JP2006265679A - 高硬度材料 - Google Patents

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Abstract

【課題】 高速での乾式切削にも耐え得る、高硬度で耐酸化性等に優れた硬質被膜を基材表面に形成した、切削工具や金型、摺動部材等として好適に用いられる、高硬度材料を提供する。
【解決手段】 基材表面に、マグネシウムを含有するCrN型の窒化クロムからなる岩塩型結晶構造を有しビッカース硬さが2500〜4000の硬質被膜を形成することにより高硬度材料を構成する。硬質被膜中には、さらに酸素を含有させることが好ましい。また、硬質被膜中のマグネシウムの含有量が、硬質被膜を形成する全元素を基準として0.1〜30原子%で、マグネシウム原子対酸素原子の比が1:0〜1:1となるように構成することが好ましい。
【選択図】 図1

Description

本発明は、切削工具や金型、摺動部材等として好適に用いられる、基材表面に、マグネシウムを含有するCrN型の窒化クロムからなる岩塩型結晶構造を有する硬質被膜を形成した高硬度材料に関する。
従来、切削工具や金型、或いは摺動部材へのコーティングに用いられる硬質被膜としては、窒化チタンや窒化クロムを主成分とする遷移金属窒化物が知られている。
窒化クロムはビッカース硬さが2000程度であり、例えば窒化クロム被膜でコーティングした切削工具では、切削時に発生する熱によって工具が変質するのを防止するために、潤滑油を用いた湿式切削が主に採用されている。しかしながら、このような湿式切削では、被切削物に付着した潤滑油を洗浄して除去する工程が必要となり、生産コストを高くするとともに、環境への影響が懸念されるといった問題点がある。
窒化クロム被膜の膜特性を改善するために各種の金属やその他の元素を窒化クロム中に導入した被覆材料も種々提案されているが(例えば、特許文献1〜3参照)、潤滑油を使用しない乾式切削において、高速切削時の高温によっても硬度が低下せず、耐酸化性に優れた被覆材料は未だ実現していない。
特許第2757974号公報 特許第2977066号公報 特開2001−335878号公報
したがって、本発明は上記従来技術の問題点を解消して、高速での乾式切削にも耐え得る、高硬度で耐酸化性等に優れた硬質被膜を基材表面に形成した、切削工具や金型、摺動部材等として好適に用いられる、高硬度材料を提供することを目的とする。
本発明者等は鋭意検討した結果、基材表面にマグネシウム及び酸素を含有する窒化クロムからなる岩塩型結晶構造を有する硬質被膜を形成することにより上記課題が解決されることを発見し、本発明を完成したものである。
すなわち、本発明では次の1〜7の構成を採用する。
1.基材表面に、マグネシウムを含有するCrN型の窒化クロムからなる岩塩型結晶構造を有しビッカース硬さが2500〜4000の硬質被膜を形成したことを特徴とする高硬度材料。
2.前記硬質被膜がさらに酸素を含有することを特徴とする1に記載の高硬度材料。
3.前記硬質被膜中のマグネシウムの含有量が、硬質被膜を形成する全元素を基準として0.1〜30原子%で、マグネシウム原子対酸素原子の比が1:0〜1:1であることを特徴とする1又は2に記載の高硬度材料。
4.前記硬質被膜の格子定数が0.410〜0.420nmであることを特徴とする1〜3のいずれかに記載の高硬度材料。
5.前記硬質被膜がX線回折図形において、格子定数が0.410〜0.420nmの岩塩型構造であることを示す結晶相が含まれていることを特徴とする1〜4のいずれかに記載の高硬度材料。
6.前記硬質被膜の膜厚が0.1〜50μmであることを特徴とする1〜5のいずれかに記載の高硬度材料。
7.基材が金属、ガラス、セラミックス、プラスチックから選択されたものであることを特徴とする1〜6のいずれかに記載の高硬度材料。
8.前記硬質被膜がパルスレーザー堆積法によって形成したものであることを特徴とする1〜7のいずれかに記載の高硬度材料。
本発明によれば、高速での乾式切削にも耐え得る、ビッカース硬さが2500〜4000という、高硬度で耐酸化性等に優れた硬質被膜を基材表面に形成した、高硬度材料を得ることができる。本発明の高硬度材料は、切削工具や金型、摺動部材等として幅広い分野に利用できるものであり、実用的価値は極めて高いものである。
つぎに、本発明の実施の形態について図面に基づいて説明する。
図1は、本発明の硬質材料の製造に使用される装置の1例を示す模式図である。この装置1は、レーザー発生装置2、発生されたレーザーを集光するレンズ3及びウィンドウ4を備えた円筒形のチャンバー5、該チャンバー5を減圧にするポンプ6、及び該チャンバー5に置換ガスを供給する置換ガス供給源7により構成される。
この装置1を使用して本発明の硬質材料を製造する手順としては、はじめに、チャンバー5内に、基材8及び基材表面に硬質被膜を形成する材料となるターゲット9を対向させて配置する。つぎに、チャンバー5内をポンプ6により減圧にし、置換ガス供給源7からアンモニアガスを供給してチャンバー5内を置換する。つぎに、レーザー発生源2から発生させたレーザーをレンズ3で集光し、ウインドウ4を通じてターゲット9に照射し、基材8上に薄膜を堆積させて、硬質材料を形成する。
本発明の硬質材料を形成する基材としては、鋼、鋳鉄、ステンレス鋼、シリコン、チタン或いはチタン合金等の金属材料や、ガラス、セラミック、プラスチック等の材料を、硬質材料の用途に応じて使用することができる。切削工具や摺動部材のように、強度及び耐久性を必要とする場合には、通常は金属材料が使用される。
基材8は、チャンバー5内に設けたヒーター(図示せず)により、基材の種類に応じた温度、例えば金属材料では100〜700℃程度、に加熱される。
基材表面に堆積させる硬質被膜の原料となるターゲットとしては、例えば、a)Cr源としては、Cr、CrN等、b)Mg源としては、Mg、Mg、MgO等を使用することができ、これらは適宜組み合わせて使用される。このターゲットは円盤状に形成し、回転させながらレーザーを照射する。そして、ターゲット中のCr源とMg源の面積比を変化させることによって、硬質被膜中に導入するMgの量を調整することができる。
硬質被膜中のMgの含有量は、被膜を構成する全元素を基準として0.1〜30原子%、特に1〜15原子%とすることが好ましい。Mgの含有量を上記範囲とすることによって、高硬度で耐酸化性等に優れた被膜を得ることができ、このような被膜は化学的安定性が高いために、被切削物との反応を低減することができる。
本発明の高硬質材料の硬質被膜中には、さらに酸素を含有させることが好ましい。硬質被膜中の酸素の含有量は、Mg原子:O原子が1:0〜1:1、特に1:0.3〜1:0.8とすることが好ましい。硬質被膜中に酸素を含有させることによって、被膜の硬度を一段と改善することができる。
硬質被膜中に酸素を含有させるには、例えば、チャンバー5内の酸素の分圧が0.0001〜0.1、好ましくは0.001〜0.01Torrとなるように減圧度を調整することによって、行うことができる。
本発明によれば、格子定数が0.410〜0.420nmである岩塩型結晶構造を有する硬質被膜を得ることができる。岩塩型結晶構造の存在は、X線回折図形において岩塩型構造に起因する(111)、(200)、(220)、(311)、(222)、(400)、(331)、又は(420)のピークにより確認することができる。硬質被膜は、X線回折図形において、全回折ピークの積分強度和の90%以上が、岩塩型構造に起因する回折ピークであるものとすることが好ましい。
本発明の高硬度材料において、基材表面に形成する硬質被膜の膜厚は、用途に応じて適宜選択することができるが、通常は、0.01〜500μm程度、好ましくは0.1〜100μm程度、さらに好ましくは0.1〜50μm程度とすることができる。
本発明の硬質材料の製造に使用するレーザーの種類としては特に制限はなく、XeClレーザー、KrFレーザー、ArFレーザー、COレーザー、YAGレーザー等の、レーザーアブレーションに使用されるレーザーはいずれも使用することができる。好ましいレーザーとしては、例えばネオジウムヤグ(Nd:YAG)レーザーの3倍波(355nm)が挙げられる。
レーザーの照射条件は、基板やターゲットの種類、硬質被膜の膜厚や用途等に応じて適宜選択することができるが、通常はパルス幅:1〜10ns、周波数:1〜300Hz、エネルギー密度:0.1〜30J/cm、照射回数:6,000〜180,000回程度とすることが好ましい。
つぎに、本発明を実施例によりさらに説明するが、以下の具体例は本発明を限定するものではない。
(実施例1)
図1の装置1内に、CrNとMgからなる直径5cm、厚さ5mmの円盤状のターゲット9と、縦3cm、横3cm、厚さ0.5mmのSi(100)基材8を10mmの間隔で対向配置した。ポンプ6でチャンバー5を3×10−6Torr以下の減圧とし、置換ガス供給源7からアンモニアガスを供給して、チャンバー5内を置換した。
基材8をヒーターで400℃に加熱し、レーザー発生装置2で発生させたNd:YAGレーザーの3倍波(355nm)をレンズ3で集光し、ウィンドウ4を通じて回転するターゲット9に照射することにより、基材8上にMg及び0を含有する、膜厚1μmの窒化クロム被膜を堆積させた。レーザーは、繰り返し周波数10Hz、パルス幅7nsで1時間照射した(照射回数36,000回)。
ターゲット9におけるMgの面積比を0〜50%と変化させて成膜を行ない、得られた被膜はエネルギー分散型X線分析(EDS)により組成分析を行った。また、被膜の硬度はビッカース硬さ試験機により測定し、被膜の格子定数は、銅のKαX線(波長0.154nm)を使用した管電圧50kv・管電流300mAのX線回折装置により、θ/2θ法で測定した。
ターゲットにおけるCrN:Mgの面積比を75:25として得られた、Cr:Mgの原子比が67:33である被膜のX線回折図形を図2に示す。図2には、被膜材料の主相が岩塩型であることを示す、(111)、(200)、(220)、(311)、(222)、(400)、(331)、(420)の各ピークが見られる。
また、被膜を構成する金属元素中のMg含有量と、被膜のビッカース硬さとの関係を図3に示す。被膜中のMgの含有量の増加に伴って、ビッカース硬さは2300〜3700と向上することが判明した。
本発明の高硬度材料の製造に使用される装置の1例を示す模式図である。 本発明の実施例において得られた高硬度材料の被膜のX線回折図形である。 本発明の高硬度材料の被膜中のMgの含有量と被膜の硬度との関係を示す図である。
符号の説明
1 製造装置
2 レーザー発生装置
3 レンズ
4 ウインドウ
5 チャンバー
6 ポンプ
7 置換ガス供給源
8 基材
9 ターゲット

Claims (8)

  1. 基材表面に、マグネシウムを含有するCrN型の窒化クロムからなる岩塩型結晶構造を有しビッカース硬さが2500〜4000の硬質被膜を形成したことを特徴とする高硬度材料。
  2. 前記硬質被膜がさらに酸素を含有することを特徴とする請求項1に記載の高硬度材料。
  3. 前記硬質被膜中のマグネシウムの含有量が、硬質被膜を形成する全元素を基準として0.1〜30原子%で、マグネシウム原子対酸素原子の比が1:0〜1:1であることを特徴とする請求項1又は2に記載の高硬度材料。
  4. 前記硬質被膜の格子定数が0.410〜0.420nmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の高硬度材料。
  5. 前記硬質被膜がX線回折図形において、格子定数が0.410〜0.420nmの岩塩型構造であることを示す結晶相が含まれていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の高硬度材料。
  6. 前記硬質被膜の膜厚が0.1〜50μmであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の高硬度材料。
  7. 基材が金属、ガラス、セラミックス、プラスチックから選択されたものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の高硬度材料。
  8. 前記硬質被膜がパルスレーザー堆積法によって形成したものであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の高硬度材料。






















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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010168603A (ja) * 2009-01-20 2010-08-05 Ntn Corp 耐摩耗性CrN膜
WO2016125396A1 (ja) * 2015-02-05 2016-08-11 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜
JP2016148101A (ja) * 2015-02-05 2016-08-18 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0881755A (ja) * 1994-09-14 1996-03-26 Nissin Electric Co Ltd 窒化クロム膜被覆基体とその製造方法
JPH10140327A (ja) * 1996-11-11 1998-05-26 Mitsubishi Materials Corp 耐摩耗性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具
JP2001335878A (ja) * 2000-05-30 2001-12-04 Teikoku Piston Ring Co Ltd 摺動部材
JP2003166046A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Kobe Steel Ltd CrN膜およびCrN膜の成膜方法
JP2003266212A (ja) * 2002-03-19 2003-09-24 Hitachi Tool Engineering Ltd クロム含有膜被覆工具

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0881755A (ja) * 1994-09-14 1996-03-26 Nissin Electric Co Ltd 窒化クロム膜被覆基体とその製造方法
JPH10140327A (ja) * 1996-11-11 1998-05-26 Mitsubishi Materials Corp 耐摩耗性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具
JP2001335878A (ja) * 2000-05-30 2001-12-04 Teikoku Piston Ring Co Ltd 摺動部材
JP2003166046A (ja) * 2001-11-30 2003-06-13 Kobe Steel Ltd CrN膜およびCrN膜の成膜方法
JP2003266212A (ja) * 2002-03-19 2003-09-24 Hitachi Tool Engineering Ltd クロム含有膜被覆工具

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010168603A (ja) * 2009-01-20 2010-08-05 Ntn Corp 耐摩耗性CrN膜
WO2016125396A1 (ja) * 2015-02-05 2016-08-11 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜
JP2016148101A (ja) * 2015-02-05 2016-08-18 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜
US20180009039A1 (en) * 2015-02-05 2018-01-11 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) Hard coating film

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