JP2006265679A - 高硬度材料 - Google Patents
高硬度材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006265679A JP2006265679A JP2005088457A JP2005088457A JP2006265679A JP 2006265679 A JP2006265679 A JP 2006265679A JP 2005088457 A JP2005088457 A JP 2005088457A JP 2005088457 A JP2005088457 A JP 2005088457A JP 2006265679 A JP2006265679 A JP 2006265679A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hard coating
- hardness material
- hardness
- hard film
- material according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】 基材表面に、マグネシウムを含有するCrN型の窒化クロムからなる岩塩型結晶構造を有しビッカース硬さが2500〜4000の硬質被膜を形成することにより高硬度材料を構成する。硬質被膜中には、さらに酸素を含有させることが好ましい。また、硬質被膜中のマグネシウムの含有量が、硬質被膜を形成する全元素を基準として0.1〜30原子%で、マグネシウム原子対酸素原子の比が1:0〜1:1となるように構成することが好ましい。
【選択図】 図1
Description
窒化クロムはビッカース硬さが2000程度であり、例えば窒化クロム被膜でコーティングした切削工具では、切削時に発生する熱によって工具が変質するのを防止するために、潤滑油を用いた湿式切削が主に採用されている。しかしながら、このような湿式切削では、被切削物に付着した潤滑油を洗浄して除去する工程が必要となり、生産コストを高くするとともに、環境への影響が懸念されるといった問題点がある。
すなわち、本発明では次の1〜7の構成を採用する。
1.基材表面に、マグネシウムを含有するCrN型の窒化クロムからなる岩塩型結晶構造を有しビッカース硬さが2500〜4000の硬質被膜を形成したことを特徴とする高硬度材料。
2.前記硬質被膜がさらに酸素を含有することを特徴とする1に記載の高硬度材料。
3.前記硬質被膜中のマグネシウムの含有量が、硬質被膜を形成する全元素を基準として0.1〜30原子%で、マグネシウム原子対酸素原子の比が1:0〜1:1であることを特徴とする1又は2に記載の高硬度材料。
4.前記硬質被膜の格子定数が0.410〜0.420nmであることを特徴とする1〜3のいずれかに記載の高硬度材料。
5.前記硬質被膜がX線回折図形において、格子定数が0.410〜0.420nmの岩塩型構造であることを示す結晶相が含まれていることを特徴とする1〜4のいずれかに記載の高硬度材料。
6.前記硬質被膜の膜厚が0.1〜50μmであることを特徴とする1〜5のいずれかに記載の高硬度材料。
7.基材が金属、ガラス、セラミックス、プラスチックから選択されたものであることを特徴とする1〜6のいずれかに記載の高硬度材料。
8.前記硬質被膜がパルスレーザー堆積法によって形成したものであることを特徴とする1〜7のいずれかに記載の高硬度材料。
図1は、本発明の硬質材料の製造に使用される装置の1例を示す模式図である。この装置1は、レーザー発生装置2、発生されたレーザーを集光するレンズ3及びウィンドウ4を備えた円筒形のチャンバー5、該チャンバー5を減圧にするポンプ6、及び該チャンバー5に置換ガスを供給する置換ガス供給源7により構成される。
基材8は、チャンバー5内に設けたヒーター(図示せず)により、基材の種類に応じた温度、例えば金属材料では100〜700℃程度、に加熱される。
硬質被膜中のMgの含有量は、被膜を構成する全元素を基準として0.1〜30原子%、特に1〜15原子%とすることが好ましい。Mgの含有量を上記範囲とすることによって、高硬度で耐酸化性等に優れた被膜を得ることができ、このような被膜は化学的安定性が高いために、被切削物との反応を低減することができる。
硬質被膜中に酸素を含有させるには、例えば、チャンバー5内の酸素の分圧が0.0001〜0.1、好ましくは0.001〜0.01Torrとなるように減圧度を調整することによって、行うことができる。
レーザーの照射条件は、基板やターゲットの種類、硬質被膜の膜厚や用途等に応じて適宜選択することができるが、通常はパルス幅:1〜10ns、周波数:1〜300Hz、エネルギー密度:0.1〜30J/cm2、照射回数:6,000〜180,000回程度とすることが好ましい。
(実施例1)
図1の装置1内に、Cr2NとMgからなる直径5cm、厚さ5mmの円盤状のターゲット9と、縦3cm、横3cm、厚さ0.5mmのSi(100)基材8を10mmの間隔で対向配置した。ポンプ6でチャンバー5を3×10−6Torr以下の減圧とし、置換ガス供給源7からアンモニアガスを供給して、チャンバー5内を置換した。
基材8をヒーターで400℃に加熱し、レーザー発生装置2で発生させたNd:YAGレーザーの3倍波(355nm)をレンズ3で集光し、ウィンドウ4を通じて回転するターゲット9に照射することにより、基材8上にMg及び0を含有する、膜厚1μmの窒化クロム被膜を堆積させた。レーザーは、繰り返し周波数10Hz、パルス幅7nsで1時間照射した(照射回数36,000回)。
ターゲット9におけるMgの面積比を0〜50%と変化させて成膜を行ない、得られた被膜はエネルギー分散型X線分析(EDS)により組成分析を行った。また、被膜の硬度はビッカース硬さ試験機により測定し、被膜の格子定数は、銅のKαX線(波長0.154nm)を使用した管電圧50kv・管電流300mAのX線回折装置により、θ/2θ法で測定した。
また、被膜を構成する金属元素中のMg含有量と、被膜のビッカース硬さとの関係を図3に示す。被膜中のMgの含有量の増加に伴って、ビッカース硬さは2300〜3700と向上することが判明した。
2 レーザー発生装置
3 レンズ
4 ウインドウ
5 チャンバー
6 ポンプ
7 置換ガス供給源
8 基材
9 ターゲット
Claims (8)
- 基材表面に、マグネシウムを含有するCrN型の窒化クロムからなる岩塩型結晶構造を有しビッカース硬さが2500〜4000の硬質被膜を形成したことを特徴とする高硬度材料。
- 前記硬質被膜がさらに酸素を含有することを特徴とする請求項1に記載の高硬度材料。
- 前記硬質被膜中のマグネシウムの含有量が、硬質被膜を形成する全元素を基準として0.1〜30原子%で、マグネシウム原子対酸素原子の比が1:0〜1:1であることを特徴とする請求項1又は2に記載の高硬度材料。
- 前記硬質被膜の格子定数が0.410〜0.420nmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の高硬度材料。
- 前記硬質被膜がX線回折図形において、格子定数が0.410〜0.420nmの岩塩型構造であることを示す結晶相が含まれていることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の高硬度材料。
- 前記硬質被膜の膜厚が0.1〜50μmであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の高硬度材料。
- 基材が金属、ガラス、セラミックス、プラスチックから選択されたものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の高硬度材料。
- 前記硬質被膜がパルスレーザー堆積法によって形成したものであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の高硬度材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005088457A JP4701386B2 (ja) | 2005-03-25 | 2005-03-25 | 高硬度材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005088457A JP4701386B2 (ja) | 2005-03-25 | 2005-03-25 | 高硬度材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006265679A true JP2006265679A (ja) | 2006-10-05 |
JP4701386B2 JP4701386B2 (ja) | 2011-06-15 |
Family
ID=37201940
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005088457A Active JP4701386B2 (ja) | 2005-03-25 | 2005-03-25 | 高硬度材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4701386B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010168603A (ja) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Ntn Corp | 耐摩耗性CrN膜 |
WO2016125396A1 (ja) * | 2015-02-05 | 2016-08-11 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜 |
JP2016148101A (ja) * | 2015-02-05 | 2016-08-18 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0881755A (ja) * | 1994-09-14 | 1996-03-26 | Nissin Electric Co Ltd | 窒化クロム膜被覆基体とその製造方法 |
JPH10140327A (ja) * | 1996-11-11 | 1998-05-26 | Mitsubishi Materials Corp | 耐摩耗性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP2001335878A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-04 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | 摺動部材 |
JP2003166046A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Kobe Steel Ltd | CrN膜およびCrN膜の成膜方法 |
JP2003266212A (ja) * | 2002-03-19 | 2003-09-24 | Hitachi Tool Engineering Ltd | クロム含有膜被覆工具 |
-
2005
- 2005-03-25 JP JP2005088457A patent/JP4701386B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0881755A (ja) * | 1994-09-14 | 1996-03-26 | Nissin Electric Co Ltd | 窒化クロム膜被覆基体とその製造方法 |
JPH10140327A (ja) * | 1996-11-11 | 1998-05-26 | Mitsubishi Materials Corp | 耐摩耗性のすぐれた表面被覆超硬合金製切削工具 |
JP2001335878A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-04 | Teikoku Piston Ring Co Ltd | 摺動部材 |
JP2003166046A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Kobe Steel Ltd | CrN膜およびCrN膜の成膜方法 |
JP2003266212A (ja) * | 2002-03-19 | 2003-09-24 | Hitachi Tool Engineering Ltd | クロム含有膜被覆工具 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010168603A (ja) * | 2009-01-20 | 2010-08-05 | Ntn Corp | 耐摩耗性CrN膜 |
WO2016125396A1 (ja) * | 2015-02-05 | 2016-08-11 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜 |
JP2016148101A (ja) * | 2015-02-05 | 2016-08-18 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜 |
US20180009039A1 (en) * | 2015-02-05 | 2018-01-11 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) | Hard coating film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4701386B2 (ja) | 2011-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Yang et al. | Phase constituents and mechanical properties of laser in-situ synthesized TiCN/TiN composite coating on Ti-6Al-4V | |
JP5190971B2 (ja) | 被膜、切削工具および被膜の製造方法 | |
JP2005089806A (ja) | 耐摩耗性、耐熱性および基材との密着性に優れた積層皮膜とその製造方法 | |
JP2004001188A (ja) | 機械加工ツール用の摩耗保護層 | |
Fedorov et al. | Effect of structural and phase transformations in alloyed subsurface layer of hard-alloy tools on their wear resistance during cutting of high-temperature alloys | |
JP4701386B2 (ja) | 高硬度材料 | |
JP4672650B2 (ja) | 炭素系薄膜およびその製造方法、ならびにこの薄膜を用いた部材 | |
JP2008290163A (ja) | 被膜、切削工具および被膜の製造方法 | |
Ali | Qualitative analyses of thin film-based materials validating new structures of atoms | |
Suda et al. | Chromium carbide thin films synthesized by pulsed Nd: YAG laser deposition | |
Ueda et al. | Application of plasma immersion ion implantation for improved performance of tools and industrial components | |
JP3448884B2 (ja) | 人工ダイヤモンド被覆材 | |
JP2006035345A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2005022073A (ja) | Dlc被覆工具 | |
JP2007084840A (ja) | 高硬度材料、及びその製造方法 | |
JP2007118126A (ja) | 表面被覆切削工具 | |
JP2011122222A (ja) | 表面被覆部材 | |
Oujja et al. | Synthesis of smooth amorphous thin films of silicon carbide with controlled properties through pulsed laser deposition | |
JPS60502110A (ja) | 被膜塗布方法 | |
Doi et al. | Preparation of crystalline chromium carbide thin films synthesized by pulsed Nd: YAG laser deposition | |
Schaaf et al. | Reactive laser plasma coating formation | |
JPS60194067A (ja) | 硬質膜の形成方法 | |
JP2913015B2 (ja) | 表面被覆方法 | |
JPS5918474B2 (ja) | 被覆超硬合金 | |
JP2007154261A (ja) | 溶射皮膜を形成した素材の改質方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20080320 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20100618 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20100629 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100820 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110202 |