JP2006170733A - 基板位置決め保持方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 薄板構造を持ち相当の重量に達することがある基板を、ステージ上において正確に且つ僅かの力で容易に位置決めすること、及びその位置決め状態でステージ上への保持を可能にする基板位置決め保持方法及び装置を提供する。
【解決手段】 ステージ１上に搬送された基板Ｂは、ステージ１に関連して設けられたステー４に形成されたエア開口５からの噴出エアで浮遊状態となる。その状態で基板Ｂは、その側方から規制駒１０の係合片１３が側方からの僅かな力で当接することによって、所定の位置に位置決めされる。規制駒１０による当接状態でエアの噴出を停止するとともに、係合片１３による基板Ｂのステージ１への押し付け、及びエア開口５からの基板Ｂの吸着によって、基板Ｂはステージ１上に保持される。ステージ１における基板Ｂの位置を検出するセンサの検出基準を緩めても、アラームの発生の多発を回避することができる。
【選択図】 図２

Description

この発明は、斜光検査装置等において基板のステージに対する位置決めと保持とを行う基板位置決め保持方法及びその装置に関する。

液晶パネル用等の基板は、通常薄板のガラス基板であって、その表面には微細な配線等の加工が施されている。従来、こうした基板については、斜光検査装置において、表面に異物が存在していないか否か等を確認するために、基板に光を当てて目視検査が行われている。目視検査をするための検査装置として、基板を載置し移動・回転することができるステージを備えた斜光検査装置が用いられている。水平状態で供給された基板を載置したステージを、検査時に水平軸線の回りに回転して立てた状態とし、上方から検査光を当てるなどして目視にて検査をしている。

基板をステージに対して載置するには、基板をステージに対して位置決めをする必要がある。また、基板が大型化すると薄板であっても相当の重量となるので、ステージを立てたときに、基板がステージに対して外れたり下がり落ちないようにする保持手段が必要となる。保持手段としては、基板を吸着することでステージに押し付けた状態を作り得る吸着手段を採用することができるが、吸着手段単独では、万一、吸着手段の不具合が生じた場合に基板が落下する虞があるので、安全性を確保することを含めて、治具によって機械的に保持することも行われている。そのため、複数個の治具が基板の周囲に適当な間隔を置いて配置されている。吸着手段に代えて、基板を上方からステージに押さえる押さえ治具が設けられる場合もある。治具は、通常、ロボットによって、水平状態のステージに対して上方から真っ直ぐ下降することでステージに取り付けし、治具の取り外しは、逆に、ステージから真っ直ぐに上昇させることで行われている。

基板検査装置における基板固定治具の一例として、昇降体の先端に支持される基板を、その周囲に配置され且つ押さえ部材が回転して上から押さえ込む形式の固定治具が提案されている（特許文献１）。この固定治具は、検査用基板の固定冶具は、検査対象となる基板を囲繞して設ける枠体部と、これに着脱自在に固定されて基板を固定させる固定部とから成っており、基板サイズに合わせて枠体に対する固定部を移動させることができると共に、長孔に沿って内側への移動も可能に構成されている。基板を検査装置に固定するに際して、冶具の取り付け位置を特定せずに、基板サイズに合わせて基板を固定し、円滑な作動の実現を図っている。基板を載置支持するピンボードを上昇させるときに、ピンボードに設けた回転ローラが固定の枠体に回転可能に設けられた回動杆を回転させて、これに連結した押さえ杆の先端で基板をピンボードとの間で若干挟圧して保持する。ピンボードの針の先端が基板の所定の位置に接触する状態となり、ここに通電すると回路の正常な作動の確認、及びボリューム調整等の検査を可能にしている。また、押さえ板の過度の押さえを回避する手段も組み込まれている。

また、表示用パネルの縁部を、当該表示用パネルを受けるパネル受けに対して吸着溝に確実に吸着保持するチャックトップが提案されている（特許文献２）。このチャックトップによれば、表示用パネルを受けるパネル受け面を有するベース部材であって表示用パネルを解除可能に吸着すべくパネル受け面に開放する１以上の吸着溝を有するベース部材と、パネル受け面に受けられた表示用パネルの縁部をパネル受け面に解除可能に押圧する複数のプッシャー機構とを含んでいる。表示用パネルは、パネル受け面に受けられた後、縁部をプッシャー機構によりパネル受け面に押圧される。これにより、たとえ表示用パネルの縁部とチャックトップのパネル受け面との間に隙間が存在していても、その隙間はプッシャー機構による押圧力により消滅する。その結果、表示用パネルの縁部が吸着溝に確実に吸着され、チャックトップに対する表示用パネルの変位が防止される。
特開２００３−７５４９６号公報（段落［００１９］〜［００２６］、図４〜図８） 特開２００２−１６１２７号公報（段落［００７１］〜［００８０］、図９）

上記の斜光検査装置においては、基板がステージに搬送されてきたとき、基板の位置を例えばその隅部の四カ所に対応した位置に配置されているセンサで確認してからロボットが治具を下降させている。ロボットによる治具の下降についても、取付け位置の精度に若干のバラツキは回避できない。基板のステージに対する搬送位置ずれが生じているとき、あるいは治具の下降位置のバラツキが生じていると、治具の下降の際に基板が損傷する可能性がある。そこで、センサの検出限界を厳しくしてそうした事態が生じるのを防止しているが、そうすると、センサが基板の位置ずれを検出してアラームを発する頻度が高くなる。人手で基板の位置を修正し、それからステージの回転をするなどの対応を取る必要があり、極端な場合には、検査工程が滞ることも考えられる。

一方、ステージを起立させてときの基板は、自重によってステージに対して僅かに下方にずれる。したがって、基板の下辺で係合する治具に対しては、基板の重さが集中して作用し、治具の側部に基板が強く当接する状態となる。検査終了後、この状態からステージを逆方向に回転して基板を元の水平状態に戻すが、基板の下辺で係合する治具に対して基板の当たり状態が維持されているので、その状態で治具を引き上げると、上昇するジグが基板（ガラス板）の側端面を摺ることになり、基板には強い振動が生じて、薄い基板は割れることがある。

そこで、基板のステージ上での位置決めとその保持において、薄板構造を持ち相当の重量に達することがある基板を、ステージ上において所定の面内位置に正確に且つ僅かの力で容易に位置決めできるように、方法及び治具を含めたステージの構造を改善する点で解決すべき課題がある。

この発明の目的は、薄板構造を持ち相当の重量に達することがある基板を、ステージ上において正確に且つ僅かの力で容易に位置決めを可能にする基板位置決め保持方法及び装置を提供することであり、また、ステージにおける基板の位置を検出するセンサを設ける場合には、当該センサの検出基準を緩めても、基板をステージ上の所定の位置に位置決めし且つ保持可能であり、しかもアラームの発生の多発を回避することができる基板位置決め保持方法及び装置を提供することである。

上記の課題を解決するため、この発明による基板位置決め保持方法は、ステージ上に搬送された基板を前記ステージから噴き出すエアで浮遊させ、当該浮遊状態にある前記基板をその側方から位置決め手段を当接させ、前記位置決め手段による当接状態で前記エアの噴出を停止するとともに前記基板を前記ステージに保持することから成っている。

また、この発明による基板位置決め保持装置は、基板が搬送されてくるステージ、前記ステージに設けられ前記基板を前記ステージ上で浮遊させるエアを噴出するエア噴出手段、当該浮遊状態にある前記基板に対して側方から当接して位置決めする位置決め手段、前記位置決め手段による当接状態で前記エア噴出手段の作動停止後に作動して前記基板を前記ステージに保持する保持手段を備えることから成っている。

この基板位置決め保持方法及び装置によれば、ステージ上に搬送された基板は、ステージから噴き出すエア（装置の場合には、エア噴出手段から噴出される）で浮遊される。その浮遊状態にある基板は、その側方から位置決め手段が当接することによって所定の位置に位置決めされる。基板は、噴出されるエアによって浮遊状態にあるので、側方からの僅かな力でもって面内方向に移動可能である。位置決め手段による当接状態でエアの噴出を停止するとともに基板をステージに保持する（装置の場合には、保持手段が保持する）。

この基板位置決め保持方法において、基板のステージへの保持を、基板に対する位置決め手段の当接と同時又は直後に、押圧手段による基板のステージへの押さえ付け、吸着手段による基板のステージに対する吸着の少なくとも一方により行うことができる。また、この基板位置決め保持装置においては、基板をステージに保持するため、基板に対する位置決め手段の当接と同時又は直後に作動し基板をステージに押さえ付ける押圧手段、及び基板をステージに対して吸着する吸着手段の少なくとも一方の手段を備えることができる。この基板位置決め保持方法及び装置によれば、位置決め手段の当接によって位置決めされた基板は、その位置決めと同時又は直後において、ステージに対して、押圧手段による押さえ付けか、吸着手段による吸着かのいずれかによって保持される。基板が非常に重い場合等、両方の手段を用いることによって、確実に且つ安全に基板をステージに対して保持することができる。

この基板位置決め保持方法において、基板のステージへの吸着については、ステージから噴き出すエアの噴出し口に通じるエア通路を、エアの噴き出しのためのエア供給源からエア真空源に接続切り替えすることにより行うことができる。また、この基板位置決め保持装置において、エア噴出手段は、エア供給源と、当該エア供給源に接続されてステージから噴き出すエアの噴出し口に通じるエア通路とを備えており、吸着手段は、エア通路に対してエア供給源と切り替え可能なエア真空源を備え、噴出し口をエア吸着口として兼用することができる。この基板位置決め保持方法及び装置によれば、エア供給源とエア真空源とを切り替えることによって、噴出し口（或いはエア吸着口）に通じるエア通路を兼用することができ、ステージの構造や配管系を簡素化することができる。

この基板位置決め保持方法及び装置において、基板のステージへの保持を押圧手段による押さえ付けと吸着手段による吸着とで行う場合には、基板の保持の解除については、押圧手段による押さえ付けの解除の後に吸着手段による吸着の解除を行う順序とすることができる。基板のステージへの保持を押圧手段による基板のステージへの押さえ付けと吸着手段による基板のステージに対する吸着との両方で行う場合には、押圧手段による押さえ付けの解除の後に吸着手段による吸着の解除を行うことにより、基板の保持の解除を行うことができる。押圧手段による押さえ付けの解除は、押圧手段の変位を伴う動作であるので、基板の側端等を摺るなどの基板への影響が出る場合がある。一方、吸着手段の場合には、吸着口へのエア真空源への接続を切るだけであるので、基板に対する接触がなく、最後に安全に基板の保持を解除することができる。

この基板位置決め保持方法及び装置において、ステージに搬送されてきた基板の位置をセンサによって検出し、検出された基板の位置が許容範囲内であるときに、エアによる浮遊に始まる（装置の場合には、エア噴出手段によるエア噴射に始まる）基板の一連の位置決め保持動作を開始することができる。センサの検出限界は、従来のものより緩く設定可能であるので、ステージに対する基板の許容範囲を逸脱する大きな位置ずれをセンサが検出した場合には、人手によるなどして基板の位置が修正される。センサが許容範囲を超える位置ずれを検出しない場合には、従来よりも検出限界が緩やかであるので、エア噴出手段やエア吸着手段と側方への位置決め手段の共同作用により、ステージ上における基板の正確な位置決めを行うことができる。

この基板位置決め保持方法及び装置において、基板は表面に微細加工が施された薄板基板であり、基板位置決め保持装置は、基板を縦置き状態で検査するためステージが回転可能な斜光検査装置において適用することができる。斜光検査装置においては、ステージを回転させて、基板を縦置きした状態で目視等による検査が行われる。したがって、基板はステージから変位する、ずれ落ちる等の不具合が生じる虞がある。本方法及び装置によれば、ステージが回転しても、基板はステージ上で、正確に位置決めされた状態で確実にステージ上に保持される。

この発明による基板位置決め保持方法及び装置は、上記のように構成されており、薄板構造を持ち相当の重量に達することがある基板を、噴出されるエアによってステージ上で浮遊状態にするので、基板を僅かな横方向の力でステージ上を移動させることが可能となる。したがって、基板をステージ上の所定の面内位置に正確に且つ容易に位置決めし、保持することができる。また、この基板位置決め保持方法及び装置において、搬入される基板のステージ上での位置を検出するセンサが設けられている場合においては、基板をステージ上の所定の位置に位置決めし且つ保持可能であり、しかも当該センサの検出基準を緩めて設定しても、アラームの発生の多発を回避することができる。

以下、添付した図面に基づいて、この発明による基板位置決め保持方法及び装置の実施例を、基板位置決め保持装置の例を挙げて説明する。図１はこの発明による基板位置決め保持装置に用いられるステージの一例を示す図であり、（ａ）はその平面図、（ｂ）は一部断面図である。

図１に示す基板位置決め保持装置に用いられるステージ１は基板Ｂ（想像線で示される）のサイズに合わせた矩形を有しており、全体が水平に延びる図示しない回転軸の回りに回転可能に支持されている。ステージ１は、周囲に巡るように配置された四角環状のフレーム２と、フレーム２に対して所定の箇所に取り付けられ、且つ先端が内部空間３に延びる複数の片持ちステー４とを備えている。各片持ちステー４には、所定の箇所（図示の例では、基端部と先端部）にエア開口５，５が上面に形成されている。ステージ１は、多数のエア開口５がエア吸着口として機能するときに、基板Ｂは、フレーム２及び片持ちステー４において、エア開口５に吸着された状態で保持可能である。

ステージ１のフレーム２の四隅には、それぞれ、ステージ１に搬入される基板の位置を検出するためのセンサ６が設けられている。センサ６が、例えば、基板の四隅に形成されているマークの位置が正常と判定される範囲であることを検出するときには、ランプ等の表示器（図示せず）は正常表示をするが、当該マークの位置が当該範囲を逸脱している場合には、表示器は、センサ６の検出信号に基づいてアラームを発するように構成されている。

センサの検出限界は、従来のものより緩く設定されている。ステージ１に対する基板Ｂの許容範囲を逸脱する大きな位置ずれをセンサ６が検出した場合には、表示器がアラームを発する。この場合には、後述する位置決め手段による自動位置修正が適用できないので、人手によるなどして基板Ｂの位置が修正される。人手による修正の後、再度、センサ６による検出に掛けるときに、センサ６が基板Ｂの許容範囲を超える位置ずれを検出しなくなった場合には、後述する位置決め・保持が行われる。

図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ部の拡大断面図である。当該フレームの部分には、片持ちステー４に形成されているエア開口５に通じる通路が配置されており、この通路をエア真空源につながる配管７に接続しているときには、エア開口５はエア吸着口として機能している。このとき、エア真空源、配管７、通路及びエア開口５から成る系統は、後述する保持手段の一つとしての吸着手段を構成している。一方で、この通路は、エア供給源につながる配管８に切り替え接続可能であり、配管８に接続しているときにはエア開口５はエア噴出口として機能している。このとき、エア供給源、配管８、通路及びエア開口５から成る系統はエア噴出手段を構成している。通路とエア開口５とをエア噴出用とエア吸着用とで兼用することにより、ステージ１の通路形成等の構造を簡素化することができる。

エア噴出手段が作動しており、基板Ｂがエア浮遊状態にあるときには、基板Ｂは、ステージ１に対する摩擦抵抗が極めて小さくなっており、僅かの横方向の力で面内方向に移動可能である。基板位置決め保持装置には、この浮遊状態を利用して基板Ｂを移動させるための位置決め手段が備わっている。図２は、この発明による基板位置決め保持装置の第１実施例を示す側面断面概略図である。この実施例では、ステージ１の周囲において、基板Ｂの位置を規制する複数の規制駒１０が配置されており、図２には、そのうちの相対向する２つの規制駒１０，１０が描かれている。

規制駒１０は、基板Ｂのステージ１上における位置決め手段と、ステージ１への保持手段との両手段を備えている。即ち、各規制駒１０は、ステージ１に対して回動軸１２の回りに回動可能な駒本体１１と、駒本体１１に一体又は取り付けられた係合片１３とから成っている。係合片１３は、駒本体１１が起立した状態で、ステージ１上の基板Ｂの側端面ｂ１と側端部ｂ１の近傍の上面ｂ２とにそれぞれ係合する内側面ｃ１と内下面ｃ２とを備えている。係合片１３は、基板Ｂに係合するときにステージ１に当接する必要はなく、誤差精度の観点からはむしろステージ１と当接しない方がよい。規制駒１０の作動は、適宜の機械的な手段によって行わせることができる。また、基板Ｂに過剰な荷重がかからないように、規制駒１０の作動には適宜のストッパや緩衝作用を設けることができる。

図２（ａ）から（ｂ）に示すように周囲の各規制駒１０が起立したときに、基板Ｂは各規制駒１０からその内側面ｃ１によって押される。規制駒１０は複数配置されているので、すべての規制駒１０が基板Ｂを押すことによって、基板Ｂがステージ１上で位置決めされる。同時に、基板Ｂは、各規制駒１０からその内下面ｃ２によってステージ１上に押し付けられるので、ステージ１上で保持され、斜光検査等のためにステージ１が回転しても、基板Ｂが位置ずれしたり落下することが防止される。規制駒１０によるステージ１上への押し付けに加えて、エア供給源、配管７、通路及びエア開口５から成る系統を作動させて、エア開口５をエア吸着口として基板Ｂを吸着することができる。斜光検査等のためにステージ１を回転させて、基板Ｂを縦置き状態にするとき、基板Ｂは、各規制駒１０及び吸着手段によってステージ１に対して保持され、基板Ｂがステージから外れたり倒れることはない。しかしながら、基板Ｂはその自重によって下側に来る規制駒１０に比較的に強く当接することがある。

規制駒１０が図２（ｂ）から図２（ａ）に示すように外側に倒れた場合には、係合片１３は基板Ｂから斜め上方へ逃げるように離間する。したがって、規制駒１０による規制解除を行う場合に、基板Ｂが下側にあった規制駒１０に比較的に強く当接しているようなことがあっても、離間の際に、係合片１３の内側面ｃ１と内下面ｃ２とが基板Ｂの側端面ｂ１と上面ｂ２とを摺ることがなく、基板Ｂの割れ等の不具合が生じることを防止することができる。規制駒１０の規制解除の後に、吸着手段による基板Ｂの吸着が解除される。

図４には、このときの作業フロー、即ち、この発明による基板位置決め保持装置の作業フローの一例が示されている。図２に示す例をまとめると、次のようになる。先ず、基板Ｂのステージ１上への搬入が行われる（ステップ１。「Ｓ１」と略す。以下同じ）。センサ６による基板Ｂのステージ１上での位置を検出する（Ｓ２）。アラームがでれば、手動にて基板Ｂの位置を正す（Ｓ３）。アラームがでなければ、エア開口５からエアを噴出して基板Ｂをステージ１上で浮遊状態にする（Ｓ４）。規制駒１０が作動して、浮遊状態にある基板Ｂのステージ１上における位置決めと保持（押し付け）とを行う（Ｓ５）。エアの噴出を停止して浮遊状態を解除し、今度は逆にエア開口５からエアを吸引することにより、基板Ｂを吸着保持する（Ｓ６）。ステージ１を回転して、基板Ｂの斜光検査を行う（Ｓ７）。検査終了後、ステージ１を当初の水平状態に戻す（Ｓ８）。基板Ｂの規制駒１０による保持を解除する（Ｓ９）。更に、基板Ｂの吸着保持を解除する（Ｓ１０）。

図３は、この発明による基板位置決め保持装置の第２実施例を示す側面断面概略図である。この実施例では、ステージ１の周囲において、基板Ｂの位置を規制する複数の規制駒２０が配置されており、図３には、そのうちの相対向する２つの規制駒２０，２０が描かれている。

規制駒２０は、規制駒１０と同様に、基板Ｂのステージ１上における位置決め手段と、ステージ１への保持手段との両手段を備えている。即ち、各規制駒２０は、ステージ１に対して横方向に移動可能な駒本体２１と、駒本体２１に対して相対移動可能な係合片２３とから成っている。係合片２３は、駒本体２１と共に上下動、即ち、基板Ｂに対して直交する方向に移動可能であり、下降位置では、係合片２３に備わる内側面ｃ１と内下面ｃ２とはステージ１上の基板Ｂの側端面ｂ１と側端部ｂ１の近傍の上面ｂ２とにそれぞれ係合する。係合片２３は、基板Ｂに係合するときにステージ１に当接する必要はなく、誤差精度の観点からはむしろステージ１と当接しない方がよい。規制駒２０の作動は、適宜の機械的な手段によって行わせることができる。また、基板Ｂに過剰な荷重がかからないように、規制駒１０の作動には適宜のストッパや緩衝作用を設けることができる。

図３（ａ）に示すように周囲の各規制駒２０が基板Ｂに側方より接近したとき起立したときに、基板Ｂは各規制駒２０の係合片２３からその内側面ｃ１によって押される。規制駒２０は複数配置されているので、すべての規制駒２０が基板Ｂを押すことによって、基板Ｂがステージ１上で位置決めされる。同時に、基板Ｂは、各規制駒１０からその内下面ｃ２によってステージ１上に押し付けられるので、ステージ１上で保持され、斜光検査等のためにステージ１が回転しても、基板Ｂが位置ずれしたり落下することが防止される。規制駒２０によるステージ１上への押し付けに加えて、吸着手段を作動させて、エア開口５をエア吸着口として基板Ｂを吸着することができる。

規制駒２０による位置決めと保持を解除するには、図３（ｂ）から図３（ｃ）に示すように、先ず、駒本体２１のみを基板Ｂから外側に離れるように移動させる。その後、係合片２３を駒本体２１と共に上昇させて基板Ｂから上方へ逃げるように離間させる。したがって、規制駒２０を規制解除する場合に、基板Ｂが下側にあった規制駒１０に比較的に強く当接しているようなことがあっても、離間の際に、係合片２３の内側面ｃ１と内下面ｃ２と同様に、駒本体２１が基板Ｂの側端面ｂ１を摺ることがなく、基板Ｂの割れ等の不具合が生じることを防止することができる。規制駒２０の規制解除の後に、吸着手段による基板Ｂの吸着を解除する。検査を含めたトータルな作動フローについては、第２実施例においても、図４に示すとおりである。

第１実施例及び第２実施例においては、吸着手段によって基板Ｂを保持することが行われれば、係合片１３、２３が備える機能のうち、基板Ｂをステージ１に押し付ける機能は必ずしも備える必要はない。また、エア噴出口とエア吸着口とは、エア開口５を兼用する例を示したが、それぞれ個別の開口として設けることも可能である。更に、基板Ｂは、液晶パネルに用いられるガラス基板とすることができるが、それ以外の薄板のガラス、プラスチック、シートであっても勿論可能である。

以上、この発明による基板位置決め保持について、基板位置決め保持装置の各実施例を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲内で変更を加えて実施をすることができることは明らかである。

この発明による基板位置決め保持装置に用いられるステージの一例を示す図であり、（ａ）はその平面図、（ｂ）は一部断面図。 この発明による基板位置決め保持装置の第１実施例を示す側面断面概略図。 この発明による基板位置決め保持装置の第２実施例を示す側面断面概略図。 この発明による基板位置決め保持装置の作業フローの一例を示すフローチャート。

符号の説明

１ ステージ
２ フレーム
３ 内部空間
４ 片持ちステー
５ エア開口
６ センサ
７ 配管
８ 配管
１０ 規制駒
１１ 駒本体
１２ 回動軸
１３ 係合片
ｃ１ 内側面
ｃ２ 内下面
２０ 規制駒
２１ 駒本体
２３ 係合片
Ｂ 基板
ｂ１ 側端面
ｂ２ 上面

Claims (12)

1. ステージ上に搬送された基板を前記ステージから噴き出すエアで浮遊させ、当該浮遊状態にある前記基板をその側方から位置決め手段を当接させ、前記位置決め手段による当接状態で前記エアの噴出を停止するとともに前記基板を前記ステージに保持することから成る基板位置決め保持方法。
2. 前記基板の前記ステージへの保持は、前記基板に対する前記位置決め手段の当接と同時又は直後に、押圧手段による前記基板の前記ステージへの押さえ付け、及び吸着手段による前記基板の前記ステージに対する吸着の少なくとも一方により行われることから成る請求項１に記載の基板位置決め保持方法。
3. 前記基板の前記ステージへの吸着は、前記ステージから噴き出すエアの噴出し口に通じるエア通路を、前記エアの噴き出しのためのエア供給源からエア真空源に接続切り替えすることにより行われることから成る請求項２に記載の基板位置決め保持方法。
4. 前記基板の前記ステージへの保持が前記押圧手段による押さえ付けと前記吸着手段による吸着とで行われる場合には、前記押圧手段による押さえ付けの解除の後に前記吸着手段による前記吸着の解除を行うことにより、前記基板の保持を解除することから成る請求項２に記載の基板位置決め保持方法。
5. 前記ステージに搬送されてきた前記基板の位置をセンサによって検出し、検出された前記基板の位置が許容範囲内であるときに、前記エアによる浮遊に始まる前記基板の一連の位置決め保持動作が開始されることから成る請求項１〜４のいずれか１項に記載の基板位置決め保持方法。
6. 前記基板は表面に微細加工が施された薄板基板であり、前記基板位置決め保持方法は、前記基板を縦置き状態で検査するため前記ステージが回転可能な斜光検査装置において適用されていることから成る請求項１〜５のいずれか１項に記載の基板位置決め保持方法。
7. 基板が搬送されてくるステージ、前記ステージに設けられ前記基板を前記ステージ上で浮遊させるエアを噴出するエア噴出手段、当該浮遊状態にある前記基板に対して側方から当接して位置決めする位置決め手段、前記位置決め手段による当接状態で前記エア噴出手段の作動停止後に作動して前記基板を前記ステージに保持する保持手段を備えることから成る基板位置決め保持装置。
8. 前記基板を前記ステージに保持するため、前記基板に対する前記位置決め手段の当接と同時又は直後に作動し前記基板を前記ステージに押さえ付ける押圧手段、及び前記基板を前記ステージに対して吸着する吸着手段の少なくとも一方の手段を備えていることから成る請求項７に記載の基板位置決め保持装置。
9. 前記エア噴出手段は、エア供給源と、当該エア供給源に接続されて前記ステージから噴き出すエアの噴出し口に通じるエア通路とを備えており、前記吸着手段は、前記エア通路に対して前記エア供給源と切り替え可能なエア真空源を備え、前記噴出し口をエア吸着口として兼用していることから成る請求項８に記載の基板位置決め保持装置。
10. 前記基板の前記ステージへの保持が前記押圧手段による前記基板の前記ステージへの押さえ付けと前記吸着手段による前記基板の前記ステージに対する吸着とで行われる場合には、前記押圧手段による押さえ付けの解除の後に前記吸着手段による吸着の解除を行うことにより、前記基板の保持の解除が行われることから成る請求項８に記載の基板位置決め保持装置。
11. 前記ステージは搬送されてきた前記基板の位置を検出するセンサを備えており、検出された前記基板の位置が許容範囲内であるときに、前記エア噴出手段によるエア噴射に始まる前記基板の一連の位置決め保持動作が開始されることから成る請求項７〜１０のいずれか１項に記載の基板位置決め保持装置。
12. 前記基板は表面に微細加工が施された薄板基板であり、前記基板位置決め保持装置は、前記基板を縦置き状態で検査するため前記ステージが回転可能な斜光検査装置において適用されていることから成る請求項６〜９のいずれか１項に記載の基板位置決め保持装置。

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