JP2006204683A - 化学汚染物質、特定悪臭成分や細菌類などの分解除去装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下部から被処理ガスを導入し上部に上昇せしめ、上部から循環浄水を落下させて両者を対向的に接触させた反応塔に、紫外線照射装置7をその内部に設けた装置を、化学汚染物質、特定悪臭成分や細菌類などの分解除去装置として使用すること。
【選択図】図1
Description
紫外線照射装置をその内部に有する反応塔を有する装置を上記分解除去処理に使用することである。
(イ)下部から被処理ガスを導入し上部に上昇せしめ、上部から循環浄水を落下させて両者を対向的に接触させて、被処理ガス中の不純物を除去する反応塔に
(ロ)紫外線照射装置を付設した装置を、
(ハ)上記ガス中の化学汚染物分解除去や細菌の不活化等に使用すること
により解決される。
図1は本発明分解除去装置の望ましい具体例の一例の縦断面図であり、(1)は反応塔、(2)は被処理ガス導入用パイプであり、このパイプ(2)には下部に向けてガスを放出する放出口(13)が複数個設けられている
(3)は反応塔下部に設けられた循環洗浄水の貯水部であり、循環パイプ(4)を介して反応塔(1)の上部より下部に向けて、複数個の散水口(14)から洗浄水が散水される。なお循環水の供給量を調節するための循環パイプ(4)にバルブと流量計(5)が設けられている。更に循環水の蒸発などによる減量を補給するための補給水供給口(14)が貯水部(3)に設けられている。
(イ)一つの反応塔内に紫外線照射装置、たとえば高出力低圧水銀ランプを複数本取り付け、望ましくは紫外線の所定の波長たとえば184.9や253.7nmの放射強度を高め、短時間で被処理ガス中の不純物や細菌類を分解除去したり、不活化することである。なお、紫外線照射により、不純物等の化学物質は分解や結合を行うものであり、これにより不純物を除去することが出来る。
(ロ)高出力低圧水銀ランプは、たとえば波長184.9nmでオゾンガスを生成することができる。このオゾンにより不純物や悪臭物質等を分解する。
(ハ)導入排気ガスなどを下部の貯水部に噴きつけて、ガスなどに湿度を与え、強力なラジカルの生成を促進する。
(ニ)湿度が不足の場合はにより、洗浄水を循環的に供給することにより、オゾンが反応性の富んだラジカル[遊離基](活性酸素種:ヒドロキシラジカル・ヒドロペルオキシラジカル・スーパーオキシド・発生期の酸素など)を豊富に生成せしめ更に反応効率を高める。
(ホ)導入排気ガスなどの汚染濃度が高い場合には、反応剤として酸化剤(たとえば過酸化水素、次亜塩素酸ソーダ、過マンガン酸カリウムなど)を別途注入することができ、ラジカルの生成の効果をさらに相乗的に高めることができる。
(ヘ)導入排気ガスなどのpHが中性を大きく離れる場合や変動する場合、又は反応生成物のpHを変化させたりする場合は、反応助剤としてpH調整剤、酸剤、アルカリ剤を適宜注入することができ、同様にラジカルの生成をさらに高めることができる。
光反応によるラジカル反応式
1.アンモニアによる窒素酸化物の紫外線還元分解反応(乾式選択還元反応)
UV波長253.7nm
(1)NOx+2X/3NH3=(3+2X)/6N2+XH2O
(2)6NO+4NH3 = 5N2+6H2O
(3)6NO2+8NH3 = 7N2+12H2O
UV波長253.7nm
(1)3O3+2NH3 = N2+3O2+3H2O
(2)O3+2NH3 = N2+3H2O
UV波長 184.9nm+253.7nm
(1)2NH3 +3HO・ = N2+6H2O+3H+
(2)2NH3 +6HO・ = N2+6H2O
(3)2NH3 +3O・ = N2+3H2O
(1)反応塔内に高出力低圧水銀ランプを少なくとも2本、好ましくは4〜6本設置することにより、紫外線の放射強度を高め導入排気ガス中に含まれる汚染物質の分解効率を飛躍的に向上させる。
(2)散水状態、噴霧状態、または加湿状態での紫外線放射によりオゾンなどの酸化剤に励起を与え、フッ素につぐ酸化還元電位の高いヒドロキシラジカルをより生成し易くし、反応効率を飛躍的に向上させる。
(4)反応塔内には原則として隔壁は無いが、必要に応じ第1室として汚染成分を含むガスなどを導入する入口部より下部水槽を含む範囲、第2室として加湿状態を作り、ラジカルの生成を促す範囲、第3室として第2室の上部に位置し残存の汚染成分をさらに分解するドライ状態の強い範囲で構成される反応塔とすることも出来る。
(い)被処理ガス中に含まれる汚染物質の分解効率を紫外線照射強度の可変 で飛躍的に向上させることが出来る。
(ろ)酸化剤に励起を与えラジカルを生成せしめ、これにより反応効率を飛躍的に向上させる。
(は)被処理ガス中に含まれる汚染物質の種類、濃度、及び紫外線の透過状態により本数と配置を決めるため、紫外線照射強度を自由にコントロールでき、極めて効率良く照射が出来る。
(に)被処理ガスを下方の貯水部と接触、たとえば吹き付けて、湿度を該ガスに与え、ラジカルの生成を一段と有効にし、汚染物質の分解を促進させることができる。
(ほ)被処理ガスを下方の水槽と接触させ、ガス温度を低下せしめ、酸化剤のラジカル化を有効にして汚染物質の分解を促進させることが出来る。
(へ)PHセンサー、オゾンセンサー、臭センサー等の各種センサーを使用することにより全自動運転が可能となる。
(と)装置全体がコンパクト設計なので設置スペースが少なくてすむ。
2 : 被処理ガス導入口
3 : 貯水部
4 : 循環用パイプ
5 : 補給水口
6 : 散水口
7 : 紫外線照射装置
8 : 処理ガスの排出口
9 : 反応剤供給装置
10: 反応助剤供給装置
11: 酸供給装置
12: アルカリ供給装置
13: 被処理ガス口
20: 反応塔
21: 被処理ガス導入口
22: 処理ガス排出口
23: 水銀ランプ
24: 水銀ランプ
25: 洗浄水(循環水)導入口
Claims (5)
- 紫外線照射装置をその内部に設けた反応塔を有することを特徴とする化学汚染物質、特定悪臭成分や細菌類などの分解除去装置
- (イ)下部から被処理ガスを導入して、上部に向けて上昇せしめ、上部から循環洗浄水を落下させて、両者を対向的に接触させて、被処理ガス中の不純物を除去する反応塔に、
(ロ)紫外線照射装置を、
(ハ)上記反応塔内部に設けたこと
を特徴とする化学汚染物質、特定悪臭成分や細菌類などの分解除去装置 - 上記反応塔の循環洗浄水用循環パイプに、酸化剤供給装置及び反応助剤供給装置の少なくとも1つを更に設けた請求項2に記載の分解除去装置
- 上記反応塔下部に循環水の貯水部を設けた請求項1乃至3のいずれかに記載の分解除去装置
- 上記反応助剤供給装置が更に酸供給装置とアルカリ供給装置とから成るものである請求項3に記載の分解除去装置
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