JP2006210404A5 - - Google Patents

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また、緻密化工程で得られたTiO−SiO緻密体は、ガラス化工程を行わずに成形工程を行うことで、ガラス化工程を省略できる。すなわち、成形工程でガラス化と成形を同時に行うことができる
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EP06700922A EP1841702A2 (en) 2005-01-25 2006-01-13 PROCESS FOR PRODUCING SILICA GLASS CONTAINING TiO2, AND OPTICAL MATERIAL FOR EUV LITHOGRAPHY EMPLOYING SILICA GLASS CONTAINING TiO2
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US11/747,698 US20070207911A1 (en) 2005-01-25 2007-05-11 Process for producing silica glass containing tio2, and optical material for euv lithography employing silica glass containing tio2
US12/466,032 US20090242387A1 (en) 2005-01-25 2009-05-14 Process for producing silica glass containing tio2, and optical material for euv lithography employing silica glass containing tio2

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Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5035516B2 (ja) * 2005-12-08 2012-09-26 信越化学工業株式会社 フォトマスク用チタニアドープ石英ガラスの製造方法
US20070293388A1 (en) * 2006-06-20 2007-12-20 General Electric Company Glass articles and method for making thereof
JP2008100891A (ja) * 2006-10-20 2008-05-01 Covalent Materials Corp チタニア−シリカガラス
JP2009013048A (ja) * 2007-06-06 2009-01-22 Shin Etsu Chem Co Ltd ナノインプリントモールド用チタニアドープ石英ガラス
JP5042714B2 (ja) * 2007-06-06 2012-10-03 信越化学工業株式会社 ナノインプリントモールド用チタニアドープ石英ガラス
WO2009034954A1 (ja) * 2007-09-13 2009-03-19 Asahi Glass Co., Ltd. TiO2含有石英ガラス基板
TW200940472A (en) * 2007-12-27 2009-10-01 Asahi Glass Co Ltd TiO2-containing silica glass
JP5470703B2 (ja) * 2007-12-27 2014-04-16 旭硝子株式会社 Euvl用光学部材およびその表面処理方法
JP5314901B2 (ja) * 2008-02-13 2013-10-16 国立大学法人東北大学 シリカ・チタニアガラス及びその製造方法、線膨張係数測定方法
JP5365247B2 (ja) * 2008-02-25 2013-12-11 旭硝子株式会社 TiO2を含有するシリカガラスおよびそれを用いたリソグラフィ用光学部材
KR20100116639A (ko) 2008-02-26 2010-11-01 아사히 가라스 가부시키가이샤 TiO₂ 함유 실리카 유리, 고에너지 밀도를 사용한 EUV 리소그래피용 광학 부재 및 특수 온도 제어된 TiO₂ 함유 실리카 유리의 제조 방법
JP5417884B2 (ja) * 2008-02-27 2014-02-19 旭硝子株式会社 TiO2を含有するシリカガラスおよびそれを用いたリソグラフィ用光学部材
JP5417889B2 (ja) * 2008-02-29 2014-02-19 旭硝子株式会社 TiO2を含有するシリカガラスおよびそれを用いたリソグラフィ用光学部材
JP5644058B2 (ja) * 2008-03-21 2014-12-24 旭硝子株式会社 TiO2を含有するシリカガラス
JP2009274947A (ja) * 2008-04-16 2009-11-26 Asahi Glass Co Ltd TiO2を含有するEUVリソグラフィ光学部材用シリカガラス
JP2011162359A (ja) * 2008-05-29 2011-08-25 Asahi Glass Co Ltd TiO2を含有するシリカガラスおよびそれを用いたリソグラフィ用光学部材
JP5202141B2 (ja) * 2008-07-07 2013-06-05 信越化学工業株式会社 チタニアドープ石英ガラス部材及びその製造方法
US20100107696A1 (en) * 2008-10-30 2010-05-06 John Edward Maxon Method for reducing inclusions in silica-titania glass
US8735308B2 (en) 2009-01-13 2014-05-27 Asahi Glass Company, Limited Optical member comprising TiO2-containing silica glass
JP5630268B2 (ja) * 2009-01-13 2014-11-26 旭硝子株式会社 TiO2を含有するシリカガラスからなる光学部材
WO2010098352A1 (ja) 2009-02-24 2010-09-02 旭硝子株式会社 多孔質石英ガラス体の製造方法およびeuvリソグラフィ用光学部材
CN102421713A (zh) 2009-05-13 2012-04-18 旭硝子株式会社 TiO2-SiO2玻璃体的制造方法及热处理方法、TiO2-SiO2玻璃体、EUVL用光学基材
JPWO2010134449A1 (ja) * 2009-05-18 2012-11-12 旭硝子株式会社 TiO2−SiO2ガラス体の製造方法及び熱処理方法、TiO2−SiO2ガラス体、EUVL用光学基材
JP2012181220A (ja) * 2009-07-02 2012-09-20 Asahi Glass Co Ltd ArFリソグラフィ用ミラー、およびArFリソグラフィ用光学部材
DE102010039779A1 (de) * 2009-08-28 2011-03-24 Corning Inc. Glas mit geringer wärmeausdehnung für euvl-anwendungen
JP5806121B2 (ja) * 2010-02-03 2015-11-10 旭硝子株式会社 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法
US8541325B2 (en) * 2010-02-25 2013-09-24 Corning Incorporated Low expansivity, high transmission titania doped silica glass
DE102010009589B4 (de) * 2010-02-26 2011-12-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie
WO2012005333A1 (ja) * 2010-07-08 2012-01-12 旭硝子株式会社 TiO2含有石英ガラス基材およびその製造方法
US20120026473A1 (en) * 2010-07-29 2012-02-02 Michael Lucien Genier Highly reflective, hardened silica titania article and method of making
JP2011051893A (ja) * 2010-11-29 2011-03-17 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ナノインプリントモールド用チタニアドープ石英ガラス
DE102011085358B3 (de) * 2011-10-28 2012-07-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Anordnung für die EUV-Lithographie und Verfahren zum Konfigurieren einer solchen optischen Anordnung
JP6039207B2 (ja) * 2012-03-23 2016-12-07 Hoya株式会社 Euvリソグラフィー用多層反射膜付き基板の製造方法及びeuvリソグラフィー用反射型マスクブランクの製造方法、euvリソグラフィー用反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法
JP5935765B2 (ja) * 2012-07-10 2016-06-15 信越化学工業株式会社 ナノインプリントモールド用合成石英ガラス、その製造方法、及びナノインプリント用モールド
JP6263051B2 (ja) * 2013-03-13 2018-01-17 Hoya株式会社 ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法
JP6066802B2 (ja) * 2013-03-29 2017-01-25 Hoya株式会社 マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法
JP2017536323A (ja) 2014-11-26 2017-12-07 コーニング インコーポレイテッド 低膨張率を有するドープされたシリカ−チタニアガラスおよびその製造方法
JP2016113356A (ja) * 2014-12-12 2016-06-23 旭硝子株式会社 予備研磨されたガラス基板表面を仕上げ加工する方法
JP6931729B1 (ja) * 2020-03-27 2021-09-08 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE438752A (ja) * 1939-04-22
US5410428A (en) * 1990-10-30 1995-04-25 Shin-Etsu Quartz Products Co. Ltd. Optical member made of high-purity and transparent synthetic silica glass and method for production thereof or blank thereof
US5364433A (en) * 1991-06-29 1994-11-15 Shin-Etsu Quartz Products Company Limited Optical member of synthetic quartz glass for excimer lasers and method for producing same
JP2879500B2 (ja) * 1992-06-29 1999-04-05 信越石英株式会社 エキシマレーザー用合成石英ガラス光学部材及びその製造方法
JPH11302025A (ja) * 1998-04-23 1999-11-02 Asahi Glass Co Ltd 合成石英ガラス光学部材およびその製造方法
JP4493060B2 (ja) * 1999-03-17 2010-06-30 信越石英株式会社 エキシマレーザー用光学石英ガラスの製造方法
JP3608654B2 (ja) * 2000-09-12 2005-01-12 Hoya株式会社 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク
US8047023B2 (en) * 2001-04-27 2011-11-01 Corning Incorporated Method for producing titania-doped fused silica glass
US7053017B2 (en) * 2002-03-05 2006-05-30 Corning Incorporated Reduced striae extreme ultraviolet elements
JP5367204B2 (ja) * 2003-04-03 2013-12-11 旭硝子株式会社 TiO2を含有するシリカガラスおよびEUVリソグラフィ用光学部材
DE102004015766B4 (de) * 2004-03-23 2016-05-12 Asahi Glass Co., Ltd. Verwendung eines SiO2-TiO2-Glases als strahlungsresistentes Substrat
EP2241538B1 (en) * 2004-07-01 2013-05-29 Asahi Glass Company, Limited Silica glass containing TiO2 and process for its production

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