JPH08297279A - 基板搬送装置及び基板搬送方法 - Google Patents

基板搬送装置及び基板搬送方法

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JPH08297279A
JPH08297279A JP12571895A JP12571895A JPH08297279A JP H08297279 A JPH08297279 A JP H08297279A JP 12571895 A JP12571895 A JP 12571895A JP 12571895 A JP12571895 A JP 12571895A JP H08297279 A JPH08297279 A JP H08297279A
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JP
Japan
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substrate
supporting
support
pattern
pin
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Pending
Application number
JP12571895A
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English (en)
Inventor
Yukitaka Kuzukawa
幸隆 葛川
Shigeru Sasada
滋 笹田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP12571895A priority Critical patent/JPH08297279A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 大きく薄い基板Wであっても、大きく撓ませ
ることなく、基板Wを支持することができる基板搬送装
置3を提供する。 【構成】 基板搬送装置3のハンド機構40は、第1な
いし第3アーム機構50x1,50x2,50x3を備
えている。第1ないし第3アーム機構50x1,50x
2,50x3には、基板Wの下面を支持するピンP1a
ないしピンP3bが設けられている。ピンP1aないし
ピンP3bは、モータMx1,Mx2,Mx3と、モー
タMy1a,My1bの駆動によりx−y方向へ移動し
て、基板Wのパターンのない部分の下面を支持する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶用ガラス角型基
板、カラーフィルタ用基板、フォトマスク用基板などの
基板を支持して搬送する基板搬送装置及び基板搬送方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、多数の基板が収納されたカセット
から1枚づつ取り出された基板を、搬送ロボットによ
り、洗浄部、加熱部、冷却部、レジスト塗布部、露光
部、現像部などの各種処理部に順次搬送するための基板
搬送装置が種々知られている。
【0003】このような基板搬送装置においては、主と
して、基板の表面側に種々の処理が施されるので、搬送
ロボットの基板搬送ハンドが基板の表面と接触して支持
することを避け、基板の裏面側から支持して搬送してい
る。すなわち、図16は基板を搬送している状態を示す
平面図、図17はa−a線に沿った断面図である。搬送
ロボットの基板搬送ハンド200上には、支持用ピン2
03が3カ所植設され、この支持用ピン203で基板W
の裏面を支持している。この支持用ピン203は、基板
Wの裏面に接触する場合でも、その表面側にも影響を及
ぼす場合があるので、基板Wの表面にパターンWpが形
成されていない周縁部近傍の裏面を支持するように配置
されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このように基
板Wを支持用ピン203によって支持する構成では、図
17の実線で示す基板Wのように、基板サイズが大きく
なるにつれてその撓みが大きくなる。特に、近年、基板
Wは、軽量化のために薄くなる傾向にあり、一層撓みや
すくなっている。そのため、大きく撓んだ基板Wは、搬
送時に装置のフレーム等に接触したり、処理部との受け
渡し工程の確実性を損なうことが考えられる。
【0005】本発明は、上記従来の技術の問題を解決す
るものであり、大きく撓み易い薄い基板であっても、搬
送時に、基板の撓みを小さくして、装置のフレーム等に
接触したりすることがなく、処理部との受け渡し作業を
確実に行なうことができる基板搬送装置及び基板搬送方
法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた請求項1の発明は、基板をその下面側から支
持して搬送する基板搬送装置において、基板搬送ハンド
本体と、基板搬送ハンド本体上に複数カ所設けられ、基
板の下面を支持する基板支持部材と、各基板支持部材
を、それぞれ、支持される基板の下面と平行な方向に移
動させる移動機構と、を備えたことを特徴とする。
【0007】請求項2は、請求項1において、基板サイ
ズと基板の上面に形成されるパターンの配列とに応じ
て、パターンが形成されない領域に、各基板支持部材の
位置を設定する制御手段を有するものである。
【0008】請求項3は、基板をその下面側から支持し
て搬送する基板搬送装置において、基板搬送ハンド本体
と、基板搬送ハンド本体上に、基板の下面を支持するよ
うに複数配置された基板支持部材と、各基板支持部材
を、それぞれ、基板の下面を支持する支持位置と、基板
の下面を支持しない非支持位置とに切り換える切換手段
と、を備えたことを特徴とする。
【0009】請求項4は、請求項3の切換手段として、
基板支持部材の支持位置を、非支持位置よりも上方に突
出させる機構を有するものである。
【0010】請求項5は、基板を複数の基板支持部材に
より、基板の下面側から支持して搬送する基板搬送方法
において、基板の上面に形成されるパターンの位置に応
じて、パターンが形成されない領域に各基板支持部材の
位置を設定して基板を支持して搬送することを特徴とす
る。
【0011】
【作用】請求項1の基板搬送装置では、基板搬送ハンド
本体に設けられた複数の基板支持部材により基板の下面
を支持して基板を搬送する。各基板支持部材は、移動機
構により、基板の下面と平行な方向にそれぞれ移動可能
であるから、例えば、基板を撓ませにくい位置に移動す
ることにより、薄く大きな基板でも、撓ませることなく
支持する。
【0012】請求項2では、制御手段により、基板サイ
ズと基板の上面に形成されるパターンの配列とに応じ
て、パターンが形成されない領域に各基板支持部材をそ
れぞれ移動することにより、基板のパターンに悪影響を
与えない。
【0013】請求項3では、各基板支持部材に対し、基
板の下面を支持する支持位置と、基板の下面を支持しな
い非支持位置とに、それぞれ切り換える切換手段を設け
ることにより、各基板支持部材による基板の下面を支持
する位置をそれぞれ変更できるようにしたものである。
なお、切換手段は、複数の基板支持部材のうちの一部に
設けてもよい。
【0014】請求項4では、各基板支持部材を支持位置
と非支持位置とにそれぞれ切り換える切換手段を好適に
実現したものである。
【0015】請求項5は、各基板支持部材により基板の
下面をそれぞれ支持して、上述した請求項1と同様な作
用を奏する基板搬送方法である。
【0016】
【実施例】以上説明した本発明の構成・作用を一層明ら
かにするために、以下本発明の好適な実施例について説
明する。
【0017】図1は本発明に係る基板搬送装置を適用可
能な基板洗浄装置を示す図である。以下、この基板洗浄
装置の概略構成及び動作を簡単に説明した後、この発明
に係る基板搬送装置の構成などについて詳細に説明す
る。
【0018】この基板洗浄装置は、インデクサ部1と、
洗浄処理ユニット2と、基板搬送装置3とを備えてい
る。インデクサ部1には、基板を複数枚、例えば25枚
収納可能なカセット4を載置するためのカセット載置部
11が3カ所、方向Aに沿って設けられている。このた
め、図示を省略するAGV(無人搬送車)により当該装
置に搬送されてきたカセット4が各カセット載置部11
に載置されると、インデクサ部1では、3つのカセット
4が方向Aに配置されることになり、後述する基板搬送
装置3によるカセット4からの基板の取出及びカセット
4への基板の収納が可能となる。なお、図1において、
カセット載置部11には、自動搬送ロボットとの間でカ
セット4を受け渡しするためのくぼみ部12が設けられ
ている。
【0019】洗浄処理ユニット2には、基板の両面(あ
るいは裏面のみ)を洗浄するブラシモジュール21と、
基板を回転させながら基板の表面を洗浄するスピン部2
2とが設けられており、ブラシモジュール21とスピン
部22とは、インデクサ部1から一定間隔だけ方向Bに
離隔した状態で、カセット4の配列の方向Aとほぼ並行
に対向配列されている。また、ブラシモジュール21の
上方には、基板の表面に紫外線を照射して基板の表面上
の有機物を焼いて灰化する処理、つまりドライ洗浄を実
行するUVランプハウス23が配置されている。このよ
うに、洗浄処理ユニット2では、複数の洗浄処理部(以
下、ブラシモジュール21、スピン部22及びUVラン
プハウス23を総称する場合には、この用語を用いる)
が設けられ、基板を適当な順序で搬送しつつ各洗浄処理
部で基板に対し洗浄処理を行なうようになっている。な
お、この実施例では、図1に示すように、インデクサ部
1に対し洗浄処理ユニット2の背面側に、ブラシモジュ
ール21からスピン部22に基板を搬送するための搬送
ハンド5が設けられている。
【0020】このようにして、基板洗浄装置では、1枚
の基板に所定の手順で洗浄処理を施している。
【0021】図2は基板搬送装置3を示す斜視図であ
る。この基板搬送装置3は、インデクサ部1と洗浄処理
ユニット2とで挟まれた搬送通路6(図1)に配置され
ている。この搬送通路6では、方向Aに延びるガイドレ
ール31が基板洗浄装置本体の底部に固定され、そのガ
イドレール31に沿って基台32が往復移動自在となっ
ている。また、この基台32には、図示を省略するA駆
動機構が連結されており、基板洗浄装置全体を制御する
制御部(図示省略)からの指令に応じてA駆動機構が動
作し、基台32を方向Aに移動させる。
【0022】基台32には、3軸搬送ロボット33が固
定されており、上記のA駆動機構により、搬送ロボット
33をカセット4の配列及び洗浄処理ユニット2内での
洗浄処理部の配列に沿って往復移動させ、任意のカセッ
ト4あるいは洗浄処理部の前に位置させることができる
ようになっている。
【0023】この搬送ロボット33は、ロボット本体3
4から垂直の方向Cに伸縮するコラム35を有してお
り、コラム35に連結されたC駆動機構(図示省略)が
制御部からの指令を受け、コラム35を方向Cに伸縮駆
動する。このコラム35の先端には、水平方向に延びる
第1アーム36の一方端が回転軸A1を中心に回転自在
に取り付けられている。また、第1アーム36の他方端
に第2アーム37の一方端が、また第2アーム37の他
方端にハンド機構40(搬送ハンド本体)の一方端が、
それぞれ回転軸A2,A3を中心に回転自在となってい
る。そして、搬送ロボット33には、図示を省略してい
るが、各回転軸A1,A2,A3を中心に各部を回転さ
せるための動力源としてのモータが組み込まれている。
このため、搬送ロボット33では、後述するように、ハ
ンド機構40により基板を保持した状態で、制御部から
の指令に応じて、ハンド機構40を3次元的に移動させ
ることができ、搬送ロボット33の停止位置に対応する
カセット4や洗浄処理部との間で基板搬入及び基板搬出
を行なうことができる。
【0024】図3はハンド機構40の上部の拡大平面図
である。図4はハンド機構40の側面図である。上記ハ
ンド機構40は、支持板41を備え、支持板41上の両
端部には、所定間隔を有して固定された側板42R,4
2Lが立設されている。側板42R,42Lの間には、
互いに平行なガイド部材43が架設されている。
【0025】また、側板42R,42Lの間には、ボー
ルネジBNx1,BNx2,BNx3が互いに並行に架
設されている。ボールネジBNx1,BNx2,BNx
3は、一端部で側板42Lに形成したネジ貫通孔42L
aを貫通すると共に、他端部で側板42Rに回転自在に
支持されている。
【0026】支持板41上の一端部上には、モータMx
1,Mx2,Mx3が載置固定されている。このモータ
Mx1,Mx2,Mx3は、ボールネジBNx1,BN
x2,BNx3の端部にそれぞれ連結されて、これらを
回転駆動するものである。
【0027】また、ボールネジBNx1,BNx2,B
Nx3には、第1ないし第3アーム機構50x1,50
x2,50x3がそれぞれ連結されている。第1ないし
第3アーム機構50x1,50x2,50x3は、両側
のガイド部材43により方向Xにガイドされると共に、
モータMx1,Mx2,Mx3の駆動により方向Xへ移
動するものである。
【0028】第1ないし第3アーム機構50x1,50
x2,50x3は、ほぼ同じ構成であるから、第1アー
ム機構50x1を代表して説明する。
【0029】上記第1アーム機構50x1は、ガイド部
材43に対して方向Yへ配置された支持板51x1を備
えている。支持板51x1は、ガイド孔52を備え、こ
のガイド孔52にガイド部材43がそれぞれ嵌挿される
ことにより水平状態に支持されている。また、支持板5
1x1は、ボールネジBNx1に螺合している。したが
って、モータMx1の駆動によりボールネジBNx1が
回転すると、支持板51x1は、方向Xに移動すること
になる。
【0030】支持板51x1上には、ピン移動機構60
x1が固定されている。図5ないし図7はピン移動機構
60x1を示し、図5は斜視図、図6は平面図、図7は
図6のb−b線に沿った断面図である。なお、ピン移動
機構60x1は、方向Yに対して縮尺して表わしてい
る。これらの図に示すように、上記ピン移動機構60x
1は、枠体61を備え、この枠体61にピン移動部62
a及びピン移動部62bが形成されている。
【0031】ピン移動部62aは、ガイド溝63aと、
ガイド溝63a内に架設されたボールネジBNy1a
と、ボールネジBNy1aの一端部に固定されたモータ
My1aと、ボールネジBNy1aに螺合されたピン移
動体66aと、を備えている。上記ピン移動体66a
は、ガイド溝63aにスライド可能に嵌合する嵌合部6
7aと、嵌合部67aの上部から水平方向へ突設された
上ガイド部68aと、上ガイド部68a上に突設され基
板Wの下面を支持するピンP1a(基板保持部材)と、
を備えている。
【0032】また、ピン移動部62bも、ピン移動部6
2aとほぼ同様な構成であり、ガイド溝63bと、ボー
ルネジBNy1bと、モータMy1bと、ピン移動体6
6bと、を備えている。ピン移動体66bは、嵌合部6
7bと、上ガイド部68bと、ピンP1bと、を備えて
いる。なお、ガイド溝63b及びボールネジBNy1b
の長さは、方向Yにおいてガイド溝63a及びボールネ
ジBNy1aの約半分である。
【0033】このピン移動機構60x1の構成により、
ピン移動部62aのモータMy1aが正転または逆転駆
動されると、ボールネジBNy1aが回転し、この回転
によりガイド溝63aに拘束されたピン移動体66aが
方向Yへ移動する。したがって、ピン移動体66a上の
ピンP1aも一体的に移動することになる。また、ピン
移動部62bも、モータMy1bの駆動により、ボール
ネジBNy1bが回転し、ピン移動体66bを介してピ
ンP1bも移動する。このとき、ピンP1bは、方向Y
においてピンP1aの半分の移動距離である。
【0034】このハンド機構40は、図8のブロック図
にて示す電子制御装置70により制御される。電子制御
装置70は、基板サイズ設定部71と、パターン配置設
定部72と、基板支持ピン位置設定部73と、基板支持
ピン位置制御部74と、を備えている。
【0035】基板サイズ設定部71は、基板Wのサイズ
を各コーナーの座標として設定するものであり、例え
ば、テンキー等の手動入力手段や、前段の装置からデー
タとして受け取って座標データとして出力するものであ
る。
【0036】図9は基板Wに対して設定された座標を示
す。基板サイズ設定部71は、基板Wの座標として、基
板Wの中心を原点(0,0)として定め、基板Wのコー
ナーの値として、(xs,ys)、(xs,−ys)、
(−xs,ys)、(−xs,−ys)を出力するもの
である。
【0037】パターン配置設定部72は、基板W上に形
成されるパターンWp1,Wp2(図9では1点鎖線で
示す。)の個数、各パターンWp1,Wp2の各コーナ
ーの座標、パターンWp1,Wp2が形成されない部分
の幅などのデータを入力すると、基板Wの表面上のパタ
ーンWp1,Wpの有効エリアの位置を座標として出力
する。このパターン配置設定部72も、テンキーによる
入力手段や前段の装置からデータとして受け取る構成と
することができる。
【0038】例えば、パターン配置設定部72は、(x
a,ya)、(xa,yb)、(−xa,yb)、(−
xa,yb)という上側のパターンWp1の各コーナー
の座標と、(xa,−yb)、(xa,−ya)、(−
xa,yb)、(−xa,−ya)という下側のパター
ンWp2の各コーナーの座標を出力する。
【0039】基板サイズ設定部71及びパターン配置設
定部72から出力されるデータは、それぞれ基板支持ピ
ン位置設定部73に入力される。基板支持ピン位置設定
部73は、入力されたデータに基づいて演算を行ない、
合計6個のピンP1a〜ピンP3bの移動する位置をそ
れぞれ求める。この基板支持ピン位置設定部73から出
力されるデータは、基板支持ピン位置制御部74に入力
され、ここからモータMx1〜Mx3、及びモータMy
1a,My1b等を駆動してピンP1a〜ピンP3bを
移動する。
【0040】すなわち、ピンP1aは、モータMx1及
びモータMy1aの駆動により、ピンP1bは、モータ
Mx1及びモータMy1bの駆動により、ピンP2a
は、モータMx2及びモータMy2aの駆動により、ピ
ンP2bは、モータMx2及びモータMy2bの駆動に
より、ピンP3aは、モータMx3及びモータMy3a
の駆動により、ピンP3bは、モータMx3及びモータ
My3bの駆動により、それぞれ所望の位置に移動させ
ることができる。
【0041】したがって、ハンド機構40では、ピンP
1a〜P3bを所望の位置に移動させることができ、つ
まり、基板WのパターンWp1,Wp2のない位置で、
かつ基板Wの撓みにくい位置に、ピンP1a〜P3bを
移動させることができる。したがって、基板Wが大きく
撓み易い薄いものであっても、基板Wを撓みの小さい状
態でピンP1a〜P3bで支持することができ、装置の
フレーム等に接触したりすることがなく、また、処理部
との受け渡し作業を確実に行なうことができる。
【0042】図10及び図11は、基板WのパターンW
pに応じてピンP1a〜P3bを最適な位置に移動した
例である。図10(A)では、1つのパターンWpの外
周縁部に、ピンP1a〜P3bを配置し、図10(B)
では、縦方向に2分割されたパターンWp1,Wp2を
有するものであり、ピンP2a,P2bをパターンWp
1,Wp2の間であって、中間座標位置に配置してい
る。また、図11(A)の3分割のパターンWp1〜W
p3や図11(B)、図11(C)の多分割のパターン
に対しても、ピンP1a〜P3bを適切に配置すること
ができる。
【0043】図12及び図13は他の実施例を示す。本
実施例は、基板支持部材として、ピンを移動する構成の
代わりに、パッドを用い、このパッドを空気圧により上
下方向へ進退させることにより選択的に所望位置に配置
したものである。これらの図において、ハンド機構40
Bには、上下方向に進退可能な基板支持部Ptが配置さ
れている。この基板支持部Ptは、1列目に基板支持部
Pt1a,Pt1bが配置され、2列目に基板支持部P
t2a〜Pt2eが配置され、3列目に基板支持部Pt
3a,Pt3bが配置されている。各基板支持部Ptは
同じ構成であり、これを図13に断面で示す。
【0044】図13に示すように、基板支持部Pt1a
は、上面に向けて開口する凹所102内に形成されてお
り、2層の円形のダイヤフラム104A,104Bから
形成した可撓性の円板状部材104と、この円板状部材
104上に形成されると共に、基板Wを直接支持するフ
ッ化物製樹脂のリング状のパッド106と、を備える。
【0045】各ダイヤフラム104A,104Bは、例
えばシリコンゴムなどの弾性体から成形したものであ
り、外周が凹所102の側壁に固定され、外圧がかかっ
ていないときは、ともに上向きに凹状態となっている
(図13(A))。上側のダイヤフラム104Aの中央
には、吸引口108が形成されている。したがって、上
下のダイヤフラム104A,104Bの空間を吸引減圧
することにより、パッド106上に載置された基板Wを
吸引して確実に保持することができる。また、下側のダ
イヤフラム104Bの下方には、凹所102の底面との
間に閉空間110が形成されている。この閉空間110
に加圧空気を供給することにより、上下のダイヤフラム
104A,104Bが上向きに凸状態となり、ハンド機
構40Bの上面からパッド106の上端が突出する(図
13(B))。なお、上下のダイヤフラム104A,1
04Bの間隔は、適当な構造物によって一定に保たれて
いるので、下側のダイヤフラム104Bの上昇にともな
って上側のダイヤフラム104Aも上昇し、パッド10
6の上端もハンド機構40Bの上面から突出する。この
際、上下のダイヤフラム104A,104B間の空間を
減圧しても、上下のダイヤフラム104A,104Bの
間隔を一定に保つ構造によって、上側のダイヤフラム1
04Aも上向きに凸状態を維持するので、ハンド機構4
0Bの上面からパッド106の上端が突出し、基板Wを
支持する(図13(C))。
【0046】各基板支持部Ptは、図示しない電磁バル
ブの開閉制御でそれぞれ独立に加圧または減圧すること
により、各パッド106を上下動作させることができ、
それに応じて基板Wの下面を支持したり、支持しなかっ
たりする。図14(A)〜(C)及び図15(A)〜
(C)は、各基板支持部Ptで選択的に基板Wを支持し
た種々の例を示し、黒丸が基板Wを支持している基板支
持部Ptを、白丸が基板Wを支持していない基板支持部
Ptを示す。この実施例では、基板支持部Ptのうち、
基板のパターンWpに応じて2列目の基板支持部Pt2
a〜Pt2dでの支持状態を変更することにより、基板
Wを大きく撓ませないで、パターンのない部分を下面か
ら支持することができる。
【0047】なお、この発明は上記実施例に限られるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の
態様において実施することが可能である。
【0048】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかる請
求項1の基板搬送装置によれば、基板の下面を支持する
複数の基板支持部材を備え、各基板支持部材を移動機構
により基板の下面と平行な方向へそれぞれ移動して、最
適な位置で基板を支持させることにより、薄く大きな基
板であっても、撓みを小さくすることができる。よっ
て、撓みが大きくなって基板が装置のフレーム等に接触
したりすることがなく、また、処理部との受け渡し作業
を確実に行なうことができる。
【0049】請求項2によれば、制御手段により、基板
サイズと基板の上面に形成されるパターンの配列とに応
じて、パターンが形成されない領域に各基板支持部材を
それぞれ移動することにより、基板のパターンに悪影響
を与えないようにすることができる。
【0050】請求項3によれば、各基板支持部材に対
し、基板の下面を支持する支持位置と、基板の下面を支
持しない非支持位置とにそれぞれ切り換える切換手段を
設けることにより、各基板支持部材による基板の下面の
支持位置の変更を好適に実現したものである。
【0051】請求項4では、各基板支持部材を支持位置
と非支持位置とにそれぞれ切り換える切換手段を好適に
実現することができる。
【0052】請求項5は、基板の下面を支持して、上述
した請求項1と同様な効果を奏する基板搬送方法を提供
することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る基板搬送装置を適用した基板洗浄
装置を示す概略斜視図。
【図2】基板搬送装置を示す斜視図。
【図3】基板搬送装置のハンド機構を示す平面図。
【図4】ハンド機構を示す側面図。
【図5】ピン移動機構60x1を示す斜視図。
【図6】ピン移動機構60x1を示す平面図。
【図7】図6のb−b線に沿った断面図。
【図8】ピン移動機構60x1を制御する電子制御装置
70を示すブロック図。
【図9】ピンで基板を支持した状態を説明する説明図。
【図10】ピンで他の基板を支持した状態を説明する説
明図。
【図11】ピンでさらに別の基板を支持した状態を説明
する説明図。
【図12】他の実施例に係る基板支持部を備えたハンド
機構を示す説明図。
【図13】基板支持部を説明する説明図。
【図14】基板支持部で基板を支持した状態を説明する
説明図。
【図15】基板支持部で別の基板を支持した状態を説明
する説明図。
【図16】従来のハンド機構で基板を支持した状態を説
明する説明図。
【図17】図16のa−a線に沿った断面図。
【符号の説明】
3…基板搬送装置 5…搬送ハンド 33…搬送ロボット 34…ロボット本体 40…ハンド機構 40B…ハンド機構 60x1…ピン移動機構 62a…ピン移動部 62b…ピン移動部 70…電子制御装置 71…基板サイズ設定部 72…パターン配置設定部 73…基板支持ピン位置設定部 74…基板支持ピン位置制御部 106…パッド Pt…基板支持部 Pt1a,Pt1b…基板支持部 Pt2a〜Pt2e…基板支持部 Pt3a,Pt3b…基板支持部 P1a,P1b,P2a,P2b,P3a,P3b…ピ
ン W…基板 Wp1〜Wp3…パターン

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板をその下面側から支持して搬送する
    基板搬送装置において、 基板搬送ハンド本体と、 基板搬送ハンド本体上に複数カ所設けられ、基板の下面
    を支持する基板支持部材と、 各基板支持部材を、それぞれ、支持される基板の下面と
    平行な方向に移動させる移動機構と、 を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、基板サイズと基板の
    上面に形成されるパターンの配列とに応じて、パターン
    が形成されない領域に、各基板支持部材の位置を設定す
    る制御手段を有する基板搬送装置。
  3. 【請求項3】 基板をその下面側から支持して搬送する
    基板搬送装置において、 基板搬送ハンド本体と、 基板搬送ハンド本体上に、基板の下面を支持するように
    複数配置された基板支持部材と、 各基板支持部材を、それぞれ、基板の下面を支持する支
    持位置と、基板の下面を支持しない非支持位置とに切り
    換える切換手段と、 を備えたことを特徴とする基板搬送装置。
  4. 【請求項4】 請求項3において、切換手段は、基板支
    持部材の支持位置を、非支持位置よりも上方に突出させ
    る機構を有する基板搬送装置。
  5. 【請求項5】 基板を複数の基板支持部材により、基板
    の下面側から支持して搬送する基板搬送方法において、 基板の上面に形成されるパターンの位置に応じて、パタ
    ーンが形成されない領域に各基板支持部材の位置を設定
    して基板を支持して搬送することを特徴とする基板搬送
    方法。
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