JP2006173163A - チップコイル - Google Patents

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美智央 大庭
Shinya Matsutani
伸哉 松谷
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浩司 下山
祐一 ▲高▼橋
Yuichi Takahashi
Shinichi Morimoto
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Abstract

【課題】コイル部の断線等を外観で検査することのできるチップコイルを提供することを目的としている。
【解決手段】本発明は、方形状の透明な素体12と、この素体12の下面に配置した電極14と、素体12に埋設した螺旋状金属16からなるコイル部18を備えており、素体12はエポキシ系、フェノール系、ポリイミド系等の感光性樹脂を硬化させた透明な感光性樹脂硬化物からなる絶縁樹脂層20を積層して形成した構成としたものである。
【選択図】図1

Description

本発明は各種電子機器等に用いるチップコイルに関するものである。
以下、従来のチップ部品について図面を参照しながら説明する。
図5は従来のチップ部品の製造工程を示す工程図、図6は図5のA部の分解斜視図である。
図5に示すように、チップ部品の製造工程は、シート形成工程(A)と、コイル部形成工程(B)と、素体分離工程(C)と、電極形成工程(D)とを備えている。
まず、図5(A)に示すように、グリーンシート1を複数形成する(シート形成工程(A))。
次に、図5(B)および図6に示すように、複数のグリーンシート1上にAgペーストからなる弧状導体2を印刷し、これらのグリーンシート1を積層して、螺旋状導体からなるコイル部3を形成する(コイル部形成工程(B))。このとき、上下に隣接するグリーンシート1に印刷された弧状導体2は、互いにグリーンシート1に形成したスルーホール4を介して電気的に接続され、コイル部3を形成する。
次に、図5(C)に示すように、ダイシング切断法やトムソン切断法等を用いて、隣接する素体5を切断機6で切断し、チップ部品7を複数形成する(素体分離工程(C))。
そして、このチップ部品7に電極等を形成するとともに、焼成して完成品を製造する(電極形成工程(D))。
なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。
特開平11−186084号公報
上記従来の構成では、素体部がセラミックからなり不透明なので、素体に埋設したコイル部の状態を目視で確認することができない。すなわち、コイル部の切断等を外観で検査することができず、検査工程を簡易にできないという問題点を有していた。
本発明は上記問題点を解決するもので、コイル部の断線等を外観で検査することのできるチップコイルを提供することを目的としている。
上記目的を達成するために本発明は以下の構成を有する。
本発明の請求項1記載の発明は、方形状の素体と、前記素体の端部に配置した電極とを備え、前記素体は感光性樹脂を硬化させた感光性樹脂硬化物からなる絶縁樹脂層で形成するとともに、螺旋状金属からなるコイル部を前記絶縁樹脂層に埋設した構成である。
上記構成により、素体は、感光性樹脂を硬化させた感光性樹脂硬化物からなる絶縁樹脂層で形成しており、一般的に、感光性樹脂はほぼ透明であるので、素体に埋設したコイル部の状態を外観で検査することができる。
以下、本発明の全請求項に記載の発明について図面を参照しながら説明する。
図1は本発明の一実施の形態におけるチップコイルの透視斜視図、図2は複数連結された同チップコイルの平面図、図3は図2のA部の拡大平面図、図4は同チップコイルの製造工程を示す工程図である。
図1において、本発明の一実施の形態におけるチップコイルは、チップコイル部品であって、方形状の透明な素体12と、この素体12の下面に配置した電極14と、素体12に埋設した螺旋状金属16からなるコイル部18を備えており、素体12は感光性樹脂を硬化させた感光性樹脂硬化物からなる絶縁樹脂層20で積層して形成している。
また、実装面に対して垂直な面が互いに隣接して形成される第1角部22を略弧状にするとともに、実装面に対して垂直な面と平行な面が互いに隣接して形成される第2角部24を略直角状に形成しており、第1角部22を素体12に形成するとともに、第2角部24を電極14に形成している。素体12の側面にも電極14を配置した場合は、第1角部22および第2角部24を電極14に形成することとなる。
さらに、コイル部18の最外周の螺旋状金属16と素体12の側面との最小距離(端面マージン(W))は5μm以上で50μm以下とし、コイル部18の最大径は5μm〜150μmとし、複数の積層した絶縁樹脂層20からなる素体の高さは50μm〜1mmとしている。
次に、上記のチップコイルの製造工程を説明する。
上記のチップコイルは、図2、図3に示すように、複数のチップコイルを互いに連結した状態で、一度に複数個形成し、最終的に、枠状連結部28で連結された複数のチップコイルを分離し個片化して製造する。
図4において、チップコイルの製造工程は次の通りである。
第1に、素体12の下面に配置する電極14を形成する(電極形成工程(A))。
剥離層が形成された基板30に、フォトリソグラフィ工法により、所定の空隙部を有する絶縁樹脂層20を形成する。この空隙部は、互いに隣接する複数の枠状空隙部32と、この枠状空隙部32の内側に配置した電極用空隙部34とからなり、この枠状空隙部32の内側にチップコイルを形成し、この枠状空隙部32に複数のチップコイルを連結するための連結部を形成する。
この枠状空隙部32および電極用空隙部34および絶縁樹脂層20上には金属層36を形成する。この金属層36は、無電解めっき工法またはスパッタまたは蒸着工法により形成した下地導体層38を有し、この下地導体層38上に電解めっき工法により形成している。
この金属層36は、絶縁樹脂層20の少なくとも上面まで研磨して、電極用空隙部34に金属からなる電極14を形成するとともに、枠状空隙部32に金属からなる枠状連結部28を形成し、かつ、電極14と枠状連結部28との絶縁を図っている。
第2に、さらに、フォトリソグラフィ工法により、所定の空隙部を有する絶縁樹脂層20を形成する(絶縁樹脂層形成工程(B))。
この空隙部は、互いに隣接する複数の枠状空隙部32と、この枠状空隙部32の内側に配置した螺旋状空隙部40と、スルーホール用空隙部42とからなり、この枠状空隙部32は、電極形成工程(A)で形成した枠状空隙部32に重なるように形成している。
第3に、枠状空隙部32、螺旋状空隙部40、スルーホール用空隙部42、絶縁樹脂層20上に金属層36を形成する(金属層形成工程(C))。
この金属層36は、無電解めっき工法またはスパッタまたは蒸着工法により形成した下地導体層38を有し、この下地導体層38上に電解めっき工法により形成している。
第4に、螺旋状金属16からなる2層のコイル部18を形成する(コイル部形成工程(D))。
金属層36形成工程(C)で形成した金属層36は、絶縁樹脂層20の少なくとも上面まで研磨して、螺旋状空隙部40に螺旋状金属16からなるコイル部18を形成し、枠状空隙部32に金属からなる枠状連結部28を形成し、スルーホール用空隙部42に金属からなるスルーホール44を形成し、かつ、コイル部18と枠状連結部28との絶縁を図る。
さらに、絶縁樹脂層形成工程(B)、金属層形成工程(C)を繰り返し、2層のコイル部18を形成する。2層のコイル部18、電極14とコイル部18とは、スルーホール44により導通させている。
第5に、さらに、絶縁樹脂層20を形成するとともに、フォトリソグラフィ工法により、所定の空隙部を有する絶縁樹脂層20を形成して保護層とする(保護層形成工程(E))。
この空隙部は、互いに隣接する複数の枠状空隙部32からなり、この枠状空隙部32は、絶縁樹脂層形成工程(B)で形成した枠状空隙部32に重なるように形成している。
第6に、枠状空隙部32に形成した金属をエッチング剤により溶融して除去し、枠状連結部28により互いに連結された複数のチップコイルを分離するとともに、基板30の剥離層からチップコイルを剥離して(溶剤やアルカリ等で溶融して)個片化する(分離工程(F))。
このようにして、素体12は、電極形成工程(A)、絶縁樹脂層形成工程(B)、保護層形成工程(E)による積層された絶縁樹脂層20で形成され、この素体12の下面には電極14が配置され、素体12にはコイル部18が埋設されることとなる。
この製造方法において、金属層36はCu、Al、Ag、Au、Niあるいは金属の合金等の良導電性金属が好ましい。また、その下地導体層38としてCu、Al、Ag、Au、Ni、Cr、Ti等の絶縁樹脂層20との密着性の高い金属が好ましく、無電解めっき工法、スパッタまたは蒸着工法等で形成することが好ましい。
この製造方法において、絶縁樹脂層20は、感光性樹脂を硬化させた透明な感光性樹脂硬化物からなる。この絶縁樹脂層20は、エポキシ系、フェノール系、ポリイミド系等の樹脂を用いて、フォトリソグラフィ工法により所定形状に加工するが、一般的なフォトリソグラフィ工法で用いるレジストとは異なり、最終的なチップ部品26の素体12を構成する樹脂であるため、一般的には静電気が発生しやすいので、静電気の発生を抑制した樹脂を選択したり、静電気を発散する構成を付加したりしてもよい。
研磨方法は、CMPスラリーを用いたCMP(ケミカルメカニカルポリッシング)研磨を用いるとよい。金属層36をCMP研磨によりエッチングしながら、金属のみを選択的に研磨するので、精度が向上する。その他の研磨方法としては、ダイヤモンドスラリー、アルミナスラリーを用いた機械的研磨を用いてもよいが、精度の点でCMP研磨よりも不利である。金属層36として、エッチングに適さないものを用いた場合は、その部分の研磨を機械的研磨で行ってもよい。
上記構成により、チップコイルの素体12は、感光性樹脂を硬化させた感光性樹脂硬化物からなる絶縁樹脂層20で形成しており、一般的に、感光性樹脂はほぼ透明であるので、素体12に埋設したコイル部18の状態を外観で検査することができる。特に、感光性樹脂として、完全に透明なものを用いれば、外観の検査が非常に容易となり、検査工程を容易にできる。
この製造工程において、絶縁樹脂層20はフォトリソグラフィ工法により形成するのでコイル部18を埋設した素体12を容易に形成できる。絶縁樹脂層20は、感光性樹脂を硬化させた感光性樹脂硬化物からなるが、この感光性樹脂が透明であればあるほど、光硬化の際に光の透過率を高くできる。すなわち、アスペクト比を大きくでき、コイル部18の厚みを厚くすることができる。特に、螺旋状金属16からなるコイル部18が積層されて形成されていても、感光性樹脂が透明であれば一層ごとの検査が容易で、画像認識等で断線等を判別することができる。積層ごとの螺旋状金属16からなるコイル部18の認識は、コイル部18が存在する層のみが透明であれば可能なので、画像認識等によるチップ部品の実装基板等への実装を考えると、素体12の上面あるいは下面の少なくとも一方は不透明にすることが好ましい。
また、金属層36は、無電解めっき工法またはスパッタまたは蒸着工法により形成した下地導体層38を有し、この下地導体層38上に電解めっき工法により形成することにより、密度を大きくしたコイル部18を容易に形成できる。
さらに、上記の製造工程によれば、ダイシング切断法やトムソン切断法等を用いないので、分離時における素体12の変形等がなく、切断幅を考慮しなくてもよいので、素体12の外形に応じて、コイル部18の大きさを最大限にすることができる。すなわち、コイル部18の最外周の螺旋状金属16と素体12の側面との最小距離(端面マージン(W))を、一般的には不可能な5μm以上で50μm以下にもすることが可能となる。
以上のように本発明にかかるチップコイルは、外観の検査を容易にできるので、各種電子機器に適用できる。
本発明の一実施の形態におけるチップ部品の透視斜視図 複数連結された同チップ部品の平面図 図2のA部の拡大平面図 同チップ部品の製造工程を示す工程図 従来のチップ部品の製造工程を示す工程図 同5のA部の分解斜視図
符号の説明
12 素体
14 電極
16 螺旋状金属
18 コイル部
20 絶縁樹脂層
22 第1角部
24 第2角部
26 チップ部品
28 枠状連結部
30 基板
32 枠状空隙部
34 電極用空隙部
36 金属層
38 下地導体層
40 螺旋状空隙部
42 スルーホール用空隙部
44 スルーホール

Claims (4)

  1. 方形状の素体と、前記素体の端部に配置した電極とを備え、前記素体は感光性樹脂を硬化させた感光性樹脂硬化物からなる絶縁樹脂層で形成するとともに、螺旋状金属からなるコイル部を前記絶縁樹脂層に埋設した請求項1記載のチップコイル。
  2. 前記コイル部の最外周の螺旋状金属と前記素体の側面との最小距離を5μm以上で50μm以下とした請求項1記載のチップコイル。
  3. 前記感光性樹脂は、透明である請求項1記載のチップコイル。
  4. 前記素体の上面あるいは下面の少なくとも一方が不透明である請求項1記載のチップコイル。
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