JP2006276186A - 再帰反射シートおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 支持体の少なくとも一方の面に担持層を有し、この担持層に単粒子膜状態となるように透明粒子を一部埋め込んで複数配設された透明粒子膜を有し、この透明粒子膜との間に気体層を形成するように接合部材を介して透明保護フィルムを備え、上記の透明粒子は担持層側の半体表面に光反射膜を有し、透明粒子膜における透明粒子の面積充填率を80%以上とし、接合部材は光反射膜を介することなく透明粒子および/または担持層に直に接合した再帰反射シートとする。
【選択図】 図1
Description
本発明の他の態様として、前記透明粒子膜との間に気体層を形成するように接合部材を介して前記透明粒子膜上に配設された透明保護フィルムを備え、前記接合部材は光反射膜を介することなく前記透明粒子および/または前記担持層に接合しているような構成とした。
本発明の他の態様として、前記接合部材は、前記気体層に複数の小区画を形成するような連続あるいは不連続の線状パターンであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記透明粒子膜における透明粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは二軸収縮型の熱収縮性フィルムであり、前記転写シートにおける粒子の配列は最密六方格子配列であるような構成とした。
本発明の他の態様として、前記熱収縮性フィルムは一軸収縮型の熱収縮性フィルムであり、前記転写シートにおける粒子の配列は単純立方格子配列であるような構成とした。
[再帰反射シート]
図1は本発明の再帰反射シートの一例を示す平面図であり、図2は図1に示される再帰反射シートのA−A線における拡大縦断面図である。図1および図2において、本発明の再帰反射シート1は、支持体2と、この支持体2の一方の面に配設された担持層3と、担持層3に一部が埋め込まれるように配設された複数の透明粒子5と、接合部材8を介して配設されている透明保護フィルム9とを備えている。
また、担持層3に埋め込まれる透明粒子5の深さは、その平均粒径の20〜50%、好ましくは30〜50%の範囲であり、透明粒子5の半分以上が担持層3から露出していることが好ましい。担持層3への透明粒子5の埋め込み深さが平均粒径の20%未満であると、透明粒子5の脱落、担持層3と接合部材8との接着不良等が生じるおそれがあり好ましくない。また、担持層3への透明粒子5の埋め込み深さが平均粒径の50%を超えると、反射効率が低下して好ましくない。尚、本発明において、透明粒子5の平均粒径は、JIS Z2500に準拠して測定するものとする。
尚、本発明では、透明粒子膜4が支持体2の全面に亘って形成されたものでなくてもよく、例えば、図3および図4に示すような所望のパターン(図3に斜線で示されるパターン)で透明粒子膜4が形成されたものであってもよい。この場合の透明粒子5の面積充填率は、透明粒子膜4が存在しない部位(担持層3が露出している部位)は考慮せず、パターンを構成する透明粒子膜4内での透明粒子5の面積充填率となる。
本発明の再帰反射シート1を構成する支持体2は、担持層3から上層の構造体を支持可能なものであれば特に制限はなく、例えば、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂等の樹脂基板、ガラス基板等を使用することができ、厚みは10μm〜5mm、好ましくは50μm〜1mmの範囲で適宜設定することができる。
本発明の再帰反射シート1を構成する透明粒子5は、レンズとして機能する高屈折率の透明粒子、例えば、フルオレン系、シラン系、チオール系、スルフィド系等の樹脂粒子、ガラス粒子、樹脂とガラスとを組み合わせた複合粒子等を使用することができる。透明粒子5の平均粒径は、20〜200μm、好ましくは40〜120μmの範囲内で適宜設定することができる。尚、本発明において透明とは、可視光領域における光透過率が70%以上であることを意味する。
上記のような接合部材8、透明保護フィルム9で形成された小区画の気体層7内の気体は、通常、空気であるが、窒素やアルゴン等の不活性ガス等であってもよい。
また、本発明の再帰反射シートでは、接合部材8で区画される気体層7の形状は、例示の六角形状(蜂の巣状パターン)に限定されるものではなく、任意に設定することができる。
さらに、本発明の再帰反射シートは、接合部材8と透明保護フィルム9を備えないものであってもよい。この場合も、透明粒子膜における透明粒子の面積充填率が80%以上なので、入射光に対して輝度低下の少ない再帰反射光が得られ、視認性に優れたものである。
本発明の再帰反射シートの製造方法では、基本的に、原版と熱収縮性フィルムを使用して、透明粒子の単粒子膜を備えた転写シートを作製し、次に、透明粒子に光反射膜を形成した後、転写シートの透明粒子のみを支持体の担持層に転写するような工程からなる。また、この転写工程後に、接合部材を介して透明保護フィルムを配設するような工程を有する場合もある。
図5および図6は、上述の再帰反射シート1を例とした本発明の再帰反射シートの製造方法の一実施形態を説明するための工程図である。
本実施形態では、複数の凹部23を基体22の一方の面に備えた原版21を使用する。まず、透明粒子5を原版21の各凹部23に1個づつ載置する(図5(A))。各凹部23内への透明粒子5の載置は、乾燥状態にある透明粒子5をスキージ25を用いて原版21上に塗布する方法、ブレードコート方法、例えば、乾燥状態にある透明粒子5を原版21上に散布し、ブレードにより不要な透明粒子5を除去する方法、透明粒子5を分散させた分散液を原版21上に塗布し、ブレードにより不要な透明粒子5を除去する方法等を用いることができる。スキージやブレードと原版21とのギャップは、透明粒子5の平均粒子径未満に設定することが好ましい。また、凹部23に予め粘着層を形成しており、透明粒子5を凹部23内に粘着保持するようにしてもよい。
また、基体への凹部の形成は、エレクトロフォーミング法、サンドブラスト法、エキシマレーザー法、イオンビーム法等の乾式法、エッチング液浸漬法等の湿式法により行なうことができる。
次いで、熱収縮性フィルム32′を加熱して熱収縮させて基材32を形成するとともに、粘着層33上の単粒子膜状態にある透明粒子5を接近させて転写シート31を作製する(図5(D))。この転写シート31では、単粒子膜状態にある透明粒子5の面積充填率は80%以上となる。また、転写シート31では、透明粒子5が粘着層33に埋め込まれたように保持されるが、この透明粒子5の埋め込み深さは、透明粒子5の平均粒径の半分未満の範囲となるようにする。
本発明における熱収縮性フィルム32′の熱収縮は、上述のような離型層36,38を備えた1組の基板35,37を使用することなく、オーブン等の中に載置した状態で所定の昇温速度、到達温度で加熱するような方法を採用してもよい。
尚、接合部材8と透明保護フィルム9を備えていない再帰反射フィルムの場合、この工程までで製造が完了する。
尚、図10に示される例では、貫通孔43は、基体42の両面での孔径が等しいものであるが、これに限定されるものではない。すなわち、貫通孔43の最小孔径が透明粒子5の平均粒径と上記関係を満足すればよく、また、透明粒子5が供給される面の孔径のみが、透明粒子5の平均粒径と上記関係を満足する場合には、反対面の孔径が同等以上の大きさであれば問題はない。また、貫通孔43の内壁面形状には特に制限はない。
粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤等を使用することができる。
ゴム系粘着剤は、エラストマーをベースポリマーとし、ガラス転移温度が低く、高温までゴム域の広いポリマー(ゴム状物質)である。エラストマーとしては、例えば、天然ゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、ブチルゴム、ポリイソブチレン、シリコーンゴム、ポリビニルイソブチルエーテル、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、グラフトゴム、再生ゴム、ポリビニルエーテル、アタクティックポリプロピレン、ポリエステル、ポリウレタン、ブタジエンラバー等を挙げることができる。また、粘着剤の構成成分として、上記のエラストマーの他に、粘着付与剤、軟化剤、老化防止剤、充填剤等を含有してもよい。
図11(A)は、原版21,41を用いて熱収縮性フィルム32′の粘着層33上に転写(載置)された透明粒子5の配列が、ピッチPを有する六方格子配列である場合を示す図である。そして、熱収縮性フィルム32′として、一軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図11(B)に示されるように、熱収縮性フィルム32′が一軸収縮(矢印a方向への収縮)を生じ、この収縮方向での透明粒子5の接近が生じることにより、作製された転写シート31では、透明粒子5が面心立方格子配列をとる。また、熱収縮性フィルム32′として、二軸収縮型の熱収縮性フィルムを使用した場合、図11(C)に示されるように、熱収縮性フィルム32′が二軸収縮(矢印a方向と矢印b方向への収縮)を生じ、直交する二方向での粒子接近が生じることにより、作製された転写シート31では、透明粒子5が最密六方格子配列をとる。
図13及び図14は、本発明の再帰反射シートの製造方法の他の実施形態を説明するための工程図である。
本発明では、まず、熱収縮性フィルム52′上に光熱変換層53、発泡層54、粘着層55をこの順に積層する(図13(A))。
熱収縮性フィルム52′としては、上述の実施形態の熱収縮性フィルム32′として挙げたものを使用することができる。
使用する発泡剤としては、例えば、アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル、ジニトロソペンタメチレンテトラミン、N,N′ジニトロソ−N,N′ジメチルテレフタルアミド、P−トルエンスルホニルヒドラジド、ヒドラゾルカルボンアミド、P−トルエンスルホニルアジド、アセトンバーP−スルホニルヒドラゾン等の有機系発泡剤、重炭酸ナトリウム、炭酸アンモニウム、重炭酸アンモニウム等の無機系発泡剤、内部に低温で揮発する溶媒を含有した熱膨張性マイクロカプセル等が挙げられる。
発泡層54における発泡剤の含有量は、有機系発泡剤や無機系発泡剤の場合、樹脂バインダー100重量部に対して5〜100重量部の範囲で設定することが好ましい。また、発泡剤が熱膨張性マイクロカプセルの場合、樹脂バインダー100重量部に対して5〜80重量部の範囲で設定することが好ましい。発泡剤の含有量が上記の範囲未満であると、発泡層が充分に発泡せず、また、上記の範囲を超えると、発泡層の破裂を生じ、正確な突出形状が形成できなくなり好ましくない。
尚、発泡層54には、熱伝導性に優れた物質、例えば、銅、アルミニウム、酸化スズ、二硫化モリブデン等の金属、金属酸化物、あるいは、金属硫化物、カーボンブラック等の炭素質物質等を含有させてもよい。
転写シート51と担持層3の対向間隔は、後述のように、発泡層54の発泡による盛り上がりによって突出した透明粒子5が、担持層3に当接し得る間隔であり、使用する転写シートに応じて、例えば、10〜110μmの範囲で設定することができる。
所望のパターン部位50に供給する光としてはレーザー光を用い、供給された光は光熱変換層53により熱に変換される。また、所望のパターン部位50に熱を直接供給する場合には、サーマルヘッド、赤外線照射装置等を用いることができる。
尚、接合部材8と透明保護フィルム9を備えていない本発明の再帰反射フィルムの場合、この工程までで製造が完了する。
次いで、接合部材8を介して透明保護フィルム9を、透明粒子膜4に対して気体層7を形成するように配設して、本発明の再帰反射フィルム1が得られる。
また、転写シートとして、光熱変換層53を備えていないもの、光熱変換層53と発泡層54の代わりに光熱変換発泡層を備えるもの、光熱変換層53と発泡層54と粘着層55の代わりに光熱変換発泡性粘着層を備えているもの、基材52の裏面に光熱変換層を備えるもの等を使用することもできる。
光熱変換発泡性粘着層における発泡剤の含有量は、粘着性を有する樹脂バインダー100重量部に対して5〜100重量部の範囲、光熱変換性物質の含有量は、粘着性を有する樹脂バインダー100重量部に対して0.1〜5重量部の範囲でそれぞれ設定することが好ましい。このような光熱変換発泡性粘着層の厚みは、使用する発泡剤や光熱変換性物質、これらの含有量、粒子の大きさ等を考慮して、発泡時に粒子の大きさよりも高く突出可能なように設定することが望ましく、例えば、1〜150μmの範囲で設定することができる。
上述の再帰反射シートと、その製造方法の実施形態は例示であり、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではない。
[実施例1]
<原版の作製>
厚さ3mmのほう珪酸ガラス板(縦1m×横1m)を準備し、このほう珪酸ガラス板上に真空蒸着法によりクロム薄膜(厚さ1000Å)を成膜して基体とした。
次に、クロム薄膜上にフォトレジスト(日本ゼオン(株)製 ZPP1800)を塗布した。その後、基体の両面を所定のフォトマスクを介して露光し、現像を行なって、厚さ2μmのレジストパターンを形成した。露光は超高圧水銀ランプを光源とし、照射量は365nmで150mJ/cm2とした。また、現像は現像液(日本ゼオン(株)製 ZTMA−U20)を使用して行なった。
次に、上記のエッチングマスクを備えた基体をフッ化水素酸系のエッチング液に浸漬し、エッチングすることによって貫通孔を形成し、その後、水洗し、レジスト剥離剤を用いてレジストパターンを除去し、更に、酸化セリウム系のエッチング液を用いてクロム薄膜を除去して、原版を得た。この原版は、図10に示されるような構造であり、両面の孔径が80μmである貫通孔(中央部の内径は75μm)を図7に示すような六方最密格子配列(ピッチ130μm)で複数備えるものであった。
熱収縮性フィルムとして、厚さ30μmの二軸収縮型フィルム(三菱樹脂(株)製 ヒシペットPS−40S)を準備した。このフィルムの一方の面に、アクリル系粘着剤(東亜合成化学(株)製 アロンS−1601)をブレードコート法により塗布して、厚み1μmの粘着層を形成した。
次に、上記の粘着層上に上述のように作製した原版を設置し、篩にかけた平均粒径70μm(粒径のバラツキ:±5μm)の高屈折率ガラスビーズ(旭テクノグラス(株)製 WGB254)をスキージを用いて塗布した。この際、原版とスキージとのギャップは20μmとした。これにより、原版Aの各貫通孔の開口部に高屈折率ガラスビーズが1個づつ載置された。その後、原版を取り除いて、粘着層上に高屈折率ガラスビーズの単粒子膜(六方格子配列)を形成した。
次いで、この転写シートの高屈折率ガラスビーズ側から真空蒸着法によりアルミニウム薄膜(厚み:100nm)を成膜し、高屈折率ガラスビーズの半体表面に光反射膜を形成した。この光反射膜は、高屈折率ガラスビーズ間の粘着層の微細な部位にも成膜された。
支持体として厚み50μmの耐熱フィルム(パナック(株)製 50−T60)を準備し、この耐熱フィルム上にアクリル系粘着剤(東亜合成化学(株)製 アロンS−3403)をブレードコート法により塗布して、厚み35μmの担持層を形成した。
次いで、この担持層に対し、上述のように作製した転写シートを、高屈折率ガラスビーズを接触させるように貼り合わせ、その後、転写シートの基材と粘着層を剥離した。これにより、高屈折率ガラスビーズが、光反射膜(アルミニウム薄膜)が成膜された半体部分を担持層に埋設した状態で転写配設され、最密六方格子配列の高屈折率ガラスビーズ膜(面積充填率:100%)が形成された。尚、高屈折率ガラスビーズが存在しない粘着層上に成膜された光反射膜は、担持層に転写されなかった。
以上により、本発明の再帰反射シートを作製した。
(透明保護フィルムの脱落試験)
JIS Z9117「保安用反射シートおよびテープ」に準じて、サンシャイン
カーボン式促進耐候試験を行った後、再帰反射シートからの保護シートの脱落、
あるいは剥がれの有無を観察する。
実施例1と同様にして、両面の孔径が80μmである貫通孔(中央部の内径は75μm)を図8に示すような単純立方格子配列(ピッチ130μm)で複数備える原版を作製し、この原版を使用して、実施例1と同様にして、本発明の再帰反射シートを作製した。
この再帰反射シートでは、高屈折率ガラスビーズが、光反射膜(アルミニウム薄膜)が成膜された半体部分を埋設した状態で担持層に担持され、面積充填率は86%であった。また、高屈折率ガラスビーズが存在しない担持層上には、光反射膜は存在しないものであった。
また、上記の再帰反射シートについて、実施例1と同様に透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、透明保護フィルムの脱落はなく、接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ち発生もなかった。
基材として、厚さ50μmの耐熱フィルム(パナック(株)製 50−T60)を準備した。このフィルムの一方の面に、アクリル系粘着剤(東亜合成化学(株)製 アロンS−1601)をブレードコート法により塗布して、厚み1μmの粘着層を形成した。
次に、上記の粘着層上に、篩にかけた平均粒径70μm(粒径のバラツキ:±5μm)の高屈折率ガラスビーズ(旭テクノグラス(株)製 WGB254)を散布した後、ブレードコート法を用いて余分な高屈折率ガラスビーズを除去し、単粒子膜状態の高屈折率ガラスビーズ膜を形成して転写シートとした。この際、粘着層とブレードとのギャップを75μmに設定した。このように形成された高屈折率ガラスビーズ膜の面積充填率は70%であった。
次いで、支持体として厚み50μmの耐熱フィルム(パナック(株)製 50−T60)を準備し、この耐熱フィルム上にアクリル系粘着剤(東亜合成化学(株)製 アロンS−3403)をブレードコート法により塗布して、厚み35μmの担持層を形成した。
次に、この担持層に対し、上記の転写シートを、高屈折率ガラスビーズを接触させるように貼り合わせ、その後、転写シートの基材と粘着層を剥離した。これにより、高屈折率ガラスビーズが、光反射膜(アルミニウム薄膜)が成膜された半体部分を担持層に埋設した状態で転写配設され、高屈折率ガラスビーズ膜(面積充填率:70%)が形成された。ただし、高屈折率ガラスビーズが存在しない粘着層上に成膜された光反射膜は、担持層に転写されなかった。
この再帰反射シートについて、実施例1と同様にして再帰反射性能を測定した結果、250cd/lx・m2であった。
また、上記の再帰反射シートについて、実施例1と同様に透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、透明保護フィルムの脱落はなく、接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ち発生はなかった。
基材として、厚さ50μmの耐熱フィルム(パナック(株)製 50−T60)を準備した。このフィルムの一方の面に、アクリル系粘着剤(東亜合成化学(株)製 アロンS−1601)をバーコート法により塗布して、厚み35μmの粘着層を形成した。
次に、上記の粘着層上に、篩にかけた平均粒径70μm(粒径のバラツキ:±5μm)の高屈折率ガラスビーズ(旭テクノグラス(株)製 WGB254)を散布した後、ブレードコート法を用いて余分な高屈折率ガラスビーズを除去し、単粒子膜状態の高屈折率ガラスビーズ膜を形成して転写シートとした。この際、粘着層とブレードとのギャップを75μmに設定した。このように形成された高屈折率ガラスビーズ膜の面積充填率は72%であった。
次いで、支持体として厚み50μmの耐熱フィルム(パナック(株)製 50−T60)を準備し、この耐熱フィルム上にアクリル系粘着剤(東亜合成化学(株)製 アロンS−3403)をブレードコート法により塗布して、厚み35μmの担持層を形成した。
次いで、実施例1と同様に透明保護フィルムを配設し、比較としての再帰反射シートを作製した。
また、上記の再帰反射シートについて、実施例1と同様に透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、高屈折率ガラスビーズが存在しない領域の光反射層に固着した接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ちがみられ、透明保護フィルムの脱落のおそれがあることが確認された。
<原版の作製>
実施例1と同様にして原版を作製した。但し、この原版は、両面の孔径が80μmである貫通孔(中央部の内径は75μm)を図7に示すような六方最密格子配列(ピッチ130μm)で複数備えたパターン(10mm×10mmの正方形状のパターン)が、1mm幅の帯状の格子領域で区画されて配置されたものとした。
熱収縮性フィルムとして、厚さ30μmの二軸収縮型フィルム(三菱樹脂(株)製 ヒシペットPS−40S)を準備した。このフィルムの一方の面に、アクリル系粘着剤(東亜合成化学(株)製 アロンS−1601)をブレードコート法により塗布して、厚み1μmの粘着層を形成した。
次に、上記の粘着層上に、上記のように作製した原版を設置し、実施例1と同様にして、粘着層上に高屈折率ガラスビーズが最密六方格子状態で配列した単粒子膜(面積充填率:100%)を、5mm×5mmの正方形状のパターンで備えた転写シートを作製した。
次いで、実施例1と同様して、高屈折率ガラスビーズの半体表面に光反射膜を形成した。この光反射膜は、高屈折率ガラスビーズ間の粘着層上の微細な部位にも成膜されるとともに、高屈折率ガラスビーズが存在しない0.5mm幅の帯状格子領域の粘着層にも成膜された。
実施例1と同様に、支持体上に担持層を形成し、この担持層に対し、上述のように作製した転写シートを、高屈折率ガラスビーズを接触させるように貼り合わせ、その後、転写シートの基材と粘着層を剥離した。これにより、高屈折率ガラスビーズが、光反射膜(アルミニウム薄膜)が成膜された半体部分を担持層に埋設した状態で転写配設され、最密六方格子配列の高屈折率ガラスビーズ膜(面積充填率:100%)が形成された。尚、高屈折率ガラスビーズが存在しない粘着層上に成膜された光反射膜は、担持層に転写されなかった。
この再帰反射シートについて、実施例1と同様にして再帰反射性能を測定した結果、300cd/lx・m2であった。
また、上記の再帰反射シートについて、実施例1と同様に透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、透明保護フィルムの脱落、接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ちは発生しなかった。
転写シートの作製工程にて粘着層の厚みを35μmとした他は、実施例3と同様にして、転写シートを作製した。次いで、実施例1と同様して、高屈折率ガラスビーズの半体表面に光反射膜を形成した。この光反射膜は、高屈折率ガラスビーズ間の粘着層上の微細な部位にも成膜されるとともに、高屈折率ガラスビーズが存在しない0.5mm幅の帯状格子領域の粘着層にも成膜された。
次いで、実施例1と同様に透明保護フィルムを配設し、本発明の再帰反射シートを作製した。
しかし、上記の再帰反射シートについて、実施例1と同様に透明保護フィルムの脱落試験を行なったところ、高屈折率ガラスビーズが存在しない領域の光反射層に固着した接続部材の浮きによる透明保護フィルムの波打ちがみられ、透明保護フィルムの脱落のおそれがあることが確認された。
2…支持体
3…担持層
4…透明粒子膜
5…透明粒子
6…光反射膜
7…気体層
8…接合部材
9…透明保護フィルム
21,41…原版
23…凹部
43…貫通孔
31,51…転写シート
32′,52′…熱収縮性フィルム
32,52…基材
33,55…粘着層
53…光熱変換層
54…発泡層
Claims (21)
- 支持体と、該支持体の少なくとも一方の面に配設された担持層と、該担持層に一部が埋め込まれた透明粒子が単粒子膜状態となるように複数配設されてなる透明粒子膜とを備え、前記透明粒子は前記担持層側の半体表面に光反射膜を有し、前記透明粒子膜における透明粒子の面積充填率は80%以上であることを特徴とする再帰反射シート。
- 前記透明粒子膜は所望のパターンであり、該パターンの前記透明粒子膜内での前記透明粒子の面積充填率は80%以上であることを特徴とする請求項1に記載の再帰反射シート。
- 前記透明粒子膜との間に気体層を形成するように接合部材を介して前記透明粒子膜上に配設された透明保護フィルムを備え、前記接合部材は光反射膜を介することなく前記透明粒子および/または前記担持層に接合していることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の再帰反射シート。
- 前記接合部材は、前記気体層に複数の小区画を形成するような連続あるいは不連続の線状パターンであることを特徴とする請求項3に記載の再帰反射シート。
- 前記透明粒子膜における透明粒子の配列は、最密六方格子配列または単純立方格子配列であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の再帰反射シート。
- 基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に透明粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、前記原版に載置された透明粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、
支持体に担持層を形成し、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに前記担持層に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を形成する工程と、を備えることを特徴とする再帰反射シートの製造方法。 - 前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えることを特徴とする請求項6に記載の再帰反射シートの製造方法。
- 前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項6または請求項7に記載の再帰反射シートの製造方法。
- 前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えることを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれかに記載の再帰反射シートの製造方法。
- 熱収縮性フィルムの一方の面に粘着層を形成し、基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に透明粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に透明粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、
支持体に担持層を形成し、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに前記担持層に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を形成する工程と、を備えることを特徴とする再帰反射シートの製造方法。 - 前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えることを特徴とする請求項10に記載の再帰反射シートの製造方法。
- 前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項10または請求項11に記載の再帰反射シートの製造方法。
- 基体と、該基体の一方の面に配列された複数の凹部とを有する原版の各凹部に透明粒子を載置する工程と、
熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
前記原版に載置された透明粒子を前記粘着層上に単粒子膜状態で転写する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、
前記転写シートの透明粒子配設面を前記担持層に間隔を設けて対向させ、前記転写シートの基材の透明粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および/または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を担持層に突出させ、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに担持層上に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を所望のパターンで形成する工程と、を備えることを特徴とする再帰反射シートの製造方法。 - 前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えることを特徴とする請求項13に記載の再帰反射シートの製造方法。
- 前記原版は、前記凹部の開口径D(μm)、各凹部の配列ピッチP(μm)、前記凹部の深さS(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦S≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項13または請求項14に記載の再帰反射シートの製造方法。
- 前記原版は、前記凹部内に粘着層を備えることを特徴とする請求項13乃至請求項15のいずれかに記載の再帰反射シートの製造方法。
- 熱収縮性フィルムの一方の面に、発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換層と発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡層と粘着層をこの順に形成して積層し、あるいは、光熱変換発泡性を有する粘着層を形成する工程と、
基体に配列された複数の貫通孔を有する原版を前記粘着層上に配置し、該原版の貫通孔内に透明粒子を載置し、その後、前記原版を取り外して前記粘着層上に透明粒子を単粒子膜状態で配設する工程と、
前記熱収縮性フィルムを加熱して熱収縮させて基材を形成するとともに、前記粘着層上の透明粒子を接近させて、前記粘着層に前記透明粒子が平均粒径の半分未満の深さで埋め込まれた状態の転写シートを作製する工程と、
前記転写シートの粘着層上に、前記透明粒子の半体表面を被覆するように光反射膜を形成する工程と、
前記転写シートの透明粒子配設面を前記担持層に間隔を設けて対向させ、前記転写シートの基材の透明粒子配設面と反対側の面から所望の部位に光および/または熱を供給して、当該部位の発泡層、あるいは、光熱変換発泡層、あるいは、光熱変換発泡性の粘着層の発泡により粒子を担持層に突出させ、前記転写シートの透明粒子のみを該透明粒子に形成された前記光反射膜とともに担持層上に転写して、前記担持層に一部が埋め込まれた前記透明粒子からなる透明粒子膜を所望のパターンで形成する工程と、を備えることを特徴とする再帰反射シートの製造方法。 - 前記透明粒子膜を形成した後、透明粒子膜との間に気体層を形成するように、接合部材を介して前記透明粒子膜上に透明保護フィルムを配設する工程を備えることを特徴とする請求項17に記載の再帰反射シートの製造方法。
- 前記原版は、前記貫通孔の孔径D(μm)、各貫通孔の配列ピッチP(μm)、前記基体の厚みT(μm)と、平均粒子径d(μm)との間に、d≦D≦1.5d、d≦P、0.1d≦T≦1.5dの関係が成立するものであることを特徴とする請求項17または請求項18に記載の再帰反射シートの製造方法。
- 前記熱収縮性フィルムは二軸収縮型の熱収縮性フィルムであり、前記転写シートにおける粒子の配列は最密六方格子配列であることを特徴とする請求項6乃至請求項19のいずれかに記載の再帰反射シートの製造方法。
- 前記熱収縮性フィルムは一軸収縮型の熱収縮性フィルムであり、前記転写シートにおける粒子の配列は単純立方格子配列であることを特徴とする請求項6乃至請求項19のいずれかに記載の再帰反射シートの製造方法。
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