響を受けないように、電着液面に対して垂直な方向に配置すれば大粒径粒子の先行付着を回避することが可能になる。
本実施形態はチタン水素化物粉末をゲッター膜の出発材料として使用する。本材料の電着塗膜により、1×10−4Torr(1.3×10−2Pa)〜 1×10−7Torr(1.3×10−2Pa)、1000℃〜1100℃未満、10分間以上の処理で所望の被膜強度を持つ焼結チタンゲッター膜が得られる。これらの条件はジルコニウムやタンタルの水素化物を材料とする電着塗膜に対しても同様に適用することができる。
22−1:平面部
22‐2:リング部
22‐3:孔部
25:ゲッター膜
31:電着液
32:容器
33:電極棒
Claims (5)
- 被ゲッター膜形成体にZr,Ti,Taから選ばれた少なくとも一つの金属を含むゲッター膜を被着してなる電子管用ゲッター膜の製造方法において、前記金属の水素化物粉末を前記被ゲッター膜形成体に被着し焼結させて前記金属のゲッター膜を形成したことを特徴とする電子管用コーティングゲッター膜の製造方法。
- 前記水素化物粉末の平均粒度分布が3μmないし6μmでかつ最大粒径が実質的に10μm以下である請求項1記載の電子管用コーティングゲッター膜の製造方法。
- 前記被ゲッター膜形成体に前記水素化物を電着により被着することを特徴とする電子管用コーティングゲッター膜の製造方法。
- 被ゲッター膜形成体に前記金属の粉末と前記水素化物の粉末の混合粉末を被着して焼結するものである請求項1記載の電子管用コーティングゲッター膜の製造方法。
- 前記焼結が、真空度1×10−4Torr(1.3×10−2Pa)〜 1×10−7Torr(1.3×10−2Pa)、加熱温度1000℃以上でなされる請求項1記載の電子管用コーティングゲッター膜の製造方法。
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