JP2006173445A - 荷電粒子線装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、試料を載置する際の位置ずれが生じない荷電粒子線装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、台座に置かれる試料保持台と、ウエハを含む試料を試料保持台に上げ下げする試料上下手段とを有する試料交換室が備わる荷電粒子線装置において、試料保持台に前記試料を載せる際に、試料保持台と前記試料との合わせ面に介在する気体を抜くことを特徴とする。
【選択図】図1
【解決手段】本発明は、台座に置かれる試料保持台と、ウエハを含む試料を試料保持台に上げ下げする試料上下手段とを有する試料交換室が備わる荷電粒子線装置において、試料保持台に前記試料を載せる際に、試料保持台と前記試料との合わせ面に介在する気体を抜くことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、荷電粒子線装置に備わる試料交換室の改良に関する。
試料交換室では、半導体のウェハ等を含む試料を試料保持台に載せたり、外したりする試料の着脱が行なわれる。本発明は、この試料の着脱自在に関するものである。
荷電粒子線装置は、例えば、特開平11−126739号公報(特許文献1)、特開2003−172715号公報(特許文献2)に示すように試料交換室を有する。試料交換室は、荷電粒子線装置の本体と、試料を保管する試料保管室との間にあって試料保持台に上げ下げし、かつ試料の受け渡しを行う。
試料の表裏面の高平坦化に伴い、高平坦精度に仕上がった試料を試料保持台に載せる際に、試料交換室の試料保持台上で試料が僅かに滑って出来る試料の位置ずれが確認された。
また、試料を試料保持台から外す際に、試料保持台が一緒に持ち上がり、試料が試料保持台から容易に脱離されないという問題が生じた。
本発明は、上記の問題に対処し、試料を載置する際の位置ずれが生じない荷電粒子線装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、上記の問題に対処し、試料が試料保持台から容易に脱離できる荷電粒子線装置を提供することを目的とする。
本発明は、試料保持台を着脱自在に載置する台座と、ウエハを含む試料を試料保持台に上げ下げする試料上下手段とを有する試料交換室が備わる荷電粒子線装置において、試料保持台に前記試料を載せる際に、試料保持台と前記試料との合わせ面に介在する気体を抜くことを特徴とする。
本発明によれば、試料の載置位置ずれの生じない荷電粒子線装置を提供できる。また、試料が試料保持台から容易に脱離できる荷電粒子線装置を提供できる。
本発明の実施形態に係わる実施例について、図1〜図5に沿って説明する。
まず、荷電粒子線装置の一例である電子線描画装置を示す図5を引用して説明する。
電子線描画装置の本体1は、電子銃2、電子銃2が発する電子ビーム3を制御するアパーチャ4、レンズ5、偏向板6、試料室7に設けられたステージ10を有する。そして、ステージ10に試料保持台8、半導体のウエハを含む試料9を載置させ、試料9に電子ビーム3を照射して描画を行なう。
待機室20、試料交換室21、および試料保管室22は、荷電粒子線装置の付属設備として本体1に隣接して設けられる。試料9は、試料保管室22、待機室20、試料交換室21、本体1との間で受け渡しが行なわれる。待機室20には、試料保持台8に載った試料9を上げ下げするエレベータ機構11を有する。
試料保持台搬送装置23は、試料交換室21、待機室20、本体1の間で、試料9を載せた試料保持台8の移送を行なう。試料保管室22には、多数の試料が棚に保管され、ここに備わる搬送ロボット(図示せず)によって、試料交換室21との間で、試料の受け渡しが行なわれる。
第1のシャッター24は、試料の搬送を行なう待機室20、本体1との間の搬送口を開閉する。第2のシャッター25は、試料の搬送を行なう待機室20、試料交換室21との間の搬送口を開閉する。第3のシャッター26は、試料保管室22に向いた試料交換室21の搬送口を開閉する。この搬送口は大気に開口している。
試料保管室22と試料交換室21との間での試料の受け渡しは、第3のシャッター26を開いて行なう。このときには、第2のシャッター25は閉じられている。
試料交換室21と待機室20との間での試料の受け渡しは、第2のシャッター25を開いて行なう。このときには、第3のシャッター26は閉じられている。
待機室20と本体1との間での試料の受け渡しは、第1のシャッター24を開いて行なう。このときには、第2のシャッター25は閉じられている。
次に本発明の主要部に関する実施例について、図1〜図4を引用して説明する。
試料交換室21は、試料保持台8を着脱自在に載せる台座30と試料保持台8が台座30に着座していることを検知する着座検知センサ31と、試料保持台8にウエハである試料9を上げ下げする試料上下手段としての試料上下機構32を有する。
試料上下機構32は、上下に延在する複数の支持ピン33と、上下に延在する基軸34を有する。低真空孔35は、基軸34、支持ピン33を貫くように形成され、支持ピン33の上端に開口している。
試料上下機構32の基軸34は、試料交換室21の底に軸受(図示せず)を介して上下方向に摺動自在に支持される。軸受の下側に真空シール36を設け、軸受の隙間から漏れる気体のシールを行なう。
上下駆動部37は、試料上下機構32を上下に動かす駆動源で、モータまたはエアシリンダ等のアクチュエータを備えている。
試料保持台8は、複数の貫通ガイド孔38を有する。貫通ガイド孔38は、試料保持台8の厚さ方向である上下方向に貫通するように形成され、直径が8mmである。この貫通ガイド孔38に試料上下機構32の支持ピン33が上下移動自在に挿入される。試料上下機構32を上げると、試料上下機構32を上げると試料9が支持ピン33の上端に載置され、試料上下機構32を下げると、試料9が試料保持台8の上に載置される。試料9の試料保持台8への着脱は、試料上下機構32の上下により行なわれる。
試料保持台8は、図4に示すように上面に多数の突起39を有する。突起39は、ピンのような形状を有し、高さが数μm〜10μm程度、直径が1mm程度である。試料9は、多数の突起39の上に載るようにして試料保持台8の上に置かれる。
試料保持台8は、高平坦静電チャック50を有する。高平坦静電チャック50は、ステージ10の上で試料9のウエハを高平坦保持するために機能する。
多数の突起39は、ウエハの裏面に異物が付着するのを軽減するために設けられた。すなわち、ウエハに付着していた微細塵や、電子描画で切削された微細塵が試料保持台8の上に蓄積し、その微塵埃がウエハに再付着する。試料保持台8の上面に多数の突起39を設けることにより、微細塵が突起39の間の凹部に落ち、ウエハへの再付着が抑えられるのである。
突起39の高さは、高い方が微細塵の再付着抑制では有利になるが、高平坦静電チャック50の静電吸引力が減少するので、数μm〜10μm程度が限度である。
試料保持台8は、吸気孔51を有する。吸気孔51は、試料保持台8の厚さ方向である上下方向に貫通するように形成され、直径が5mm程度である。この吸気孔51は、複数個、備えることも可能である。
吸気孔51の口縁には、図4に示すように、試料保持台8の上面側に環状突起52を設ける。この環状突起52は、突起39とほぼ同じ高さに形成する。試料保持台8に試料9が載置された際には、環状突起52の先端が試料9の裏面に接合する。
図1に示す吸着口部材53は、吸着口を有する。この吸着口部材53は、試料保持台8の裏面の吸気孔51に宛がうように置かれる。吸着口部材53は、押しバネ60を含む押圧手段により、吸気孔51に押し付けられ、吸着口部材53と吸気孔51の接合部の気密を高めている。
試料保持台8の下面に気密性を保ちながら押付けるために、押しバネ60のバネ力は試料保持台8の重量より小さくしている。試料保持台8を台座30から持ち上げるように離すことにより、吸着口部材53は、吸気孔51から離れる。
試料保持台8は、図2、図3に示すように、載置する試料9の位置決めを図る抑え突起40、ノッチクランプ機構41を有する。試料9は、ノッチクランプ機構41のノッチレバーが倒されている状態で、搬送ロボットにより運ばれて、試料保持台8に置かれる。ノッチレバーを立て、試料9の外周に設けたノッチにノッチレバーを嵌めることにより、試料9は正しい位置にセットされる。
低真空系装置54は、図1に示すように第1の低真空系の低真空源55と、第2の低真空系の低真空源56とを有する。
第1の低真空系には、圧力検知スイッチ90、電磁弁57、流量制御器58、低真空配管59が設けられる。この第1の低真空系は、吸着口部材53に連通する。
第2の低真空系には、圧力検知スイッチ91、電磁弁70、流量制御器71、低真空配管72が設けられる。この第2の低真空系は、試料上下機構32の低真空孔35に連通する。
第1の低真空系の電磁弁57と流量制御器58の間は、電磁弁73、低真空配管74を介して試料交換室21内に連通する。
第2の低真空系の電磁弁70と流量制御器71の間は、電磁弁75、低真空配管76、低真空配管74を介して試料交換室21内に連通する。
流量制御器58と流量制御器71とは、一方向の気体の流量のみを制御する。
低真空源55から吸着口部材53に至る第1の低真空系の流路を流路Aと言う。
低真空源56から低真空孔35に至る第2の低真空系の流路を流路Bと言う。
試料交換室21内から低真空配管74、電磁弁73、流量制御器58、低真空配管59を介して吸着口部材53に至る流路を流路Cと言う。
試料交換室21内から低真空配管74、低真空配管76、電磁弁75、流量制御器71、低真空配管72を介して低真空孔35に至る流路を流路Dと言う。
真空排気装置80は、図1に示すように、真空ポンプ81を有する。真空ポンプ81はバルブ82、配管83を介して試料交換室21内に連通する。配管83には、N2ガスを流入するリークバルブ84が設けられる。
次に動作について説明する。
ここでは、試料交換室内で行われる試料保持台への試料の着脱を主に説明する。
搬送ロボットにより、試料9が試料保管室22から試料交換室21に運び込まれる。試料交換室21は、大気圧の状態になっている。
前もって、台座30に置かれた試料保持台8の真上に、搬送ロボットのアームに載った試料9が来る。試料上下機構32の上昇作動で、支持ピン33が試料保持台8の上面から突き出るように上昇し、支持ピン33の上端が搬送ロボットのアームより数mm高い位置に達したところで、試料9の下面に上端が当接する。
この当接で試料9の載置は、搬送ロボットから試料上下機構32に移る。このとき、電磁弁75を閉じ、電磁弁70を開き、低真空源56が作動し、第2の低真空系の流路Bを通じて試料上下機構32の低真空孔35に低真空の吸引が行われている。
このため、支持ピン33の上端が、試料9の下面に当接すると、低真空孔35が閉鎖されて圧力検知スイッチ91が圧力低下を検知する。この圧力検知スイッチ91の圧力低下検知により、試料9が試料上下機構32に載置されたことを確認できる。
このため、支持ピン33の上端が、試料9の下面に当接すると、低真空孔35が閉鎖されて圧力検知スイッチ91が圧力低下を検知する。この圧力検知スイッチ91の圧力低下検知により、試料9が試料上下機構32に載置されたことを確認できる。
この確認が得られると、低真空源56を止め、電磁弁70を閉じ、電磁弁75を開く。これにより、流路Dが開通し、低真空孔35内は試料交換室21と同じ大気圧に戻される。
引き続き、電磁弁73を閉じ、電磁弁57を開き、低真空源55を作動し、第1の低真空系の流路A、吸着口部材53を通じて吸気孔51内の吸引が行なわれる。この吸引とともに上下駆動部37を作動して試料上下機構32を降下することにより、試料9が試料保持台8に載置される。試料上下機構32は、支持ピン33の上端が試料保持台8の下面から数mm下がった位置で止められる。
試料9が試料保持台8に載置されると、環状突起52の先端が試料9の裏面が接合して吸気孔51は閉じられるため、圧力検知スイッチ90が圧力低下を検知する。この圧力検知スイッチ90の圧力低下検知により、試料9が試料保持台8に載置されたことを確認できる。
試料保持台8への載置が確認ところで、低真空源55を止め、電磁弁57を閉じ、電磁弁73を開く。これにより、流路Cが開通し、吸気孔51内は試料交換室21と同じ大気圧に戻される。
このようにして、試料9は試料保持台8にされるのであるが、試料保持台8への試料9の着地について更に詳しく述べる。
試料9が試料保持台8の上面に着地する際に、試料9と試料保持台8との合わせ面に気体が薄膜状に介在するので、試料9は薄膜状の気体に載った状態になる。このため、試料保持台8は薄膜状の気体に載って試料保持台8の上で滑り、位置ずれを来たす。この位置ずれは、試料9の表裏面の高平坦化を伴い生じ易くなる傾向にある。
しかし、試料9を試料保持台8に載置する際には、吸気孔51内の吸引が第1の低真空系の流路A、吸着口部材53を通じて行なわれるので、試料9と試料保持台8との合わせ面に介在する気体は吸われてなくなる。
このため、試料9を試料保持台8に載置する際に、試料保持台8の上で滑って位置ずれすることが無くなる。試料9の位置ずれが生じないので、試料9の外周のノッチにノッチレバーが嵌められ、試料9は正しい位置にセットされる。ノッチレバーが試料9のノッチに嵌るので、試料9は試料保持台8に確実に保持される。
なお、試料保持台8に設けた多数の突起39は、高さが数μm〜10μm程度であるが、この突起39の高さを高くすることにより、試料9と試料保持台8との合わせ面に介在する気体を無くすることができる。しかし、突起39の高さを高くすると、高平坦静電チャック50の吸引力が減少し、高平坦静電チャック50の機能を損ねる。このため、試料9と試料保持台8との合わせ面に介在する気体は、吸引により抜くのが望ましいのである。
試料9の取り外しについて述べる。
荷電粒子線装置の本体1内で描画加工を終えた試料9は、試料保持台8に載せられたまま待機室20を経て試料交換室21に戻る。ここで、試料9は次のようにして試料保持台8から外される。
電磁弁57と電磁弁70を閉じ、電磁弁73と電磁弁75を開いて試料交換室21を真空状態に保ったまま、試料上下機構32を上昇させることにより、試料9は試料保持台8から試料上下機構32に載置替えされる。試料9が搬送ロボットのアームより数mm高い位置に来たところで、試料上下機構32の上昇作動を止める。
試料上下機構32を止めたら、真空排気装置80のバルブ82を閉じ、リークバルブ84を開き、N2ガスを封入して試料交換室21を大気に開放する。
このとき、電磁弁70が閉鎖、電磁弁75が開放になっているので、試料9を載置する支持ピン33の低真空孔35内も、流路Dを通して試料交換室21と同じような大気開放となる。
試料上下機構32への試料9の載置確認は、圧力検知スイッチ91で行なう。
すなわち、電磁弁75を閉じ、電磁弁70を開き、低真空源56を作動させているので、支持ピン33の低真空孔35に吸引が行なわれている。試料上下機構32の上昇で、支持ピン33の上端に試料9が載ると、低真空孔35が閉鎖されるので、圧力検知スイッチ91は圧力低下を検知する。この圧力検知スイッチ91の圧力低下検知により、試料9の載置が確認される。
試料9の載置確認が行なわれたら、再度、電磁弁70を閉じ、電磁弁75を開いて試料上下機構32の低真空孔35内を大気開放にする。ここで、搬送ロボットのアームを試料9と試料保持台8の間に差し込み、試料上下機構32を降下させると、試料9はアームに載せられる。
このようにして、試料9は試料保持台8から外されるが、従来は試料交換室21を大気圧に戻してから行なっていた。
しかし、試料9の表裏面の高平坦化を伴い、試料9と試料保持台8との合わせ面の気密性が高まり、試料9と試料保持台8の周りが大気圧に戻されても合わせ面は真空状態のままになってしまう。試料上下機構32を上昇させて試料9を外そうとすると、試料保持台8も一緒に持ち上がり、試料9を試料保持台8から外すことができない。
試料交換室21の真空状態では、試料9や試料保持台8の周りと、合わせ面との間に気圧差がなくなる。試料交換室21を真空状態にすることにより、試料9を試料保持台8から容易に外すことができる。
8…試料保持台、9…試料、21…試料交換室、30…台座、51…吸気孔。
Claims (9)
- 試料保持台を着脱自在に載置する台座と、ウエハを含む試料を前記試料保持台に上げ下げする試料上下手段とを有する試料交換室が備わる荷電粒子線装置において、
前記試料保持台に前記試料を載せる際に、前記試料保持台と前記試料との合わせ面に介在する気体を抜くことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料保持台を着脱自在に載置する台座と、ウエハを含む試料を前記試料保持台に上げ下げする試料上下手段とを有する試料交換室が備わる荷電粒子線装置において、
前記試料保持台に前記試料を載せる際に、前記試料保持台と前記試料との合わせ面に介在する気体を抜く吸引手段を有することを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料保持台を着脱自在に載置する台座と、ウエハを含む試料を前記試料保持台に上げ下げする試料上下手段とを有する試料交換室が備わる荷電粒子線装置において、
前記試料保持台に前記試料を載せる際に、前記試料保持台と前記試料との合わせ面に介在する気体を抜く吸気孔を前記試料保持台に設けたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項3記載の荷電粒子線装置において、
前記吸気孔は前記試料保持台の厚さ方向に貫抜かれ、
前記合わせ面の裏面あたる前記吸気孔の部位に宛がう空気を抜く吸引手段の吸着口部材を有することを荷電粒子線装置。 - 請求項4記載の荷電粒子線装置において、
前記吸着口を宛がう方向に押すところの押しバネを含む押圧手段を設けたことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料保持台を載置する台座と、ウエハを含む試料を前記試料保持台に上げ下げする試料上下手段とを有する試料交換室が備わる荷電粒子線装置において、
試料保持台は、上下方向に貫かれる複数の貫通ガイド孔を有し、
前記試料上下手段は、前記貫通ガイド孔に上下移動自在に挿入される複数の支持ピンを有し、
前記試料上下手段が降下して、前記支持ピンの上端に載置する前記試料が前記試料保持台に載置替えされる際に、前記試料保持台と前記試料との合わせ面に介在する気体を抜く吸気孔を前記試料保持台に設けたことを荷電粒子線装置。 - 請求項6記載の荷電粒子線装置において、
複数の支持ピンは、上端に開口する低真空孔を有し、
前記低真空孔に連通する第1の低真空系と、前記吸気孔に連通する第2の低真空系とを有し、
前記試料が前記試料保持台に載置替えされる際には、前記低真空孔を前記第1の低真空系から遮断して大気に連通し、かつ前記第2の低真空系により前記合わせ面に介在する気体を抜くことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 試料保持台を着脱自在に載置する台座と、ウエハを含む試料を前記試料保持台に上げ下げする試料上下手段とを有する試料交換室が備わる荷電粒子線装置において、
前記試料上下手段を上昇させて前記試料保持台から前記試料を持ち上げる際に、前記試料交換室を真空に保つことを特徴とする荷電粒子線装置。 - 請求項8記載の荷電粒子線装置において、
前記試料保持台より前記試料を離間させてから前記試料交換室を大気に開放させることを特徴とする荷電粒子線装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012009883A (ja) * | 2007-11-15 | 2012-01-12 | Asml Netherlands Bv | 基板処理装置およびデバイス製造方法 |
JP2012191158A (ja) * | 2011-02-23 | 2012-10-04 | Tokyo Electron Ltd | マイクロ波照射装置 |
JP2021513731A (ja) * | 2018-02-13 | 2021-05-27 | ビオメリュー・インコーポレイテッド | 試料取扱いシステム、質量分析計および関連方法 |
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2004
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20061206 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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