JP2006276628A - プラスチックレンズの製造方法 - Google Patents
プラスチックレンズの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006276628A JP2006276628A JP2005097579A JP2005097579A JP2006276628A JP 2006276628 A JP2006276628 A JP 2006276628A JP 2005097579 A JP2005097579 A JP 2005097579A JP 2005097579 A JP2005097579 A JP 2005097579A JP 2006276628 A JP2006276628 A JP 2006276628A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hard coat
- plastic lens
- absolute humidity
- humidity
- primer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】 ハードコート層を形成するディッピング工程(S3)の絶対湿度が、ハードコート層を乾燥する仮焼成−2工程(S4)の絶対湿度以上であれば、点状白濁不良の発生を低減することができる。また、ディッピング工程(S3)と仮焼成−2工程(S4)の絶対湿度の差が1.5g/m3以下であれば、さらなる点状白濁不良の発生を低減することができるとともに、良質なプラスチックレンズの提供が可能になる。
【選択図】 図1
Description
ガラス型等で注入成形されたプラスチックレンズ基体が工程に投入される。表面が清浄にされたプラスチックレンズ基体は、ステップ(以降、Sと表記する)1でプライマ処理される。このプライマ処理は、プラスチックレンズ基体の表面と後述するハードコート膜との密着性を得るため及びプラスチックレンズの耐衝撃性強度を向上させるために、プライマ層を形成するプライマ処理工程である。プライマ処理は、プライマ液にプラスチックレンズ基体を浸漬し、所定の速度で引き上げてプラスチックレンズの表面にプライマ層を形成するディッピング工程である。
(比較例1)
プライマ処理工程(S1) ;25℃、絶対湿度10g/m3
仮焼成−1工程(S2) ;70℃、絶対湿度10g/m3
ハードコート処理工程(S3) ;25℃、絶対湿度10g/m3
仮焼成−2工程(S4) ;85℃、絶対湿度10g/m3
作業環境(室内) ;25℃、絶対湿度10g/m3
作業環境としての25℃、絶対湿度10g/m3は、相対湿度としては約43%に相当する。この相対湿度は、梅雨の時期を前提に設定した。また、S1〜S4の各工程では、同じ絶対湿度を有する空気を使うことを前提にして設定した。
点状白濁不良が発見される工程が、前述したS4の「仮焼成−2」の工程であることから、プライマ処理工程(S1)と仮焼成−1工程(S2)及びハードコート処理工程(S3)の湿度を固定して、仮焼成−2工程(S4)の湿度水準を変化させて実験した。
プライマ処理工程(S1) ;25℃、絶対湿度10g/m3
仮焼成−1工程(S2) ;70℃、絶対湿度10g/m3
ハードコート処理工程(S3) ;25℃、絶対湿度10g/m3
<湿度条件を変化>
(条件1a)仮焼成−2工程(S4) ;85℃、絶対湿度10g/m3
(条件2b)仮焼成−2工程(S4) ;85℃、絶対湿度11.5g/m3
(条件2c)仮焼成−2工程(S4) ;85℃、絶対湿度12.5g/m3
(条件1a);点状白濁不良発生率=0%
(条件1b);点状白濁不良発生率=5%
(条件1c);点状白濁不良発生率=40%
であった。
また、よりよい作業環境を求めるために、プライマ処理工程(S1)とハードコート処理工程(S3)及び仮焼成−2工程(S4)の湿度を固定して、仮焼成−1工程(S2)の湿度水準を変化させて実験した。
<湿度条件を固定>
プライマ処理工程(S1) ;25℃、絶対湿度10g/m3
ハードコート処理工程(S3) ;25℃、絶対湿度10g/m3
仮焼成−2工程(S4) ;85℃、絶対湿度10g/m3
<湿度条件を変化>
(条件2a)仮焼成−1工程(S2) ;70℃、絶対湿度12.0g/m3
(条件2b)仮焼成−1工程(S2) ;70℃、絶対湿度11.0g/m3
(条件2c)仮焼成−1工程(S2) ;70℃、絶対湿度10.0g/m3
(条件2a);点状白濁不良発生率=0%
(条件2b);点状白濁不良発生率=0%
(条件2c);点状白濁不良発生率=0%
であった。
Claims (2)
- プラスチックレンズ基体にプライマ層を形成するプライマ処理工程と、
前記プライマ層を乾燥する第1の仮焼成工程と、
前記プライマ層の表面にハードコート層を形成するハードコート処理工程と、
前記ハードコート層を乾燥する第2の仮焼成工程と、を備えたプラスチックレンズの製造方法において、
前記ハードコート処理工程の絶対湿度が前記第2の仮焼成工程の絶対湿度以上であることを特徴とするプラスチックレンズの製造方法。 - 請求項1に記載のプラスチックレンズの製造方法において、
前記ハードコート処理工程と前記第2の仮焼成工程の絶対湿度の差が1.5g/m3以下であることを特徴とするプラスチックレンズの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005097579A JP2006276628A (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | プラスチックレンズの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005097579A JP2006276628A (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | プラスチックレンズの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006276628A true JP2006276628A (ja) | 2006-10-12 |
JP2006276628A5 JP2006276628A5 (ja) | 2008-03-13 |
Family
ID=37211437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005097579A Withdrawn JP2006276628A (ja) | 2005-03-30 | 2005-03-30 | プラスチックレンズの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006276628A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002131504A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-09 | Asahi Glass Co Ltd | ハードコート層を有するプラスチックレンズおよびその製造方法 |
JP2002131703A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-09 | Asahi Glass Co Ltd | ハードコート層を有するプラスチックレンズおよびその製造方法 |
JP2003230857A (ja) * | 2002-02-08 | 2003-08-19 | Seiko Epson Corp | コーティング装置及び処理液体の揮発抑制方法 |
JP2004061879A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Ito Kogaku Kogyo Kk | 表面保護膜を備えた光学要素 |
-
2005
- 2005-03-30 JP JP2005097579A patent/JP2006276628A/ja not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002131504A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-09 | Asahi Glass Co Ltd | ハードコート層を有するプラスチックレンズおよびその製造方法 |
JP2002131703A (ja) * | 2000-10-24 | 2002-05-09 | Asahi Glass Co Ltd | ハードコート層を有するプラスチックレンズおよびその製造方法 |
JP2003230857A (ja) * | 2002-02-08 | 2003-08-19 | Seiko Epson Corp | コーティング装置及び処理液体の揮発抑制方法 |
JP2004061879A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Ito Kogaku Kogyo Kk | 表面保護膜を備えた光学要素 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2010177693A5 (ja) | ||
US20130228195A1 (en) | System and method for cleaning panel | |
JP2006192426A (ja) | マスク洗浄方法 | |
CN108147400B (zh) | 一种石墨烯薄膜的转移方法及装置 | |
JP5323661B2 (ja) | 枚葉式の基板液処理装置における循環ラインの液交換方法 | |
JP2011230430A (ja) | テンプレート補修方法、パターン形成方法及びテンプレート補修装置 | |
CN113955946A (zh) | 一种新型纹理效果的制作方法 | |
WO2019173669A3 (en) | Method for minimizing dent defects in chemically strengthened glass | |
JP2006276628A (ja) | プラスチックレンズの製造方法 | |
JP5191670B2 (ja) | セルフクリーニングアルミ建材の親水性付与方法及びセルフクリーニングアルミ建材 | |
KR101032979B1 (ko) | 합성수지패널의 인쇄방법 | |
CN105892123A (zh) | 柔性液晶显示器的底色均匀处理方法 | |
KR20160042382A (ko) | 수지 필름층의 박리 방법 및 박막 소자 디바이스의 제조 방법 | |
CN110491993B (zh) | 一种pi基板的制备方法及其显示装置 | |
JP2007167749A (ja) | 塗膜の製造方法 | |
JP5208618B2 (ja) | 回路基板の端面被覆装置 | |
JP2013112892A (ja) | ナノ構造体作製用型体の製造方法、製造装置、ナノ構造体作製用型体及びナノ構造体 | |
JP2009193022A (ja) | プラスチックレンズの処理方法及び反射防止膜の製造方法 | |
JP4330525B2 (ja) | 大型ペリクルの成膜方法 | |
TWM537205U (zh) | 液位控制系統 | |
JP2007014904A (ja) | 塗装方法 | |
JP6440541B2 (ja) | ガラスのアルカリ溶出防止方法 | |
JP3070298B2 (ja) | アルミニウム材料の塗装方法 | |
JPH06230325A (ja) | 光学部品の洗浄方法 | |
CN110923658A (zh) | 一种镀pvd材料表面处理液及蚀刻工艺 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070404 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080129 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100817 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20101014 |