JP2006222419A - 電気光学調整器を使用するシステム及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】システム及び方法は、動的に制御可能な光学要素のアレイを使用して、そこを通過して伝播するビームの1つ又は複数の部分を調節する。例えば、調節は、ビームの一部分中の水平と垂直に偏光された光の比を変化させることとすることができる。調節は、適切な電場を光学要素のそれぞれに加えることによって、実施することができ、それは、電気光学調整器になる。一実施例では、偏光器/検光器が、アレイの後に配置され、したがって所望の方向だけが送られる。偏光することは、それによって所望の光度プロフィールが得られ、例えば、ビーム全体にわたって強度を均一にすることができ、或いはビームを部分的又は完全に減衰(例えば遮断)するために使用することができる。
【選択図】図1
Description
具体的な構成及び配置が議論されるが、これは、例示の目的だけで行われていることを理解すべきである。当業者は、本発明の精神及び範囲を逸脱せずに、他の構成及び配置を使用することができることを認識するはずである。この発明は、他の様々な応用で使用することができることも、当業者に明らかなはずである。
図1に、発生器104による電場Eを受ける光学要素102を含んだシステム100を示す。Z軸に対して平行に示されているが、電場Eは、適切に発生器104を配置することによって、x’軸に(例えばページ中へ)平行に、又はy’軸に平行にすることもできるはずである。これら及び他の構成は、本発明の範囲内に含まれると考えられる。ここで示した実施例では、電場は、光学要素102中を進む放射ビーム106の伝播方向に対して垂直である。光学要素102の隅部に、X、Y、及びZ方向での光学要素102の方向を示す。光学要素102に電場を加えることによって、電気光学調整器が形成され、それは、この実施例では、所与の偏光状態を有したビーム106の偏光状態を調整して、偏光が調整された出力ビーム108を生成するために、使用することができる。x’及びz方向に沿ったビーム106の成分の波面又は位相が、加える電場によってその方向の屈折率を変化させることによって、調整される。したがって、水平及び垂直方向に偏光されたビーム106の比は、電場の印加に基づき変化させることができる。
図2、3、及び4に、本発明の様々な実施例による、電気光学調整器200、300、及び400のアレイ220、320、及び420を示す。図2、3、及び4に示すビームの数、サイズ、及び/又は形状は、単に例示するものであり、電気光学調整器のアレイを使用する具体的な応用に基づく様々な実施例によって、異なる形状及びサイズとすることができ、或いは複数のビームとすることができることを理解すべきである。
図5、6、及び7に、本発明の様々な実施例による、電気光学調整器700上の電極722/726の様々な配置について、それぞれ端面図、側面図、及び斜視図を示す。上記に述べた実施例では、電極は、1つ又は複数の電気光学調整器の2つの対向する側面、又は対向する側面の2つのセットのいずれかに結合された。しかし、図5、6、及び7に示すように、複数の電極722/726は、電気光学調整器700の各側面に結合することができる。これは、調整器700を通って伝播する1つ又は複数の放射ビーム(図示せず)の制御性を高めるために、実施することができる。この斜視図では水平に示されているが、垂直に結合された電極を使用することもできる。
図8に、本発明の一実施例による光度均一システム800を示す。システム800は、電気光学調整器802のアレイと、検光器804(例えば、強度均一制御検光器)(偏光器としても知られ、そう呼ばれる)とを含む。放射ビーム808の個々の部分806−1から806−n(nは、1より大きい、又はそれに等しい正の整数)が、調整器802上に衝突する。一実施例では、ビーム806のビーム部分808が、修正されて出力ビーム810−1から810−nを形成する。出力ビーム810は、偏光器804上に衝突し、修正されて出力ビーム812−1から812−nを形成することができる。
図9、10、及び11に、本発明の様々な実施例による、電気光学調整器をその中に有した様々なリソグラフィ・システム900、1000、及び1100を示す。これらのシステムでは、照射システム902/1002/1102からの放射が、パターン発生器904/1004/1104を照射してパターン形成された光を生成し、それは、パターン発生器904/1004/1104から投影システム908/1008/1108を経由して工作物906/1006/1106に向けられる。
図12に、本発明の一実施例による方法1200を表すフローチャートを示す。ステップ1202で、動的に制御可能な光学要素のアレイ中の各光学要素内の屈折率が、光学要素のそれぞれに加えられたそれぞれの電場を使用して、変更される。ステップ1204で、光学要素のそれぞれを通って伝播するビームのそれぞれの部分の偏光状態が、屈折率の変化に基づき、変更される。ステップ1206で、ビームの部分のそれぞれが、偏光を変化させるステップの後で検出される。ステップ1208で、加えた電場が、検出するステップに基づき、調節される。
X、Y、Z 座標軸
α、β 角度
100 システム、電気光学調整器
102 光学要素
104 発生器
106 放射ビーム
108 出力ビーム
110 矢印
112 偏光器
114 矢印
116 検出器、フィードバック・システム
118 フィードバック経路、フィードバック・システム
119 制御信号、フィードバック・システム
200 電気光学調整器、光学要素
206 ビーム
220 アレイ
222 電極
224 支持部
300A 電気光学調整器
300B 電気光学調整器
320 アレイ
324 支持部
326 電極
328 点線
400 電気光学調整器
420A アレイ
420B アレイ
420C アレイ
422 電極
426 電極
700 電気光学調整器
722 電極
726 電極
800 光度均一システム、システム
802 アレイ
802−1〜802−n 電気光学調整器、要素
804 検光器、偏光器
806 ビーム
806−1〜806−n 部分
808 放射ビーム、ビーム部分
808−1〜808−n 入力ビーム、位置、部分
810 出力ビーム
810−1〜810−n 出力ビーム
812 出力ビーム
812−1〜812−n 修正された出力ビーム、部分
900 リソグラフィ・システム
902 照射システム
904 パターン発生器
906 対象物
908 投影システム
910 光源
912 照射オプティックス
914 オプティックス
916 光
920 検出器
922 制御器
924 制御信号
1000 リソグラフィ・システム
1002 照射システム
1004 パターン発生器
1005 ビーム・スプリッタ
1006 対象物
1008 投影システム
1010 光源
1012 照射オプティックス
1014 オプティックス
1016 光
1018 フィードバック・システム
1020 検出器
1022 制御器
1024 制御信号
1100 リソグラフィ・システム
1102 照射システム
1104 パターン発生器
1106 対象物
1108 投影システム
1110 光源
1112 照射オプティックス
1114 オプティックス
1116 光
1118 フィードバック・システム
1120 検出器
1122 制御器
1124 制御信号
1200 方法
1300 方法
1400 方法
Claims (23)
- リソグラフィ・ツール中で使用するための電気光学調整器を含むシステムにおいて、
入力光ビームを受光し、偏光状態が変化した少なくとも1つの出力ビームを生成する少なくとも1つの光学要素と、
前記少なくとも1つの光学要素に結合された電極の少なくとも1つのペアと、
前記電極の少なくとも1つのペアに電気信号を加える制御システムとを含むシステムであって、
前記電気信号の前記印加が、前記少なくとも1つの出力ビームの前記変化した偏光状態を生成するシステム。 - 前記電極の少なくとも1つのペアの第1及び第2の電極が、前記光学要素の対向する側面上に使用され、したがって前記少なくとも1つの出力ビームの複数のビームが生成される、請求項1に記載のシステム。
- 前記1つ又は複数の光学要素の少なくとも2つが、前記少なくとも1つの出力ビームの少なくとも2つを生成するために、使用される、請求項1に記載のシステム。
- 放射ビームを生成する照射装置と、
前記ビームをパターン形成し、対物面上に位置するパターン発生器と、
前記パターン形成されたビームを基板の対象部分上に投影し、瞳面を含んだ投影システムとをさらに含み、
前記調整器が、前記対物面又は瞳面の少なくとも1つの中に位置する、請求項1に記載のシステム。 - 前記少なくとも1つの出力ビームの少なくとも一部分を検出し、前記制御システムへ送られるフィードバック信号をそこから発生するために配置されたフィードバック・システムをさらに含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つの出力光ビームを受光し、均一な強度プロフィールを有した第2の出力ビームをそこから生成するために配置された検光器をさらに含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つの出力光ビームを受光し、前記少なくとも1つの出力ビーム毎に所望の出力強度を有した第2の出力ビームを生成するために配置された検光器をさらに含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記調整器の後に配置された光学システムと、
前記光学システムの瞳の実際のシグマ値を測定し、前記制御システムへ送られる制御信号を発生する検出器とをさらに含む、請求項1に記載のシステム。 - 前記制御システムが、前記光学システムのクリーンアップ開口部又は開口数を調節して、所望のシグマ値を生成する、請求項8に記載のシステム。
- 前記少なくとも1つの光学要素のアレイをさらに含み、
前記アレイ中の前記少なくとも1つの光学要素のそれぞれが、前記少なくとも1つの出力ビームのそれぞれの部分の偏光状態を変化させるために使用される、請求項1に記載のシステム。 - 前記リソグラフィ・システムが、半導体ウェハ、又はフラット・パネル表示基板の1つを露光するために使用される、請求項1に記載のシステム。
- 請求項1に記載の前記システムを使用した、フラット・パネル表示装置の形成。
- リソグラフィ・ツール中で電気光学調整器を使用するための方法において、
少なくとも1つの光学要素を使用して、入力ビームの偏光状態を変化させて、少なくとも1つの出力ビームを生成するステップと、
前記少なくとも1つの光学要素に電極の少なくとも1つのペアを結合するステップと、
制御システムを使用して、前記電極の少なくとも1つのペアに送られる電気信号を制御するステップとを含む方法であって、
前記電気信号の前記印加が、前記少なくとも1つの出力ビームの前記変化した偏光状態を生成する方法。 - 前記少なくとも1つの出力ビームの複数のビームが生成されるように、前記光学要素の対向した側面上で使用される、前記電極の少なくとも1つのペアの第1及び第2の電極を結合するステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。
- 前記1つ又は複数の光学要素の少なくとも2つを使用して、前記少なくとも1つの出力ビームの少なくとも2つを生成するステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。
- フィードバック・システムを使用して、前記少なくとも1つの出力ビームの少なくとも一部分を検出するステップと、
前記制御システムに送られる前記検出するステップからのフィードバック信号を発生するステップとをさらに含む、請求項13に記載の方法。 - 前記少なくとも1つの出力光ビームを受光し、均一な強度プロフィールを有した第2の出力ビームをそこから生成する検光器を配置するステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの出力光ビームを受光し、前記少なくとも1つの出力ビーム毎に所望の出力強度を有した第2の出力ビームを生成する検光器を配置するステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。
- 前記調節器の後に光学システムを配置するステップと、
前記光学システムの瞳の実際のシグマ値を測定するステップと、
前記制御するステップ中に使用される制御信号を、前記測定するステップに基づき発生するステップとをさらに含む、請求項13に記載の方法。 - 前記制御システムが、前記光学システムのクリーンアップ開口部又は開口数を調節して、所望のシグマ値を生成する、請求項19に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの光学要素のアレイを形成するステップをさらに含み、
前記アレイ中の前記少なくとも1つの光学要素のそれぞれが、前記少なくとも1つの出力ビームのそれぞれの部分の偏光状態を変化させるために使用される、請求項13に記載の方法。 - 半導体ウェハ又はフラット・パネル表示基板の1つを露光するために、前記リソグラフィ・システムを使用するステップをさらに含む、請求項13に記載の方法。
- 請求項22に記載の前記方法を使用した、フラット・パネル表示装置の形成。
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