JP2006215422A5

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Info

Publication number: JP2006215422A5
Application number: JP2005030088A
Authority: JP
Filing date: 2005-02-07
Publication date: 2008-01-31
Anticipated expiration: 2025-02-07

Claims

基体の表面にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜の少なくとも一部を露光し、現像することにより、前記レジスト膜の表面に複数の凸部と抜気用凹部とを形成する工程と、
前記レジスト膜にフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜の表面にフォトマスクを密着させる工程と、
前記レジスト膜表面に形成した複数の前記凸部の中の一部に対して所要のパターンを露光する工程と、
前記レジスト膜を現像する工程とを含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。
複数の前記凸部と前記抜気用凹部とを形成する工程において、
複数の前記凸部を形成すべき領域の前記レジスト膜に対して異なる露光量により露光し、現像することにより、複数の前記凸部の中の少なくとも一部の表面を粗面化することを特徴とする請求項１に記載のレジストパターン形成方法。
非磁性基体の表面にレジスト膜を形成する第１の工程と、
前記レジスト膜の少なくとも一部を露光し、現像することにより、前記レジスト膜の表面に複数の凸部と抜気用凹部とを形成する第２の工程と、
前記レジスト膜にフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜の表面にフォトマスクを密着させる第３の工程と、
前記レジスト膜に対して露光し、現像を行うことにより、前記レジスト膜表面に形成した複数の前記凸部の中の一部に対して所要のパターンに対応したレジストパターンを形成する第４の工程と、
前記非磁性基体上の前記レジストパターンおよび露出している前記非磁性基体表面に対して強磁性薄膜を堆積する第５の工程と、
前記レジストパターンを除去するとともに、前記レジストパターンの表面に堆積した前記強磁性薄膜を同時に除去することで、前記非磁性基体表面上に情報信号に対応した強磁性薄膜パターンを形成する第６の工程とを含むことを特徴とするマスター情報担体の製造方法。
非磁性基体の表面にレジスト膜を形成する第１の工程と、
前記レジスト膜の少なくとも一部を露光し、現像することにより、前記レジスト膜の表面に複数の凸部と抜気用凹部とを形成する第２の工程と、
前記レジスト膜にフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜の表面にフォトマスクを密着させる第３の工程と、
前記レジスト膜に対して露光し、現像を行うことにより、前記レジスト膜表面に形成した複数の前記凸部の中の一部に対して所要のパターンに対応したレジストパターンを形成する第４の工程と、
前記非磁性基体上の前記レジストパターンをマスクにして前記非磁性基体をエッチングして、前記非磁性基体表面に前記レジストパターンに対応した基体凹所を形成する第５の工程と、
前記基体凹所および前記レジストパターンを含む前記非磁性基体の表面に強磁性薄膜を堆積する第６の工程と、
前記レジストパターンを除去するとともに、前記レジストパターンの表面に堆積した前記強磁性薄膜を同時に除去して、前記非磁性基体の表面に情報信号に対応した強磁性薄膜パターンを形成する第７の工程とを含むことを特徴とするマスター情報担体の製造方法。
非磁性基体の表面に強磁性薄膜を堆積する第１の工程と、
前記強磁性薄膜の表面にレジスト膜を形成する第２の工程と、
前記レジスト膜の少なくとも一部を露光し、現像することにより、前記レジスト膜の表面に複数の凸部と抜気用凹部とを形成する第３の工程と、
前記レジスト膜にフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜の表面にフォトマスクを密着させる第４の工程と、
前記レジスト膜を露光し、現像を行うことにより、前記レジスト膜表面に形成した複数の前記凸部の中の一部に対して所要のパターンに対応したレジストパターンを形成する第５の工程と、
前記レジストパターンをマスクにして前記強磁性薄膜をエッチングする第６の工程と、
前記レジストパターンを除去して前記非磁性基体表面に情報信号に対応した強磁性薄膜パターンを形成する第７の工程とを含むことを特徴とするマスター情報担体の製造方法。
複数の前記凸部に対して異なった露光量で露光し、現像することにより、複数の前記凸部の中の少なくとも一部の表面を粗面化する工程を含むことを特徴とする請求項３から請求項５までのいずれかに記載のマスター情報担体の製造方法。
非磁性基体上に情報信号に対応する強磁性薄膜パターンが形成されたマスター情報担体を製造する工程と、
前記マスター情報担体を磁気記録媒体の表面に対向配置した状態で外部磁界を印加し、前記強磁性薄膜パターンに対応する磁化情報を前記磁気記録媒体に記録する工程とを備えた磁気記録媒体の製造方法であって、
前記マスター情報担体を製造する工程は、前記強磁性薄膜パターンを形成するためのレジストパターン形成工程を含んでおり、
前記レジストパターン形成工程は、非磁性基体の表面にレジスト膜を形成する工程と、
前記レジスト膜の少なくとも一部を露光し、現像することにより、前記レジスト膜の表面に複数の凸部と抜気用凹部とを形成する工程と、
前記レジスト膜にフォトマスクを重ねた状態で、前記抜気用凹部を介して真空引きすることにより、前記レジスト膜の表面にフォトマスクを密着させる工程と、
前記レジスト膜表面に形成した複数の前記凸部の中の一部に対して所要のパターンを露光し、現像する工程を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。