JP2006244742A - 電子顕微鏡試料支持用マイクログリッド及び電子顕微鏡試料の作製方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 マイクログリッドが有する試料を載置するための支持膜の破損の可能性を低減し、また、試料の表裏等の区別を容易にできるマイクログリッド及び電子顕微鏡用試料の作製方法を提供する。
【解決手段】 メッシュ12を支持するための支持枠11が、支持膜13における当該試料15を載置するための面よりも凸状の形状を有することにより、当該支持膜の周縁部を当該支持枠によって保護することから、当該マイクログリッド10に加わる衝撃や、当該支持膜に試料を載置する際に、当該試料を載置するためのガラスプローブ等の部材の誤動作による、当該支持膜の周縁部からの破損を抑制する。
【選択図】 図1
【解決手段】 メッシュ12を支持するための支持枠11が、支持膜13における当該試料15を載置するための面よりも凸状の形状を有することにより、当該支持膜の周縁部を当該支持枠によって保護することから、当該マイクログリッド10に加わる衝撃や、当該支持膜に試料を載置する際に、当該試料を載置するためのガラスプローブ等の部材の誤動作による、当該支持膜の周縁部からの破損を抑制する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、電子顕微鏡試料を載置するためのマイクログリッド及び電子顕微鏡試料の作製方法に関する。
電子顕微鏡用の試料は、リフトアウト法によりマイクログリッドに載置される。マイクログリッドを電子顕微鏡の試料台にセットすることにより、透過型電子顕微鏡等による観察が行われる。当該試料は、薄片状の形状を有するため、作業中にマイクログリッドに衝撃等が加わる等の原因により、当該マイクログリッドに載置されていた試料を紛失してしまうことがあった。
試料の紛失を防ぐために、例えば、特許文献1では、マイクログリッドに載置された試料の周辺に、集束イオンビーム法を用いてタングステン等の金属を堆積させることにより、当該マイクログリッドに固定する方法が開示されている。
しかしながら、上記の方法でマイクログリッドに試料を固定しても、例えば、マイクログリッドを誤って落下させてしまった場合、マイクログリッドが有する試料を載置するための支持膜が、落下した衝撃で、当該支持膜の周縁部から破損し、結果的に試料を紛失する可能性がある。または、ガラスプローブの誤操作により、支持膜の周縁部に傷が入り、支持膜が破損する場合もある。
一方、両面に支持膜を有するダブルグリッドの場合は、支持膜の破損によって試料を噴出する可能性は低くなる。しかし、試料に支持膜の残留物が付着するため、電子顕微鏡観察後、例えば、試料を成分分析する際に、当該残留物により正確な分析ができなくなる。また、試料の観察等において、当該試料の表裏等が区別できなくなる可能性がある。
本発明の目的は、マイクログリッドが有する試料を載置するための支持膜の破損の可能性を低減し、また、試料の表裏等の区別を容易にできるマイクログリッド及び電子顕微鏡用試料の作製方法を提供することにある。
上記の課題を解決するために、本発明は、電子顕微鏡観察用の試料を支持するためのマイクログリッドであって、メッシュと、前記メッシュを支持するための支持枠と、前記試料を載置するための支持膜とを有し、前記支持枠は、前記支持膜の周縁部を保護すべく、前記支持膜における前記試料を載置する面よりも凸状の形状を有することを要旨とする。
本発明に係るマイクログリッドによれば、メッシュを支持するための支持枠が、支持膜における当該試料を載置するための面よりも凸状の形状を有することにより、当該支持膜の周縁部を当該支持枠によって保護することから、当該マイクログリッドに加わる衝撃や、当該支持膜に試料を載置する際に、当該試料を載置するためのガラスプローブ等の部材の誤動作による当該支持膜の周縁部からの破損を抑制することができる。したがって、試料の紛失を低減することができる。
また、本発明は、電子顕微鏡観察用の試料を支持するためのマイクログリッドであって、メッシュと、前記メッシュを支持する第1の支持枠と、前記試料を載せるための支持膜と、前記第1の支持枠に取り付けられた前記支持枠と略同型の第2の支持枠と、前記第2の支持枠を前記第1の支持枠に重ね合わせて、前記支持膜の周縁部を保護すべく、前記第1の支持枠が有する前記試料を載置する面よりも凸状の形状にするように前記第2の支持枠を前記第1の支持枠へ折り畳む折畳手段と、を有することを要旨とする。
本発明に係るマイクログリッドによれば、第1の支持枠と略同型の第2の支持枠を第1の支持枠に重ね合わせて、支持膜における当該試料を載置するための面よりも凸状の形状にするように、第2の支持枠を第1の支持枠に折り畳むことにより、当該支持膜の周縁部を当該第2の支持枠によって保護することから、当該マイクログリッドに加わる衝撃や、当該支持膜に試料を載置する際に、当該試料を載置するためのガラスプローブ等の部材の誤動作による当該支持膜の周縁部からの破損を抑制することができる。したがって、試料の紛失を低減することができる。
また、本発明は、上記のマイクログリッドであって、前記メッシュに、前記試料の方向の識別をするための識別部を有することを要旨とする。
本発明に係るマイクログリッドによれば、メッシュに試料の方向を識別するための識別部を有することにより、当該マイクログリッドを電子顕微鏡観察する際に、試料の表裏、上下及び左右等の方向をより確実に識別することができる。
また、本発明は、上記のマイクログリッドであって、前記支持枠に前記試料の方向の識別をするための識別部を有することを要旨とする。
本発明に係るマイクログリッドでも、上記のマイクログリッドと同様に、試料の方向をより確実に識別することができる。
また、本発明は、メッシュと、前記メッシュを支持する第1の支持枠と、前記試料を載せるための支持膜と、前記第1の支持枠に取り付けられた前記支持枠と略同型の第2の支持枠と、前記第2の支持枠を前記第1の支持枠に重ね合わせて、前記支持膜の周縁部を保護すべく、前記第1の支持枠が有する前記試料を載置する面よりも凸状の形状にするように、前記第2の支持枠を前記第1の支持枠へ折り畳む折畳手段と、を有するマイクログリッドを用いた電子顕微鏡観察用の試料の作製方法であって、前記折畳手段により、前記支持膜の周縁部を保護すべく、前記第1の支持枠に前記第2の支持枠を重ね合わせるように折り畳む工程と、前記第2の支持枠が折り畳まれた前記支持膜の面側に前記試料を載置する工程と、を有することを要旨とする。
本発明に係る電子顕微鏡観察用の試料の作製方法によれば、第1の支持枠と略同型の第2の支持枠を第1の支持枠に重ね合わせて、支持膜における当該試料を載置するための面よりも凸状の形状にするように、第2の支持枠を第1の支持枠に折り畳んだ後に、支持膜に試料を載置することにより、当該支持膜の周縁部を当該第2の支持枠によって保護することから、当該支持膜に試料を載置する際に、当該試料を載置するためのガラスプローブ等の部材の誤動作による、当該支持膜の周縁部からの破損を抑制することができる。したがって、試料の紛失を低減することができる。
本発明における実施形態では、マイクログリッドに載置された主に透過型電子顕微鏡(以下「TEM(Transmission Electron Microscope)」という。)用の試料の紛失を低減するために、マイクログリッドが有する支持膜が破損する可能性を低減させるマイクログリッド及び電子顕微鏡用の試料の作製方法について主に説明する。
(第1実施形態)
本発明に係る第1実施形態を図1を参照して説明する。図1(a)は、本実施形態におけるマイクログリッドの模式平面図を示し、図1(b)は、同図(a)のA−A線におけるマイクログリッドの模式断面図を示す。
本発明に係る第1実施形態を図1を参照して説明する。図1(a)は、本実施形態におけるマイクログリッドの模式平面図を示し、図1(b)は、同図(a)のA−A線におけるマイクログリッドの模式断面図を示す。
マイクログリッド10は、円筒状の支持枠11を備えている。支持枠11の内側には、支持枠11により固定されている格子状のメッシュ12を備えている。支持枠11及びメッシュ12は、金属材料で形成されており、Cu(銅)等を主に用いている。
支持枠11の内側のメッシュ12の上には、試料15を載置するための支持膜13が形成されている。支持膜13は、コロジオン膜やカーボン膜等で形成されている。コロジオン膜とは、低硝化度セルロースのことであり、作製が比較的容易である。一方、カーボン膜は、電子線照射に強い、導電性を有する、耐熱性、耐薬品性に優れる等の利点がある。しかし、支持膜13自体が薄膜であるため、コロジオン膜もカーボン膜も、衝撃等で破損しやすいという欠点を有する。
メッシュ12には、TEM観察用の試料15の方向を識別するための第1の識別部14a及び第2の識別部14bが形成されている。第1の識別部14a及び第2の識別部14bは、三角形状であり、メッシュ12と同じ材料で形成されている。第1の識別部14aは、試料15の左右の方向を識別し、第2の識別部14bは、試料15の上下の方向を識別する。
支持膜13に試料15を載置する面側の支持枠11には、第3の識別部14cが形成されている。第3の識別部14cは、例えば支持枠11の表面に形成されている刻印でもよいし、他の適当な材料で形成されていてもよい。第3の識別部14cは、試料15の表裏を識別する。
図1(b)に示すように、マイクログリッド10の断面構造において、支持枠11は、支持膜13の試料15を載置する面よりも上に凸状に形成されている。すなわち、支持膜13の周縁部は、マイクログリッド10の外部と直接接しないように保護されている。支持膜13の上のメッシュ12が配置されていない領域、すなわちメッシュ12の間には試料15が載置されている。
マイクログリッド10が有する支持膜13上に試料15を載置する方法について説明する。支持膜13の上に試料15を載置する方法として、リフトアウト法を用いている。リフトアウト法とは、集束イオンビーム(以下「FIB(Forcused Ion Beam)」という。)装置(図示せず)を用いて、TEM観察すべきバルクの試料から直接、試料15を作製する方法である。
バルク試料から10μm角程度の領域をFIBで100nm以下に薄片化し、TEM観察用の試料15を形成する。次に、マニピュレータ付きの光学顕微鏡(図示せず)を用いて、薄片化された試料15をマニピュレータを用いて取り出す。マニピュレータには、数μmφのガラスプローブ(図示せず)が取り付けられている。ガラスプローブ先端に静電気を発生させ、当該静電気によって、ガラスプローブの先端に試料15を取り付ける。先端に試料15が取り付いているガラスプローブを、マニピュレータにより操作して、マイクログリッド10の支持膜13の上に試料15を載置する。
上記のリフトアウト法では、薄片の試料15を先端が数μmφの細いガラスプローブで操作するため、マイクログリッド10の支持膜13の所望の場所に試料15を載置するようになるには、通常、ある程度の熟練が必要である。したがって、支持膜13の上に試料15を載置する作業において、熟練していない作業者が、上記のリフトアウト法で、従来のマイクログリッドに試料15を載置する作業をした場合、支持膜13の周縁部が保護されていないため、ガラスプローブの誤作動等によって、破損させる可能性が高い。
本実施形態のマイクログリッド10では、メッシュ12を支持するための支持枠11が支持膜13における試料15を載置するための面よりも凸状の形状を有することにより、支持膜13の周縁部を支持枠11が保護している。したがって、支持膜13に試料15を載置する際に、試料15を載置するためのガラスプローブ等の誤動作による、支持膜13の周縁部からの破損を低減することができる。したがって、支持膜13を破損をさせずにTEM観察用の試料15を作製することができる。
また、マイクログリッド10に加わる衝撃による支持膜13の周縁部からの破損を抑制できる効果も得られる。したがって、試料15の紛失を低減することができ、試料15の紛失による試料の再作製等の余分な作業の発生を低減させることができる。
また、マイクログリッド10は、メッシュ12には第1の識別部14a及び第2の識別部14bを有し、支持枠11には第3の識別部14cを有することにより、第1の識別部14a及び第2の識別部14bにより、試料15の上下左右の方向を、第3の識別部で試料15の表裏を識別できる。したがって、マイクログリッド10をTEMにセットする際に、試料15を載置している面を間違える可能性が低減する。また、マイクログリッド10に複数の試料15を載置している場合、第1の識別部14a及び第2の識別部14bを目印として、TEM観察中に観察すべき試料15を特定することが容易になる。
また、従来のダブルグリッド型のマイクログリッドを用いて試料15を固定する方法と異なり、試料15の表面は支持膜13等と直接接触させることがない。したがって、TEM観察後、例えば試料15の成分分析などの定性分析または定量分析において、支持膜13との接触による試料15の表面の不純物による汚染の影響をほとんど受けることなくTEM観察後に、試料15を他の分析装置でより正確に分析することができる。
(第2実施形態)
本発明に係る第2実施形態を図2を参照して説明する。図2(a)は、本実施形態で用いられる第1の支持枠と第2の支持枠を有するマイクログリッドの模式平面図を示す。
本実施形態で用いられるマイクログリッド20は、第1の支持枠21と第2の支持枠25と2つの支持枠を有する。
本発明に係る第2実施形態を図2を参照して説明する。図2(a)は、本実施形態で用いられる第1の支持枠と第2の支持枠を有するマイクログリッドの模式平面図を示す。
本実施形態で用いられるマイクログリッド20は、第1の支持枠21と第2の支持枠25と2つの支持枠を有する。
第1の支持枠21と第2の支持枠25とは、折畳部24で連結されている。折畳部24は、第2の支持枠25を第1の支持枠21に折り畳むことができる部材、例えば蝶番または折り目等を用いて形成されている。
第1の支持枠21は、メッシュ22と、メッシュ22に形成されている第1の識別部27a及び第2の識別部27bと、メッシュ22の上に形成されている支持膜23とを有している。第1の支持枠21が有するメッシュ22、支持膜23、第1の識別部27a及び第2の識別部27b等の構造や形成されている材料等は、第1実施形態とほぼ同様であるので説明を割愛する。
一方、第2の支持枠25は、第1の支持枠21と異なり、その内部はメッシュ等が形成されておらず、空洞になっている。第2の支持枠25には、第1の支持枠21へ折り畳むための爪部26を有する。第2の支持枠25は、第1の支持枠21とほぼ同型状となっている。
図2(b)は、同図(a)のB−B線におけるマイクログリッドの模式断面図を示す。メッシュ22や支持膜23、第1の識別部27a等の構造は第1実施形態とほぼ同様である。また、第2の支持枠25は、上記に説明したとおり、内部は空洞となっている。
第1実施形態と異なる点は、第1の支持枠21が、従来のマイクログリッドと同様に、試料28(図2(d)を参照)を載置する面とほぼ同等の高さを有している。したがって、第1実施形態と異なり、第1の支持枠21は、支持膜23の周縁部を保護する機能を有していない。
図2(c)は、第2の支持枠を第1の支持枠へ折り畳んだ後のマイクログリッドの模式平面図を示す。マイクログリッド20は、折畳部24を有することにより、第2の支持枠25を第1の支持枠21へ折り畳む折畳手段を有している。
第2の支持枠25を第1の支持枠21に折り畳む工程では、第2の支持枠25が有する爪部26を持ち、例えば蝶番等で形成されている折畳部24を回動させることにより、第2の支持枠を第1の支持枠21へ重ね合わせる。この工程により、第1の支持枠21に形成されている支持膜23の周縁部が、第2の支持枠25により外部と接触しないようになる。
第2の支持枠25は、折畳工程により第1の支持枠21へ折り畳まれた際に、試料28の表裏を識別できるように、第3の識別部27cを予め形成してある。
第2の支持枠25は、折畳工程により第1の支持枠21へ折り畳まれた際に、試料28の表裏を識別できるように、第3の識別部27cを予め形成してある。
図2(d)は、試料を載置した後のマイクログリッドの模式平面図を示す。試料28を支持膜23に載置する工程は、第1実施形態と同様に、リフトアウト法を用いる。
図2(e)は、同図(d)のC−C線におけるマイクログリッドの模式断面図を示す。上記に説明したように、第2の支持枠25により、第1の支持枠が有する支持膜23は外部と接触しないように保護されている。すなわち、第2の支持枠25により、支持膜23の周縁部が保護されているので、第1実施形態における効果と同様に、支持膜23に試料28を載置する際に、ガラスプローブ等の誤動作による、支持膜23の周縁部からの破損を低減することができる。したがって、支持膜23を破損をさせずにTEM観察用の試料28を作製することができる。
また、第2実施形態におけるマイクログリッド20は、第2の支持枠25及び折畳部24がなければ、従来のマイクログリッドとほぼ同様の構造なので、第1の支持枠及び支持膜を有するマイクログリッド20自体の作製は、従来の作製方法とほぼ同じ条件で作製できる。
(変形例1)
第1実施形態及び第2実施形態で用いられるメッシュ及び支持枠にはCuを用いているが、Cuだけに限らず、Mo(モリブデン)、Al(アルミニウム)、Ti(チタン)、Pt(白金)等も用いられる。支持枠とメッシュとは、通常は一体形成されるので、同じ金属材料で形成される場合が多いが、別の材料で形成されていてもよい。
第1実施形態及び第2実施形態で用いられるメッシュ及び支持枠にはCuを用いているが、Cuだけに限らず、Mo(モリブデン)、Al(アルミニウム)、Ti(チタン)、Pt(白金)等も用いられる。支持枠とメッシュとは、通常は一体形成されるので、同じ金属材料で形成される場合が多いが、別の材料で形成されていてもよい。
(変形例2)
第1実施形態及び第2実施形態におけるメッシュは、格子状に形成されているが、格子状に限らず、スリット形状や、蜂の巣状の形状のものを使用してもよい。
第1実施形態及び第2実施形態におけるメッシュは、格子状に形成されているが、格子状に限らず、スリット形状や、蜂の巣状の形状のものを使用してもよい。
(変形例3)
第1実施形態及び第2実施形態では、識別部は三角形状に形成されているが、この形状に限らず、試料の方向を識別可能な形状であればよい。例えば、アルファベット文字のような形状のものでもよい。
第1実施形態及び第2実施形態では、識別部は三角形状に形成されているが、この形状に限らず、試料の方向を識別可能な形状であればよい。例えば、アルファベット文字のような形状のものでもよい。
(変形例4)
第1実施形態及び第2実施形態では、試料の左右、上下、表裏を識別できるように第1の識別部、第2の識別部及び第3の識別部が形成されているが、試料の形状やその他の方法によって、試料の所定の方向がわかる場合には、識別部を減らしてもよい。また、支持膜に同じ形状を有する複数の試料を載置する場合には、試料をそれぞれ識別しやすくするために、識別部を増やしてもよい。
第1実施形態及び第2実施形態では、試料の左右、上下、表裏を識別できるように第1の識別部、第2の識別部及び第3の識別部が形成されているが、試料の形状やその他の方法によって、試料の所定の方向がわかる場合には、識別部を減らしてもよい。また、支持膜に同じ形状を有する複数の試料を載置する場合には、試料をそれぞれ識別しやすくするために、識別部を増やしてもよい。
(変形例5)
第1実施形態及び第2実施形態では、試料の方向を識別するための識別部を、メッシュ及び支持枠の両方に形成しているが、どちらか一方にだけ形成してもよい。
第1実施形態及び第2実施形態では、試料の方向を識別するための識別部を、メッシュ及び支持枠の両方に形成しているが、どちらか一方にだけ形成してもよい。
(変形例6)
第1実施形態及び第2実施形態では、試料の加工方法としてFIBを用いたリフトアウト法を用いているが、リフトアウト法だけに限らず、ミクロトーム法やイオンミリング法を用いてもよい。
第1実施形態及び第2実施形態では、試料の加工方法としてFIBを用いたリフトアウト法を用いているが、リフトアウト法だけに限らず、ミクロトーム法やイオンミリング法を用いてもよい。
10…マイクログリッド、11…支持枠、12…メッシュ、13…支持膜、14a…第1の識別部、14b…第2の識別部、14c…第3の識別部、15…試料、20…2つの支持枠を有するマイクログリッド、21…第1の支持枠、22…メッシュ、23…支持膜、24…折畳部、25…第2の支持枠、26…爪部、27a…第1の識別部、27b…第2の識別部、27c…第3の識別部、28…試料。
Claims (5)
- 電子顕微鏡観察用の試料を支持するためのマイクログリッドであって、
メッシュと、
前記メッシュを支持するための支持枠と、
前記試料を載置するための支持膜と、
を有し、
前記支持枠は、前記支持膜の周縁部を保護すべく、前記支持膜における前記試料を載置する面よりも凸状の形状を有する、マイクログリッド。 - 電子顕微鏡観察用の試料を支持するためのマイクログリッドであって、
メッシュと、
前記メッシュを支持する第1の支持枠と、
前記試料を載せるための支持膜と、
前記第1の支持枠に取り付けられた前記支持枠と略同型の第2の支持枠と、
前記第2の支持枠を前記第1の支持枠に重ね合わせて、前記支持膜の周縁部を保護すべく、前記第1の支持枠が有する前記試料を載置する面よりも凸状の形状にするように前記第2の支持枠を前記第1の支持枠へ折り畳む折畳手段と、
を有するマイクログリッド。 - 請求項1または2に記載のマイクログリッドであって、
前記メッシュに、前記試料の方向の識別をするための識別部を有するマイクログリッド。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載のマイクログリッドであって、
前記支持枠に前記試料の方向の識別をするための識別部を有するマイクログリッド。 - メッシュと、
前記メッシュを支持する第1の支持枠と、
前記試料を載せるための支持膜と、
前記第1の支持枠に取り付けられた前記支持枠と略同型の第2の支持枠と、
前記第2の支持枠を前記第1の支持枠に重ね合わせて、前記支持膜の周縁部を保護すべく、前記第1の支持枠が有する前記試料を載置する面よりも凸状の形状にするように、前記第2の支持枠を前記第1の支持枠へ折り畳む折畳手段と、
を有するマイクログリッドを用いた電子顕微鏡観察用の試料の作製方法であって、
前記折畳手段により、前記支持膜の周縁部を保護すべく、前記第1の支持枠に前記第2の支持枠を重ね合わせるように折り畳む工程と、
前記第2の支持枠が折り畳まれた前記支持膜の面側に前記試料を載置する工程と、
を有する電子顕微鏡観察用の試料の作製方法。
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