JP2006264948A - 基板移送装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】移送動作の所定の順序に実行する動作手順において、高弾性率のエラストマーゴム材からなる吸着パッドが、板状基板状基板の下方より板状基板状基板の上方まで板状基板を吸着パッドに吸着し上昇移送を継続しながら、吸着パッドと当該板状基板の裏面との接触開始時に、吸着パッド内を所定の真空圧まで吸引の開始を実行し、所定の移送動作と真空開始を同時に実行する基板移送装置。
【選択図】図1
Description
ット10は、昇降機構11と、回転機構とを有する。各機構は、図中の矢線に示す方向に板状基板保持アーム機構15を動かす。また、板状基板保持アーム機構15の先端部にはフォーク状にした板状の部材からなるハンド16を設けている。板状基板保持アーム機構15は、ハンド16を所定の方向に向けたまま屈伸できる、例えば関節形とした屈伸機構13をゆうする。これにより、ハンドは、例えば水平前後方向に移動できる。前記昇降機構11により、ハンド16は移送される板状基板の高さに対応した高さに位置決めされる。板状基板保持アーム機構15が板状基板の奥方向へ水平に前進し、ハンド16が一方のカセット1a内の移送される板状基板3の下面に沿うように挿入され、一方のカセット1a内の奥の所定の位置で一時停止する。次に昇降機構11により、ハンド16を所定の高さ位置まで上昇させ、ハンド16上に板状基板3を載置する。次いで、屈伸機構13により、ハンド16は板状基板3を載置したまま一方のカセット1a内から手前方向へ水平に後退し、引き抜かれ、所定の位置で一時停止する。次いで、回転機構12により、板状基板保持アーム15は平面内で回動し、他方のカセット1bと向き合う方向まで回転し、所定の位置で一時停止する。次いで、昇降機構11により、ハンド16は、移送される板状基板の高さに対応した高さに位置決めされる。次いで、板状基板保持アーム機構15によりハンドはカセット1bの奥方向へ水平に前進し、ハンド16が他方のカセット1b内の移送されるホルダ部材2の上面に沿うように挿入され、他方のカセット1b内の奥の所定の位置で一時停止する。次に昇降機構11により、ハンドを所定の高さ位置まで下降させ、ハンド16からホルダ部材2へ板状基板3を載置する。次いで、屈伸機構13により、ハンド16のみが他方のカセット1b内から手前方向へ水平に後退し、引き抜かれ、所定の位置で停止する。以上の手順を繰り返すことで、順次、板状基板3を一方のカセット1aから他方のカセット1bに移送する作業を行う。なお、以上の動作は、カセット1bの代わりにラックでも良く、又製造装置からたの製造装置へ板状基板を直接に投入、又は移送する場合もあり、製造装置の使用場所は制限されない。
あり、例えば、カセットの奥方向へ前進移送/手前方向へ後退移送/回転移送と/奥方向へ水平に前進移送/手前方向へ水平に後退移送/反転回移送/奥方向へ前進移送/手前方向へ後退移送とを繰り返している。すなわち、手前方向へ後退移送と、反転回移送と、奥方向へ前進動が基本となる。
空度に到達したことを確認した後、次の動作開始を指令する動作手順があり、その間は完全にロボットが動作停止の状態となるためである。
B―――Bでは、吸着パッド20により板状基板2中央部を固定した状態であり、板状基板2の歪みによる、又は自重等による上方面に湾曲し、板状基板3両端部とホルダ部材2が最後に離れ、板状基板が完全に吸着パッド20により吸着されながら、上昇を続ける。この間では、板状基板中央部では、A―――AからB―――Bまで上昇し、逆に板状基板両端部では、ホルダ部材2に近傍のみで静止状態となる。その結果、B―――Bの通過直後より吸着パッド20、すなわち、板状基板中央部と板状基板両端部との振動が発生する問題がある。当該の振動は、吸着パッドと板状基板の密着を不安定化し真空度の到達時間の延伸、又は減衰時間の延伸等によるロボットの動作を遅延させ、カセット内壁と板状基板が接触し傷の発生、発塵源となる問題がある。具体的には、その解決には、吸着パッド20の役割が重要となる問題がある。
(b)屈伸機構により、板状基板保持アーム機構が前進移送し、吸着パッドが、カセット内の板状基板状基板の下面の沿うように挿入され、カセット内の奥の所定の位置で一時停止の手順と、
(c)昇降機構により、吸着パッドを所定の高さ位置まで上昇させながら、吸着パッドと板状基板の裏面とを接触させ、吸着パッドに板状基板を吸着し、所定の高さまで上昇させ、一時停止の手順と、
(d)真空機構により、前記吸着パッドと板状基板の裏面とを接触と同時に、真空機構により、吸着パッドを真空にする吸引を開始し、吸着パッドの真空度の計測し、所定の真空度に到達した後、次の移送動作の開始を指令の手順と、
(e)屈伸機能により、吸着パッドが、板状基板を吸着したままカセット内から手前方向へ後退移送し、引き抜かれ、所定の位置で一時停止の手順と、
(f)回転機構により、反転回動し、次の位置と向き合う方向まで回転移送し、所定の位置で一時停止の手順と、
をその順序に移送動作を実行する基板移送装置において、
動作手順が、
(b)屈伸機構により、板状基板保持アーム機構がカセットの奥方向へ前進移送し、吸着パッドが、カセット内の板状基板の下面の沿うように挿入され、カセット内の奥の所定の位置で一時停止の手順と、
(c)昇降機構により、吸着パッドを所定の高さ位置まで上昇させながら、吸着パッドと板状基板の裏面とを接触させ、吸着パッドに板状基板を吸着し、所定の高さまで上昇させ、一時停止の手順と、
(e)前記移送動作の開始指令により、前後機能により、吸着パッドが、板状基板を吸着したままカセット内から手前方向へ後退移送し、引き抜かれ、所定の位置で一時停止の手順と、
(f)回転機構により、反転回動し、次の位置と向き合う方向まで回転移送し、所定の位置で一時停止の手順と、
その順序に移送動作を実行を継続することと同時に、
(d)真空機構により、前記吸着パッドと板状基板の裏面とを接触と同時に、真空機構により、吸着パッドを真空にする吸引を開始し、吸着パッドの真空度の計測し、所定の真空度に到達の確認の手順とを、
同時に並行しながら動作手順を実行する移送装置であって、
吸着パッドを上昇移送させながら、吸着パッドと当該板状基板との接触点の通過と同時に吸着パッド内を所定の真空圧まで吸引を開始させながら、該所定の真空度の到達の手順と前記上昇移送の手順とを同時に実行して、板状基板を吸着パッドに吸着しながら所定の移送動作を継続して実行することを特徴とする基板移送装置である。
ぼ水平面状でパッド20a、20bと吸着されている。最後の通過点B―――Bでは、吸着パッド20a、20bにより板状基板2中央部を固定した状態であり、板状基板2の歪みによる、又は自重等による上方面に湾曲し、板状基板3両端部とホルダ部材2が最後に離れ、板状基板が完全に吸着パッド20a、20bにより吸着されながら、上昇を続ける。この間では、板状基板中央部では、A―――AからB―――Bまで上昇し、逆に板状基板両端部では、ホルダ部材2に近傍のみで静止状態となる。その結果、B―――Bの通過直後より吸着パッド20a、20b、すなわち、板状基板中央部と板状基板両端部との振動が発生する問題がある。当該の振動は、吸着パッド20a、20b、特に板状基板中央部を吸着パッド20aで吸着したため、板状基板3両端部とホルダ部材2との離脱が早くなる、すなわち、B―――BがA―――A方向にシフトされ、その効果により振動は削減され、その減衰時間も短縮する。以上の工程では、振動が小さくなり、密着が安定化し、真空度の到達時間の短縮等によるロボットの動作を高速化させ、カセット内壁と板状基板が接触して生じる傷の削減、発塵の問題を解消する。
1a…カセット
1b…カセット
2…ホルダ部材
3…板状基板
10…ロボット
11…昇降機構
12…回転機構
13…屈伸機構
14…真空機構
15…板状基板保持アーム機構
16…ハンド
20…吸着パッド
20a…中心部に配置した吸着パッド
20b…両端部に配置した吸着パッド
21…チャンバー
Claims (5)
- 予めカセット等の収納位置に複数枚を重ねた状態に収納された板状基板を取り出し、所定の位置まで移送させるための板状基板保持アームを有し、板状基板保持アームの先端部のハンドに吸着パッドを突設させ、垂直に移送する昇降機構と、回転機構と、平行に移送する屈伸機構と、真空機構との移送の動作手段を備え、所定の動作手順をその順序に所定の移送動作を実行する、真空状態の吸着パッドにより板状基板状基板を吸着し移送し、少なくとも以下の動作手順の、
(b)屈伸機構により、板状基板保持アーム機構が前進移送し、吸着パッドが、カセット内の板状基板状基板の下面の沿うように挿入され、カセット内の奥の所定の位置で一時停止の手順と、
(c)昇降機構により、吸着パッドを所定の高さ位置まで上昇させながら、吸着パッドと板状基板の裏面とを接触させ、吸着パッドに板状基板を吸着し、所定の高さまで上昇させ、一時停止の手順と、
(d)真空機構により、前記吸着パッドと板状基板の裏面とを接触と同時に、真空機構により、吸着パッドを真空にする吸引を開始し、吸着パッドの真空度の計測し、所定の真空度に到達した後、次の移送動作の開始を指令の手順と、
(e)屈伸機能により、吸着パッドが、板状基板を吸着したままカセット内から手前方向へ後退移送し、引き抜かれ、所定の位置で一時停止の手順と、
(f)回転機構により、反転回動し、次の位置と向き合う方向まで回転移送し、所定の位置で一時停止の手順と、
をその順序に移送動作を実行する基板移送装置において、
動作手順が、
(b)屈伸機構により、板状基板保持アーム機構がカセットの奥方向へ前進移送し、吸着パッドが、カセット内の板状基板の下面の沿うように挿入され、カセット内の奥の所定の位置で一時停止の手順と、
(c)昇降機構により、吸着パッドを所定の高さ位置まで上昇させながら、吸着パッドと板状基板の裏面とを接触させ、吸着パッドに板状基板を吸着し、所定の高さまで上昇させ、一時停止の手順と、
(e)前記移送動作の開始指令により、前後機能により、吸着パッドが、板状基板を吸着したままカセット内から手前方向へ後退移送し、引き抜かれ、所定の位置で一時停止の手順と、
(f)回転機構により、反転回動し、次の位置と向き合う方向まで回転移送し、所定の位置で一時停止の手順と、
その順序に移送動作を実行を継続することと同時に、
(d)真空機構により、前記吸着パッドと板状基板の裏面とを接触と同時に、真空機構により、吸着パッドを真空にする吸引を開始し、吸着パッドの真空度の計測し、所定の真空度に到達の確認の手順とを、
同時に並行しながら動作手順を実行する移送装置であって、
吸着パッドを上昇移送させながら、吸着パッドと当該板状基板との接触点の通過と同時に吸着パッド内を所定の真空圧まで吸引を開始させながら、該所定の真空度の到達の手順と前記上昇移送の手順とを同時に実行して、板状基板を吸着パッドに吸着しながら所定の移送動作を継続して実行することを特徴とする基板移送装置。 - 前記吸着パッド内の真空度を計測、確認する手順は、前記所定の角度の回転移送の開始直前までに、吸着パッド内の真空度の確認を行うことを特徴とする請求項1記載の基板移送装置。
- 前記吸着パッドは、板状基板と接する面側を開口部とした空洞部を有し、空洞部を複数箇所設けたことを特徴とする請求項1、又は2記載の基板移送装置。
- 前記吸着パッドの材質を高弾性ゴム材としたことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の基板移送装置。
- 前記吸着パッドと板状基板が接触した際に吸着パッドが、板状基板の中心部と、該中心部から等距離の板状基板の左右両端部と接触する位置となるよう、吸着パッドをハンド上に突設したことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載の基板移送装置。
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