JP2006179863A - 回路配線複合基板 - Google Patents

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善仁 関
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義春 宇波
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Abstract

【課題】RPCとFPCとの複合構造体の総合的な厚さを低減して薄型化された回路配線複合基板を提供する。
【解決手段】 回路配線複合基板は、リジッド絶縁基板2aに回路配線層を設けた少なくとも一つのリジッド配線基板1aとフレキシブル絶縁基板12a、12bに回路配線層を設けたフィルム状の第1及び第2フレキシブル配線基板11a、11bとを有し、前記第1及び第2フレキシブル配線基板11a、11bはそれぞれ、前記リジッド配線基板の両板面にそれぞれ重ね合わせて固定された重ね合わせ部分Xa1、Xb1及び前記板面に重ね合わされない変形可能部分Ya、Ybを有し、前記リジッド配線基板とフレキシブル配線基板とが重なる位置に、これら各配線基板の各回路配線層を電気的に接続する少なくとも一つの層間導通路が貫通形成されている。
【選択図】図1

Description

本発明はリジッド配線基板とフレキシブル配線基板とを組み合わせた回路配線複合基板に係り、特に、携帯電話機やデジタルカメラなどの小型電子機器に装着するのに好適な回路配線複合基板に関する。
例えば携帯電話機やデジタルカメラなどのような小型電子機器は益々薄型化及び軽量化
の方向に進んでおり、それに連動するように、小さなケーススペースをもつ機器に装着する回路機能素子や回路配基板などの電子部品のコンパクト化や軽量化の方向に技術開発が進んでいる。
回路配線基板は機器機能要求が増加するに伴い多機能化が進むと共に狭隘化する前記機
器ケーススペースへの収納性に優れた構造が求められている。従来、このような構造に適
する配線基板の一例として、集積回路素子などの回路機能素子が主に実装される比較的剛
性の高いリジッド配線基板(以下RPCと称する)と主として内部回路接続路や伝送路な
どの役割を担い変形収納にも役立つ柔軟性のあるフレキシブル配線基板(以下FPCと称
する)とを組み合わせて構成された回路配線複合基板がある。
この従来の回路配線複合基板としては、その複合基板の厚さ方向の中心位置に前記FP
Cが配置され、その一部両面を挟むようにその両側にそれぞれRPCが配置された構造の
ものが使用されてきている。言い換えれば前記FPCが重ね合せにおけるコア部分となる
内層を構成し、前記RPCはFPCに対する外層を構成している。
また、これらRPCとFPCとの重ね合わせ部分には、RPC及びFPCの各配線層相
互の電気的接続を行うために、例えばドリルによりこれらの部材に対する貫通孔(スルー
ホール)が形成され、この貫通孔に例えば金属メッキを施して前記各配線層に対する層間
導通路が形成されている(例えば、特許文献1の図4のフレックスリジッド構造プリント
基板を参照)。
特開2003−133728号公報
ところで、前記従来の回路配線複合基板においては、前記RPC及びFPCに広く使用
されているこれらの絶縁基板はそれぞれ例えばガラスエポキシ樹脂材及びポリイミド樹脂
材で構成され、各絶縁基板のそれぞれの厚さがそれぞれ0.8mm程度及び数十μm程度
となっていて、RPCがFPCよりも遥かに厚いものとなっている。
このように厚い前記RPCがFPCの両面に重ね合わせされた構造では、その部分の厚
さが複合基板全体の中で最大厚となり、複合基板の総合的な厚さが厚く、両最外配線層間
の距離が大きくなるので、層間の導通信頼性を確保するためには、前記貫通孔内壁への前
記金属メッキの厚さを大きくする必要がある。
一般に、この厚い金属メッキを貫通孔に施す工程においては、同時にこのRPCの最外
配線層に対してもメッキが施され、最外配線層の層厚が大きくなってRPC外表面の全体
的な平坦度が低下し、次の配線パターニングを行いたいときに、ファインパターン形成が
得られ難いという問題があった。
更に、前記両RPCとFPCとの重なり部分が厚いことに起因して、前記ドリル等の加
工時間が長く、ドリル交換頻度が多くなり、貫通孔への厚い金属メッキ形成工程が長時間
化し、回路配線複合基板製造全体におけるプロセスタイムが大きくなり製品コストの増加
を招いている。
本発明は、前記問題点を解決するためになされたものであり、RPCとFPCとの複合
構造体の総合的な厚さを低減して薄型化された回路配線複合基板を提供する。
請求項1に記載の発明の回路配線複合基板は、リジッド絶縁基板に回路配線層を設けて形成された少なくとも一つのリジッド配線基板と、フレキシブル絶縁基板に回路配線層を設けて形成されたフィルム状の第1及び第2フレキシブル配線基板とを有する回路配線複合基板であって、前記第1及び第2フレキシブル配線基板はそれぞれ、前記少なくとも一つのリジッド配線基板の両板面にそれぞれ重ね合わせて固定された重ね合わせ部分及び前記板面に重ね合わされない変形可能部分を有し、かつ、前記リジッド配線基板とフレキシブル配線基板とが重なる位置に、これら各配線基板の各回路配線層を電気的に接続する少なくとも一つの層間導通路が貫通形成されていることを特徴とするものである。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の回路配線複合基板において、前記層間導通路は、前記第1、第2フレキシブル配線基板及び前記リジッド配線基板を貫通して設けられていることを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載の回路配線複合基板において、前記少なくとも一つのリジッド配線基板は、複合基板の厚さ方向に対して直交する方向に相互離間して並置された第1及び第2リジッド配線基板を備えて構成され、前記第1及び第2フレキシブル配線基板は、前記第1及び第2リジッド配線基板を橋渡しするように配置されていることを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明は、請求項1に記載の回路配線複合基板において、前記少なくとも一つのリジッド配線基板は、複合基板の厚さ方向に対して直交する方向に相互離間して並置された第1及び第2リジッド配線基板を備えて構成され、前記第1フレキシブル配線基板は、前記第1及び第2リジッド配線基板の各一方側の面を橋渡しするように配置され、前記第2フレキシブル配線基板は前記第1リジッド配線基板の他方側の面に重ね合わされ、前記第2リジッド配線基板の他方側の面に重ね合わされてないことを特徴とするものである。
請求項5に記載の発明の回路配線複合基板は、請求項3に記載された前記複合基板の厚さ方向に対して直交する方向に相互離間して並置された第1及び第2リジッド配線基板と前記第1及び第2リジッド配線基板を橋渡しするように配置された前記第1及び第2フレキシブル配線基板とからなる回路配線複合基板を第1の単位体とし、請求項4に記載された複合基板の厚さ方向に対して直交する方向に相互離間して並置された第1及び第2リジッド配線基板、前記第1及び第2リジッド配線基板の各一方側の面を橋渡しするように配置された前記第1フレキシブル配線基板、及び前記第2リジッド配線基板の他方側の面に重ね合わされ前記第1リジッド配線基板の他方側の面に重ね合わされない前記第2フレキシブル配線基板からなる回路配線複合基板を第2の単位体とし、前記第1及び第2単位体から任意に選択された複数の単位体を重ね合わせて構成され、前記フレキシブル配線基板の前記重ね合わせ部分の少なくとも一つは最外層に配置されていることを特徴とするものである。
請求項6に記載の発明の回路配線複合基板は、リジッド絶縁基板に回路配線層を設けて形成されたリジッド配線基板と、前記リジッド配線基板の片側面のみに重ね合わせて固定された重ね合わせ部分及び前記板面に重ね合わされない変形可能部分を有するフレキシブル配線基板と、前記重ね合わせ部分に貫通形成され、前記フレキシブル配線基板及びフレキシブル配線基板の回路配線層を電気的に接続する少なくとも一つの層間導電路とを備えていることを特徴とするものである。
請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の回路配線複合基板において、前記層間導通路は、前記フレキシブル配線基板及び前記リジッド配線基板を貫通して設けられていることを特徴とするものである。
請求項8に記載の発明は、請求項1乃至請求項7のいずれか一の請求項に記載の回路配線複合基板において、前記フレキシブル配線基板の前記変形可能部分の一部に他のリジッド配線基板が積層されていることを特徴とするものである。
請求項9に記載の発明は、請求項1乃至請求項8のいずれか一の請求項に記載の回路配線複合基板において、前記リジッド配線基板が複数のリジッド配線基板単板を積層して構成された多層積層構造となっていることを特徴とするものである。
請求項10に記載の発明は、請求項1乃至請求項9のいずれか一の請求項に記載の回路配線複合基板において、前記リジッド配線基板に重ね合わされたフレキシブル配線基板の少なくとも一部が複数のフレキシブル配線基板単板を積層して構成された多層積層構造となっていることを特徴とするものである。
請求項11に記載の発明は、請求項1乃至請求項10のいずれか一の請求項に記載の回路配線複合基板のおいて、フレキシブル配線基板の配線層が基板厚さ方向において一層配線構造とされていることを特徴とするものである。
請求項12に記載の発明は、請求項1乃至請求項11のいずれか一の請求項に記載の回路配線複合基板のおいて、前記フレキシブル配線基板の前記リジット配線基板との重ね合わせ部分の少なくとも一露出面に、電子部品装着用のランド部を有する配線層パターンが形成されていることを特徴とするものである。
本発明によれば、回路配線複合基板のコア部分をリジッド配線基板(RPC)で構成し
、そのリジッド配線基板の両板面に複数のフレキシブル配線基板(FPC)の接触部分を
それぞれ重ね合わせて固定支持させた構造とすることにより、回路配線複合基板中の最大
厚となるRPCとFPCとの重ね合わせ部の厚さ並びに複合基板の総合的厚さが従来技術
に比して大幅に低減される。
そのために、この複合基板が従来に比して薄型化されて益々狭隘化される電子機器ケー
ススペースへの収納性が改善され、層間導電路形成用の貫通孔の深さ及びそのメッキ層厚
を小さくできることにより、その加工プロセスタイムの短縮や回路配線複合基板に対する
次の配線パターンニングにおけるファインパターン形成が得られ易いなどの効果を奏する
以下に、本発明による回路配線複合基板の第1乃至第6の実施形態をそれぞれ図1乃至
図6を参照して説明する。
第1実施形態:
図1は本発明の第1の実施形態を示す回路配線複合基板の一部縦断斜視図であり、この
回路配線複合基板は回路機能素子が実装される比較的剛性の高い複数のリジッド配線基板
(RPC)例えば第1RPC 1a及び第2RPC 1bと、主として内部回路接続路や伝送路などの役割を担い変形収納にも対応可能な柔軟性のあるフィルム状の複数のフレキシブル配線基板(FPC)例えば第1FPC 11a及び第2FPC 11bとを組合わせて構成されている。
前記第1、第2RPCはこの複合基板の厚さ方向の中心位置にコア部分として配置され、複合基板の内層を構成し、前記各FPCは前記RPCの両面に重ね合わせて配置され、複合基板の外層を構成している。
前記第1、第2RPC 1a及び1bは、複合基板の厚さ方向に対して直交する方向に相互離間して並置され、いずれも例えばガラスエポキシ樹脂材を用いたリジッド絶縁基板2a及び2bの各両面に、プリント配線技術による銅箔の配線パターニングを施すことによって形成された複数の回路配線層3a及び3bを有する両面配線構造となっている。
前記第1及び第2FPC 11a及び11bは例えば対面状態で相対した位置関係にあって、いずれも前記RPC 1aと1bとを橋渡しする状態で、各RPCの上下両面にそれぞれ対向配置されている。前記第1及び第2FPCはフレキシブル絶縁基板12a及び12bの片面にプリント配線技術による銅箔の配線パターニングを施すことによって形成されたそれぞれ複数の回路配線層13a及び13bを有する片面配線構造となっている。
これらの配線層13a及び13bは、フレキシブル絶縁基板上にその板面に沿う横方向
、言い換えれば、板面に並行な方向で前記リジッド絶縁基板2a、2bの配置方向に対し
て直交する方向に複数の配線層として相互に並置されているが、この絶縁基板の厚さ方向
においてはいずれも一層配線構造として配置されている。
この一層配線構造の意味に関しては、その配線層が複数の導電性材料層を積み重ねて一
体化形成されたものであっても、同一機能を果たすものであれば実質的に一層の配線層の
構造とみなすことができる。
前記FPCのフレキシブル絶縁基板12a及び12bは、柔軟性のある例えばポリイミ
ド樹脂材を用いた表面平滑度の高いフィルムで形成されており、前記配線層13a、13
b及びこれら配線層側のフレキシブル絶縁基板12a、12b表面に柔軟性のある絶縁性
のカバーフィルム14a、14bが全体的に被覆されている。
このカバーフィルム14a、14bには例えばポリイミド樹脂が使用され、前記配線層
13a、13bの表面を保護するものであり、そのフィルム外表面が全体的に平坦とされ
ていて、このフィルム外表面は、その上に更に他の回路配線層を配線パターンニングによ
って形成する場合に、配線層がファインパターン形成されるような平滑かつ平坦な面に形
成されている。
前記第1及び第2FPC 11a及び11bは、第1及び第2RPC 1a、1bと重ね合わせてそれぞれ固定された重ね合わせ部分Xa1、Xa2及びXb1、Xb2を有し、前記RPCと重なり合わない変形可能部分Ya及びYbをそれぞれ有する。回路配線複合基板を電子機器へ収納したり組み込みする際に、前記FPCの変形可能部分Ya及びYbを彎曲或いは屈曲させるなど形状を自由に変形させることができる。特に、本実施形態のように前記FPC 11a及び11bがRPC 1a、1b間を橋渡しする構造であれば、前記変形可能部分YaとYbとの間が中空構造と同様の構造となることから屈曲性に優れたものとなる。
前記第1及び第2FPCの重ね合わせ部分Xa1、Xa2及びXb1、Xb2と第1及び第2RPC 1a、1bとの相互固定はこれら部材の熱プレスにより行われ、前記RPCのリジッド絶縁基板2a、2bに含まれる熱硬化性のエポキシ樹脂により相互接着固定されている。また、この相互接着は前記熱プレスに限らず、接着材によって行ってもよい。
ところで、情報伝送路の役割を担うFPCは機器に組み込まれる情報量が多くなるほど
その配線層の本数を増加させる必要がある。その情報量の処理に応えるために、前記従来
技術のコア部分としての単一のFPCにあっては、絶縁基板の片面のみならず両面に配線
層を設けざるを得なくなってFPCの剛性が増大し、FPCの変形の自在性が低下したが、本実施形態におけるFPCはリジッド配線基板1aと1bとに橋渡しされて相対し合う複数(例えば2枚)のFPC 11a及び11bを有するために、前述の片面配線構造でも多くの情報伝送路を取り込み易い構造となっている。
従って、本実施形態の各FPC 11a及び11bをいずれも片面配線の一層配線構造
とすることによって、それ自体の柔軟性及び高屈曲が可能な変形の自在性を保つことが可
能となり、複合基板のケーススペースへの収納容易性を維持或いは高めることができると
共により多くの情報伝送路の取り込みが容易となっている。そして前記FPCはその高屈
曲性により配線材としての信頼性が向上する。
また、前記FPC 11a及び11bは回路配線複合基板の最外層を構成する配置関係
にあるので、前記RPCに対応する位置に他の配線層を形成したい場合には、そのRPC
に重なる前記FPCの重ね合わせ部分Xa1、Xa2上に前記他の配線層を配線パターンニングによって形成することができる。
前記第1、第2RPC 1a、1bのガラスエポキシ製の絶縁基板においては、編合せガラス繊維にエポキシ樹脂が含浸され、繊維の網目状凹凸により絶縁基板表面及び配線層が凹凸をもち平坦性が悪い。そのために、従来技術のようにRPCを最外層配置した場合には配線層のファインパターン形成が得られ難い。本実施形態では前記FPCの重ね合わせ部分Xa1、Xa2の表面が平坦かつ平滑なために、最外層としての前記FPCの重ね合わせ部分に形成される配線層はファインパターン形成が容易であり、複数の配線層間ピッチの微細化が図れる。
前述のように、基板構造としては、その複合基板の内層を構成するコア部分として基板
厚さ方向の中心位置に第1、第2RPC 1a、1bが配置され、そのRPCの両面を挟んで複合基板の外層を構成するように薄厚の第1、第2FPC 11a、11bが配置された構造となっている。このために、回路配線複合基板中の最大厚となるRPCとFPCとの重ね合わせ部の厚さ並びに複合基板の総合的厚さが従来技術に比して大幅に低減される。
この厚さ比較を数値で示すと、厚さ約0.8mmのガラスエポキシ樹脂を用いたRPC
と厚さ約25μmのポリイミドフィルムを用いたFPCを使用した場合、絶縁基板の厚み
だけでみても、前記重ね合わせ部の厚さは約1.63mm(従来技術)から約0.85m
m(本実施形態)へとほぼ半減される。
このように、薄型化された複合基板は益々狭隘化される電子機器ケーススペースへの収
納性が従来に比して著しく改善される。特に、前記回路配線複合基板がFPCを高屈曲させて折り畳んで機器ケース内に装着される場合は、より一層大きな収納性の改善効果が得られる。
一般に、基板を重ね合わせた部分には、電気信号や電力供給のために基板間での導通を取る必要がある。具体的には、重ね合わせ部に貫通孔を設け、貫通孔内にメッキを施して層間導電路を形成することが行われる。
前記RPCとFPCとの重ね合わせ部に貫通孔を設け、貫通孔内にメッキを施して層間導電路を形成する場合、その重ね合わせ部の総厚が小さいことにより貫通孔形成が容易であり、そのメッキ層厚さを従来よりも小さくしても層間の導通信頼性は充分に得られる。
従って、その層間導電路を形成するためのプロセスタイムが従来に比して著しく短縮される。また、貫通孔内へのメッキ層厚さが小さくてよいので、メッキ工程において派生する回路配線複合基板の最外層の配線層へのメッキ層厚さも小さくなり、次に形成する配線層の配線パターンニングでのファインパターン形成が得られ易い。
更に、貫通孔加工時間の短縮、ドリルの長寿命化、メッキ時間の短縮などの効果が得ら
れ、これらの効果に相俟って完成品のコスト低減が図れる。
第2実施形態:
図2は本発明の第2の実施形態を示す回路配線複合基板の縦断面図であり、前記第1実
施形態におけるの回路配線複合基板の構成部材と実質的に機能が同一な部材には同一符号
を付してその説明を省略する。
本実施形態においては、一方の第1RPC 1aの図中右側方に離間して、別個に第3RPC 1cが並置されている。この第3RPC 1cは多層配線構造となっている。即ち、両面に複数の配線層3c1がそれぞれプリント配線された一層目のリジッド絶縁基板2c1上に、上表面に配線層3c2がプリント配線された二層目のリジッド絶縁基板2c2を積層して構成されている。
前記下方の第2FPC 11bは第1及び第3RPC 1a及び1cにそれぞれ対応する重ね合わせ部分Xb1及びXb3とこれら第1、第3RPC 1a、1cに対して重なり合わない変形可能部分Ybを有している。前記第3RPC 1cの下面は、前記第2FPC 11bの一方の重ね合わせ部分Xb3に部分的に重ね合わせて固定され、その上面はいずれのFPCとも非接触状態にある。
前記第1及び第2RPC 1a及び1bの上方に配置された第1FPC 11aは、第1実施形態と同様に、前記RPC 1a及び1bとの重ね合わせ部分Xa1及びXa2とこれらRPCに対して重なり合わない変形可能部分Yaを有している。前記第2RPC 1bの上面は一方の前記接触部分Xa2に重ね合わせて固定されている。前記第2RPC 1bの下面は、前記第2FPC 11bと重ね合わされておらず、いずれのFPCとも非接触状態にある。
また、図2の中央部に示された前記第1RPC 1aと前記各FPCの接触部分Xa1及びXb1との重ね合わせ部にはこれらを貫通する貫通孔THが設けられていて、この貫通孔TH内に金属メッキを施すことによって層間導通路4が形成されている。
このように、前記第2RPC 1b及び第3RPC 1cは、これらの一方の面が各FPC 11aと11bから空間的に開放されているために、基板厚さの薄いFPC或いは厚いRPCを自由に選択して使用することができる。そのために、一例として前述のように、より厚めに形成された多層配線構造の第3RPC 1cを組み込むことができ、様々な構造のRPCを組み込むことによって、複合基板のより多くのタイプの品揃えが可能となっている。
そして、複合基板のコア部分となる前記第1RPC 1a(図2の中央位置)を基点として、上面側の第1FPC 11a及び下面側の第2FPC 11bは、相互に異なる方向(図2では左右方向)など様々な方向に向けて配置できるので、従来に比してより多くのRPCとの組合せが可能となる。
更に、第2RPC 1bの上面側に実装される機能素子や配線などの回路要素と、前記第3RPC 1cの下面側に実装される回路要素とは、前記上面側の第1FPC 11a、前記層間導電路4及び前記下面側の第2FPC 11bを通じて電気的に接続することができる。このように、特にRPCの表裏両面に実装(3次元)される各回路要素相互間の電気的接続が容易に行える。
即ち、RPCの一方の面がFPCに重ね合わされ、もう一方が非接触状態となる構造を取ることによって、重ね合わせ部での両基板配線層相互間の導通が確保できると同時に配線パターンの設計自由度が向上することになる。
また、本実施形態においてもRPCとFPCとの重ね合わせ部の厚さが小さくなってい
るので、前記第1実施形態同様に、電子機器ケーススペースへの収納性の向上、貫通孔加
工時間の短縮、ドリルの長寿命化、メッキ時間の短縮、コスト低減及び次に形成する配線
層のファインパターン形成などの効果が得られる。
ところで、プリント配線技術分野においては、ごく最近より、RPC同士、FPC同士或いはRPCとFPCの組合せが望まれ、これらの各種基板組合せに対する基板間接続の技術が開発されてきている。これに対応して、前記第1及び第2実施形態に示された回路配線複合基板をそれぞれ一単位体として、複数の単位体を積層して多層配線構造を構成してもよい(第3実施形態)。また、この場合、各単位体の間に他のRPCを介在させてもよい(第4実施形態)。更には、前記複合基板の一単位体に対して別の単位体の一部のみを積層して部分的に多層配線構造を構成してもよい(第5実施形態)。
次に、前記基板間接続に好適な前記第3乃至第5実施形態に係る本発明の回路配線複合基板の具体例について説明する。
第3実施形態:
この実施形態においては、前記第1実施形態に関する図1に示された回路配線複合基板を第1の一単位体として、複数の単位体を積み重ねることによって、多層積層構造の回路配線複合基板が構成される。この場合、各単位体の一方の第1RPC 1a同士が重なり合う位置にあると共に、他方の第2RPC 1b同士が重なり合うような位置関係とされる。
そして、前記積層構造の上下両面最外層にはそれぞれFPCが配置され、上下中間位置には第1FPC 11aと第2FPC 11bとの重ね合わせ状態、即ち、FPC同士の基板間接続状態が構成される。
また、同様に、前記第2実施形態に関する図2に示された回路配線複合基板を第2の一単位体として、複数の単位体を紙面上下方向に順次積み重ねることによって、多層積層構造の回路配線複合基板を形成することもできる。
更に、同様に、図1に示された回路配線複合基板からなる前記第1単位体と、図2に示された回路配線複合基板からなる前記第2単位体とを紙面上下方向に順次積み重ねることによって、多層積層構造の回路配線複合基板を形成することもできる。
即ち、前記第1及び第2単位体から任意に選択された複数の単位体を組み合わせて重ね合わせることによって、種々の組み合わせ形態の回路配線複合基板が得られる。
第4実施形態:
第4実施形態の回路配線複合基板について図3を参照して説明する。図中の基板厚さ方向(図中、上下方向)の中央位置に配置された積層構造の第1RPC 31及び第2RPC 32は、基板厚さ方向に対して交差する方向(図中、左右方向)に相互に所定の間隔で離間して並置されている。
前記第1RPC 31は中央位置のRPC単板31aの両面にRPC単板31b及び31cを、前記第2RPC 32は中央位置のRPC単板32aの両面にRPC単板32b及び32cを例えば接着材によって張り合わせることによってそれぞれ構成されている。前記各RPCの板厚の関係についてみると、RPC単板31aと32a、31bと32b、31cと32cはそれぞれの関係で相互にほぼ同一厚さとされている。
従って、前記第1RPC 31及び前記第2RPC 32は、いずれも積層された複数のRPC同士の基板間接続を有する構造となっている。
前記第1RPC 31及び第2RPC 32の上下両面には、これらRPC相互を橋渡しするように配置された第1FPC 11a及び第2FPC 11bが張り合わされている。ここでは、第1FPC 11a及び第2FPC 11bは、図1に示された各FPCと同様なFPCを用いた例で示されているので、図1と同様な部分については同一符号を付してその説明は省略されている。勿論、前記各FPCは第1実施形態のものとは異なる形状のFPCを用いてもよい。
従って、前記第1RPC 31及び第2RPC 32は、第1実施形態における第1及び第2RPC 1a及び1bにそれぞれ相当していて、この第4実施形態の回路配線複合基板は基本的には前記第1実施形態の回路配線複合基板と類似した構成であってもよい。
また、この実施形態においては、第1FPC 11aの前記第1RPC 31との重ね合わせ部分Xa1の表面、第2FPC 11bの前記第2RPC 32との重ね合わせ部分Xb2の表面はいずれも露出されている。前記各露出面には他の配線層パターンを形成することができ、このような露出面は、前記重ね合わせ部分Xa1、Xa2、Xb1及びXb2の少なくとも一つに対して選択的に設けられる。
前記選択的な露出面を確保すると共に、例えば第1FPC 11aの前記第2RPC 32との重ね合わせ部分Xa2、第2FPC 11bの前記第1RPC 31との重ね合わせ部分Xb1の位置等に、回路機能要求に応じて付加的或いは補助的な第4RPC 33、第5RPC 34をそれぞれ張り合わせてもよい。
更に、FPC 11bの前記第1及び第2RPC 31、32に対して重ね合わされない変形可能部分Ybの中間位置の一部の両面に更に第6RPC 35、第7RPC 36を付加的に積層してもよい。前記第6及び第7RPC 35、36には、前記第1RPC 31の回路機能と前記第2RPC 32の回路機能との間の例えば電気的中継機能をもたせることができる。また、前記RPC 35、36のうちいずれか一方を除外し、片方のRPCのみを、前記変形可能部分Ybの中間位置に積層してもよい。
ところで、多数の前記RPCやFPCを組み合わせて構成される回路配線複合基板を組立る場合、予め、種々の単位体に区分しておいて、これら複数の基板単位体を組合せて組み立てることができる。次に、その具体的な一例を説明する。
(組立方法例1):
「第1ステップ」;
前記第1FPC 11a、前記RPC単板31b、32b及び第4RPC 33による複合基板で構成された第1単位体を用意する。
「第2ステップ」;
第2FPC 11b、前記RPC単板31c、32c、第5乃至第7RPC 34乃至36による複合基板で構成された第2単位体を用意する。
「第3ステップ」;
同一平面上において所定の間隔で並置された前記RPC単板31a及び32aを中央位置に配置しておき、その上下に前記第1及び第2単位体を図3のような構成となるように積層して組み立てる。
(組立方法例2):
「第1ステップ」;
前記第1FPC 11a及び前記第4RPC 33による複合基板で構成された第3単位体を用意する。
「第2ステップ」;
前記第2FPC 11b、前記第5乃至第7RPC 34乃至36による複合基板で構成された第4単位体を用意する。
「第3ステップ」;
前記第1RPC 31(RPC単板a、31b、31cの積層構造)を第5単位体として、前記第2RPC 32(RPC単板a、32b、32cの積層構造)を第6単位体として用意する。
第4ステップ;
同一平面上において所定の間隔で並置された前記第5単位体(前記第1RPC 31)及び第6単位体(第2RPC 32)を中央位置に配置して、その上下に前記第3及び第4単位体を図3のような構成となるように積層して組み立てる。
他にも、前記第1FPC 11a、前記第2RPC 32の上側RPC単板32b及び第4RPC 33を一単位体としたり、前記第2FPC 11b、前記第1RPC 31の下側RPC単板31c、第5乃至第7RPC 34乃至36を一単位体とするなど、組立工程ラインの合理化、プロセスコストの低減化などに適した単位体の構成及び組合せが行われる。なお、前記各組立方法例における各ステップの順序は任意に選択してよい。
この第4実施形態の回路配線複合基板においても、前記各実施態様と同様の効果が得られると共に、様々な形態の基板間接続を行うことができる。
また、この実施形態においてはFPCやRPCなどの積層構造に対する層間導電路の構造について図示が省略されているが、所望の位置に、後述する第6及び第7実施形態と同様な層間導電路が形成される。なお、各前記RPCの絶縁基板や配線層などの構造やRPC同士やFPC同士などの張り合わせは、通常の技術により得られるので、ここでは、その図示および説明は省略乃至簡略化されている。
第5実施形態:
第5実施形態においては、前記第1実施形態に関する図1に示された回路配線複合基板の複数単位体を、図中左右に相互にスライド配置して、一単位体の第1RPC 1aと別単位体の第2RPC 1bとが重なる位置関係にし、部分的に積み重ねることによって、多層積層構造の回路配線複合基板が構成される。
また、前記第2実施形態に関する図2に示された回路配線複合基板の複数単位体を、図中左右にスライド配置して、一方の単位体の第1RPC 1aと別の単位体の第2RPC 1bが重なる位置関係にし、部分的に積み重ねることによって、多層積層構造の回路配線複合基板を構成してもよい。
更に、前記第1及び第2実施形態に関する各回路配線複合基板の単位体を、同様に、部分的に積み重ねることによって、多層積層構造の回路配線複合基板を構成してもよい。
即ち、前記第1及び第2実施形態に関する各回路配線複合基板をそれぞれ各単位体として、これらの単位体から任意に選択された複数の単位体を前記スライド配置で組み合わせて重ね合わせることによって、種々の組み合わせ形態の回路配線複合基板が得られる。このような実施形態においても、前記各実施形態の場合と同様な発明の効果が得られる。
(層間導電路):
次に、前記層間導電路について、図4及び図5を参照して詳細に説明する。図4は、図1に示された第1実施形態の回路配線複合基板の第2RPC 1b側の部分に前記層間導電路などを設けた構造を要部拡大して示すものであり、図1と同じ部分には同一符号を付してその説明を省略する。
第2RPC 1bに対する第1FPC 11aの重ね合わせ部分Xa2の露出面上には、配線層13aとは別に、図中ドットパターンで示すような他の配線層パターンがファインパターンを有して形成されている。この配線層パターンは、例えば四角枠状に配置された複数のランド部41、各ランド部に接続された複数の配線層42及び一部の配線層42に接続された複数の層間接続端43を含んでいる。
前記層間接続端43に対応する位置において重なり合う第1FPC 11a、第2RPC 1b及び第2FPC 11bを貫通する貫通孔(スルーホール)THが形成されている。各貫通孔TH内面には、例えば銅などの良導電性金属のメッキを施すことによって層間導電路44が形成されている。
前記複数のランド部41には、例えば個別半導体或いはICチップ、またはパッケージ付きの個別半導体或いはICデバイスなどの電子回路素子のリード端子(ピン)が、フェースダウンボンディングやはんだ付けにより電気的に接続及び固定される。
また、前記第1FPC 11aの重ね合わせ部分Xa2の露出面には、前記電子回路素子に代えて、実施形態4に示した付加的或いは補助的な他の第4RPC 33(図3参照)を設けてよい。この場合、前記重ね合わせ部分Xa2の露出面に形成される配線層パターンは、前記第4RPC 33の配線層との接続形態に応じたパターン形状とされる。
以上のように、第1FPC 11aや第2FPC 11bの前記各RPCとの重ね合わせ部分Xa1、Xa2、Xb1及びXb2は、それらの露出面或いは外表面の少なくとも一部に前記電子回路素子や付加的或いは補助的なRPCなどの電子部品を装着するための配線層パターン形成可能領域として使用できる。
このような配線層パターン形成可能領域は、前記第1乃至第5の実施形態においても、前記FPCのRPCに対する重ね合わせ部分の少なくとも一部に形成可能である。
そして、前記層間導電路44は、第2RPC 1bの両面に部分的にそれぞれ重ね合わされた第1FPC 11a、第2RPC 1b及び第2FPC 11bの各基板配線層相互間を3次元的に電気的に接続する。
図5は、図2に示された第2実施形態の回路配線複合基板の第2RPC 1bに対応する部分に前記層間導電路などを設けた構造を要部拡大して示すものであり、図2と同じ部分には同一符号を付してその説明を省略する。
即ち、この実施形態の回路配線複合基板は、第2RPC 1bの片面(上面)のみに第1FPC 11aの一部を重ね合わせて形成されていて、第2RPC 1bの他面(下面)は、露出させた開放面となっている。
前記第2RPC 1bと第1FPC 11aとの重ね合わせ部分Xa2において、第1FPC 11a及び第2RPC 1bを部分的に貫通する貫通孔THが形成されていて、貫通孔TH内面には、図4に示された層間導電路と同様な良導電性金属メッキによる層間導電路44が形成されている。
そして、前記層間導電路44は、第1FPC 11aの重ね合わせ部分Xa2の外表面に形成された配線層パターンの層間接続端43と第2RPC 1bの前記開放面に形成された回路配線層3bの層間接続端部分とを電気的に接続している。
この回路配線複合基板によれば、RPCとFPCとの重ね合わせ総厚が、図4に示されたものよりも更に薄くなる。そして、前記重ね合わせ部分Xa2の外表面が電子部品を装着するための配線層パターン形成可能領域として使用され、ファイン配線層パターンを形成することができる。しかも、前記実施形態2において述べたように、第1RPC 1aの開放面の存在により、第1RPC 1aの厚さの選択の自由度が増すなどの効果がある。
なお、前記層間導電路は、図4や図5に示されているようなスルーホール方式で形成されても、これに代わってビヤホール方式で形成されても或いは両方式の組み合わせて形成されてもよい。例えば、前記第2RPC 1bの回路配線層と前記第1FPC 11aの回路配線層とを接続する場合、これら基板の重ね合わせ部Xa2の前記第1FPC 11aのみに貫通孔を形成し、前記各基板の各回路配線層相互間の前記層間導電路をビヤホール方式により設けてもよい。
第6実施形態:
次に、本発明に係る第6の実施形態の回路配線複合基板について図6を参照して説明する。この回路配線複合基板は、図1に示された第1実施形態の回路配線複合基板に対して、他のFPCを追加して重ね合わせたものであるので、図1と同じ部分には同一符号を付してその説明を省略する。
即ち、第1及び第2RPC 1a、1bの片側面(上側面)に配置された第1FPC 11aは、例えば2枚のFPC単板11a1とFPC単板11a2との積層構造となっている。前記FPC単板11a1は、第1実施形態における第1FPCと同様に回路配線層13aを有する一層配線構造であり、FPC単板11a2も同様に回路配線層13cを有する一層配線構造である。従って、第1FPC 11aは、厚さ方向に前記回路配線層13aと13cとによる多層配線構造と構成されている。
また、前記各RPC 1a、1bの他側面(下側面)に配置された第2FPC 11bは、例えば2枚のFPC単板11b1とFPC単板11b2との積層構造となっている。前記FPC単板11b1は、第1実施形態における第2FPCと同様に回路配線層13bを有する一層配線構造であり、FPC単板11b2も同様に回路配線層13dを有する一層配線構造である。従って、第2FPC 11bは、厚さ方向に前記回路配線層13bと13dとによる多層配線構造とされている。
このように、前記第1及び第2FPCは、第1実施形態におけるFPCのように一層配線構造に限らず、前記FPC単板11a1とFPC単板11a2との積層や前記FPC単板11b1とFPC11b2との積層による複数層(多層)配線構造であってもよい。このようなFPC単板の積層は、本実施形態においては、その全面に亘って形成されているように示されているが、積層される部分と積層されない部分とを有する構造とすることもできる。また、前記回路配線層13c乃至13dの配線ピッチ或いはパターン形状は、システム要求に応じて任意に定められ相互に異ならせてもよい。
このように、前記上側面及び下側面に配置された第1、第2FPCは、少なくとも一部分において、いずれも複数層(例えば2層)の多層積層構造で構成され、電子機器システムで取り扱われる情報量の増加に応じて、FPCの層数は適宜選択される。勿論、上側面FPCが2層で下側面FPCが1層であるものや上側面FPCが4層で下側面FPCが3層であるものなどの品揃えが可能である。
前記多層積層構造の各FPCの重ね合わせ層数は、機器筐体への収納に際して要求されるRPCとの変形可能部分の長さ及び幅、変形度合い(フレキシビリティ)、電子機器システムの情報量に関連する配線層の本数などに基づいて選定され、種々の電子機器システムに応えることができる。本実施形態の回路配線複合基板は前記各実施形態と同様な効果を有することは言うまでもない。
また、この実施形態においてはFPCやRPCなどの積層構造に対する層間導電路の構造について図示が省略されているが、所望の位置に、図4や図5に示されているような層間導電路44を同様に形成できる。なお、前記第1、第2FPCのような多層積層構造は前記いずれの実施形態においても適用可能である。
また、前記第1乃至第6実施形態を適宜組み合わせて回路配線複合基板を構成すれば、複合基板全体の厚さを薄形化、基板最外層への電子部品実装のためのファインパターン回路形成、回路設計上の自由度及び機器筐体への組み込み性、貫通孔加工時間の短縮、ドリルの長寿命化、メッキ時間の短縮、製造プロセス上の低コスト化などの効果を最大限に発揮することができる。
本発明の第1実施形態に係る回路配線複合基板を示す一部縦断斜視図である。 本発明の第2実施形態に係る回路配線複合基板を示す縦断面である。 本発明の第4実施形態に係る回路配線複合基板を示す縦断面である。 本発明に係る層間導電路の具体例を説明するための回路配線複合基板の要部拡大斜視図である。 本発明係る層間導電路の具体例を説明するための回路配線複合基板の要部拡大斜視図である。 本発明の第6実施形態に係る回路配線複合基板を示す一部縦断斜視図である。
符号の説明
1a乃至1c 第1乃至第3リジッド配線基板(RPC)
2a、2b、2c1、2c2 リジッド絶縁基板
3a、3b、3c1、3c2 回路配線層(RPC用)
4、44 層間導電路
11a、11b 第1、第2フレキシブル配線基板(FPC)
11a1、11a2、11b1、11b2 フレキシブル配線基板(FPC)単板
12a、12b フレキシブル絶縁基板
13a乃至13d、42 回路配線層(FPC用)
14a、14b カバーフィルム
31、32 積層構造の第1、第2リジッド配線基板(RPC)
31a乃至31c、32a乃至32c リジッド配線基板(RPC)単板
33乃至36 第4乃至第7リジッド配線基板(RPC)
TH 貫通孔
Xa1、Xa2、Xa3、Xb1、Xb2、Xb3 FPCの重ね合わせ部分
Ya、Yb FPCの変形可能部分

Claims (12)

  1. リジッド絶縁基板に回路配線層を設けて形成された少なくとも一つのリジッド配線基板と、フレキシブル絶縁基板に回路配線層を設けて形成されたフィルム状の第1及び第2フレキシブル配線基板とを有する回路配線複合基板であって、前記第1及び第2フレキシブル配線基板はそれぞれ、前記少なくとも一つのリジッド配線基板の両板面にそれぞれ重ね合わせて固定された重ね合わせ部分及び前記板面に重ね合わされない変形可能部分を有し、かつ、前記リジッド配線基板とフレキシブル配線基板とが重なる位置に、これら各配線基板の各回路配線層を電気的に接続する少なくとも一つの層間導通路が貫通形成されていることを特徴とする回路配線複合基板。
  2. 請求項1に記載の回路配線複合基板において、前記層間導通路は、前記第1、第2フレキシブル配線基板及び前記リジッド配線基板を貫通して設けられていることを特徴とする回路配線複合基板。
  3. 請求項1に記載の回路配線複合基板において、前記少なくとも一つのリジッド配線基板は、複合基板の厚さ方向に対して直交する方向に相互離間して並置された第1及び第2リジッド配線基板を備えて構成され、前記第1及び第2フレキシブル配線基板は、前記第1及び第2リジッド配線基板を橋渡しするように配置されていることを特徴とする回路配線複合基板。
  4. 請求項1に記載の回路配線複合基板において、前記少なくとも一つのリジッド配線基板は、複合基板の厚さ方向に対して直交する方向に相互離間して並置された第1及び第2リジッド配線基板を備えて構成され、前記第1フレキシブル配線基板は、前記第1及び第2リジッド配線基板の各一方側の面を橋渡しするように配置され、前記第2フレキシブル配線基板は前記第1リジッド配線基板の他方側の面に重ね合わされ、前記第2リジッド配線基板の他方側の面に重ね合わされてないことを特徴とする回路配線複合基板。
  5. 請求項3に記載された前記複合基板の厚さ方向に対して直交する方向に相互離間して並置された第1及び第2リジッド配線基板と前記第1及び第2リジッド配線基板を橋渡しするように配置された前記第1及び第2フレキシブル配線基板とからなる回路配線複合基板を第1の単位体とし、請求項4に記載された複合基板の厚さ方向に対して直交する方向に相互離間して並置された第1及び第2リジッド配線基板、前記第1及び第2リジッド配線基板の各一方側の面を橋渡しするように配置された前記第1フレキシブル配線基板、及び前記第2リジッド配線基板の他方側の面に重ね合わされ前記第1リジッド配線基板の他方側の面に重ね合わされない前記第2フレキシブル配線基板からなる回路配線複合基板を第2の単位体とし、前記第1及び第2単位体から任意に選択された複数の単位体を重ね合わせて構成され、前記フレキシブル配線基板の前記重ね合わせ部分の少なくとも一つは最外層に配置されていることを特徴とする回路配線複合基板。
  6. リジッド絶縁基板に回路配線層を設けて形成されたリジッド配線基板と、前記リジッド配線基板の片側面のみに重ね合わせて固定された重ね合わせ部分及び前記板面に重ね合わされない変形可能部分を有するフレキシブル配線基板と、前記重ね合わせ部分に貫通形成され、前記フレキシブル配線基板及びフレキシブル配線基板の回路配線層を電気的に接続する少なくとも一つの層間導電路とを備えていることを特徴とする回路配線複合基板。
  7. 請求項6に記載の回路配線複合基板において、前記層間導通路は、前記フレキシブル配線基板及び前記リジッド配線基板を貫通して設けられていることを特徴とする回路配線複合基板。
  8. 請求項1乃至請求項7のいずれか一の請求項に記載の回路配線複合基板において、前記フレキシブル配線基板の前記変形可能部分の一部に他のリジッド配線基板が積層されていることを特徴とする回路配線複合基板。
  9. 請求項1乃至請求項8のいずれか一の請求項に記載の回路配線複合基板において、前記リジッド配線基板が複数のリジッド配線基板単板を積層して構成された多層積層構造となっていることを特徴とする回路配線複合基板。
  10. 請求項1乃至請求項9のいずれか一の請求項に記載の回路配線複合基板において、前記リジッド配線基板に重ね合わされたフレキシブル配線基板の少なくとも一部が複数のフレキシブル配線基板単板を積層して構成された多層積層構造となっていることを特徴とする回路配線複合基板。
  11. 請求項1乃至請求項10のいずれか一の請求項に記載の回路配線複合基板のおいて、フレキシブル配線基板の配線層が基板厚さ方向において一層配線構造とされていることを特徴とする回路配線複合基板。
  12. 請求項1乃至請求項11のいずれか一の請求項に記載の回路配線複合基板のおいて、前記フレキシブル配線基板の前記リジット配線基板との重ね合わせ部分の少なくとも一露出面に、電子部品装着用のランド部を有する配線層パターンが形成されていることを特徴とする回路配線複合基板。
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