JP2006210623A - 照明光学系及びそれを有する露光装置 - Google Patents

照明光学系及びそれを有する露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006210623A
JP2006210623A JP2005020401A JP2005020401A JP2006210623A JP 2006210623 A JP2006210623 A JP 2006210623A JP 2005020401 A JP2005020401 A JP 2005020401A JP 2005020401 A JP2005020401 A JP 2005020401A JP 2006210623 A JP2006210623 A JP 2006210623A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
reticle
illumination
telecentricity
exposure apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2005020401A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2006210623A5 (ko
Inventor
Ayako Katono
綾子 上遠野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2005020401A priority Critical patent/JP2006210623A/ja
Publication of JP2006210623A publication Critical patent/JP2006210623A/ja
Publication of JP2006210623A5 publication Critical patent/JP2006210623A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
JP2005020401A 2005-01-27 2005-01-27 照明光学系及びそれを有する露光装置 Withdrawn JP2006210623A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005020401A JP2006210623A (ja) 2005-01-27 2005-01-27 照明光学系及びそれを有する露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005020401A JP2006210623A (ja) 2005-01-27 2005-01-27 照明光学系及びそれを有する露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006210623A true JP2006210623A (ja) 2006-08-10
JP2006210623A5 JP2006210623A5 (ko) 2008-03-21

Family

ID=36967126

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005020401A Withdrawn JP2006210623A (ja) 2005-01-27 2005-01-27 照明光学系及びそれを有する露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006210623A (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011029672A (ja) * 2003-05-22 2011-02-10 Canon Inc 露光方法、露光装置及びデバイス製造方法
JP2014200920A (ja) * 2013-04-01 2014-10-27 キヤノン株式会社 ノズルチップの製造方法
JP2018519535A (ja) * 2015-05-21 2018-07-19 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影装置を作動させる方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011029672A (ja) * 2003-05-22 2011-02-10 Canon Inc 露光方法、露光装置及びデバイス製造方法
JP2014200920A (ja) * 2013-04-01 2014-10-27 キヤノン株式会社 ノズルチップの製造方法
JP2018519535A (ja) * 2015-05-21 2018-07-19 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影装置を作動させる方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4352458B2 (ja) 投影光学系の調整方法、予測方法、評価方法、調整方法、露光方法及び露光装置、露光装置の製造方法、プログラム並びにデバイス製造方法
US7468781B2 (en) Exposure apparatus
JP2004111579A (ja) 露光方法及び装置
JP2006019702A (ja) 照明光学系及び露光装置
JP5595001B2 (ja) 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
TW200809919A (en) Exposure apparatus
JP2006245085A (ja) 投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、および露光方法
US6867845B2 (en) Mask and projection exposure apparatus
JP2006173305A (ja) 露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法
JP2008292801A (ja) 露光装置および方法
CN110095946B (zh) 投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法
JP2006210623A (ja) 照明光学系及びそれを有する露光装置
JP4296701B2 (ja) 投影光学系，該投影光学系を備えた露光装置，及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法
JP4147574B2 (ja) 波面収差計測方法、投影光学系の調整方法及び露光方法、並びに露光装置の製造方法
JP3715751B2 (ja) 残存収差補正板及びそれを用いた投影露光装置
JP2007158224A (ja) 露光方法
JP2002139406A (ja) 光学特性計測用マスク、光学特性計測方法、及び露光装置の製造方法
JP2007287885A (ja) 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2003045795A (ja) 光学特性計測方法、投影光学系の調整方法及び露光方法、並びに露光装置の製造方法
JP2003100612A (ja) 面位置検出装置、合焦装置の調整方法、面位置検出方法、露光装置及びデバイスの製造方法
JP5225433B2 (ja) 照明光学系及び露光装置
TWI695231B (zh) 曝光裝置和物品製造方法
JP2008108851A (ja) 照明装置及び当該照明装置を有する露光装置、並びに、デバイス製造方法
JP2006078592A (ja) 投影光学系及びそれを有する露光装置
JP2004266125A (ja) 投影露光装置及び投影露光方法、並びにデバイス製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080123

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080123

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20100216