JP2006169006A - 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 - Google Patents
電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006169006A JP2006169006A JP2004359865A JP2004359865A JP2006169006A JP 2006169006 A JP2006169006 A JP 2006169006A JP 2004359865 A JP2004359865 A JP 2004359865A JP 2004359865 A JP2004359865 A JP 2004359865A JP 2006169006 A JP2006169006 A JP 2006169006A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- subcomponent
- ceramic composition
- dielectric ceramic
- main component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】 チタン酸バリウムを含む主成分と、Rの酸化物(ただし、RはY,Dy,Tb,GdおよびHoから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、前記主成分の原料と、前記第4副成分の原料の少なくとも一部とを予め反応させ、反応済み原料を得る工程を有し、前記主成分の原料と予め反応させる前記第4副成分の原料が、Rの酸化物および/または焼成によりRの酸化物となる化合物を含有するゾル、あるいはアルコキシドを含有する原料であることを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。
【選択図】 なし
Description
チタン酸バリウムを含む主成分と、
Rの酸化物(ただし、RはY,Dy,Tb,GdおよびHoから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、
前記主成分の原料と、前記第4副成分の原料の少なくとも一部とを予め反応させ、反応済み原料を得る工程を有し、
前記主成分の原料と予め反応させる前記第4副成分の原料が、Rの酸化物および/または焼成によりRの酸化物となる化合物を含有するゾルであることを特徴とする。
チタン酸バリウムを含む主成分と、
Rの酸化物(ただし、RはY,Dy,Tb,GdおよびHoから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、
前記主成分の原料と、前記第4副成分の原料の少なくとも一部とを予め反応させ、反応済み原料を得る工程を有し、
前記主成分の原料と予め反応させる前記第4副成分の原料が、アルコキシドを含有する原料であることを特徴とする。
前記反応済み原料に、前記誘電体磁器組成物に含有されることとなる残りの前記第4副成分の原料を添加する工程とを有する。
MgO、CaO、BaOおよびSrOから選択される少なくとも1種を含む第1副成分と、
SiO2 を主として含有し、MO(ただし、MはMg、Ca、BaおよびSrから選択される少なくとも1種)、Li2 OおよびB2 O3 から選択される少なくとも1種を含む第2副成分と、
V2 O5 、MoO3 およびWO3 から選択される少なくとも1種を含む第3副成分と、をさらに含有し、
前記主成分100モルに対する各副成分の比率を、
第1副成分:0.1〜5モル、
第2副成分:0.1〜12モル、
第3副成分:0〜0.3モル(ただし、0は含まない)、
とする。
前記主成分100モルに対する第5副成分の比率を、0.05〜1.0モルとする。
前記第1〜第3、第5副成分の原料のうち少なくとも一部として、上記ゾル、あるいは有機化合物の塩を含有する原料を使用することにより、誘電体磁器組成物の電気特性(特に、比誘電率および絶縁抵抗の加速寿命)を向上させることができる。なお、前記ゾル、あるいは有機化合物の塩としては、上述した第4副成分の原料として用いられるゾル、あるいは有機化合物の塩と同様のものが使用できる。
特に、本発明においては、前記主成分の原料と予め反応させる前記第4副成分の原料として、前記ゾル、あるいは前記アルコキシドを含有する原料を使用するため、前記主成分に対して前記第4副成分を、均一に分散、固溶させることができる。そのため、焼成後の誘電体磁器組成物において、前記第4副成分の偏析、および特性のバラツキを小さくすることができる。
図1は本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサの断面図、
図2は本発明の一実施形態に係る誘電体磁器組成物粉末の製造方法を示すフロー図である。
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る積層セラミックコンデンサ1は、誘電体層2と内部電極層3とが交互に積層された構成のコンデンサ素子本体10を有する。このコンデンサ素子本体10の両端部には、素子本体10の内部で交互に配置された内部電極層3と各々導通する一対の外部電極4が形成してある。コンデンサ素子本体10の形状に特に制限はないが、通常、直方体状とされる。また、その寸法にも特に制限はなく、用途に応じて適当な寸法とすればよい。
誘電体層2は、誘電体磁器組成物を含有する。
本実施形態においては、上記誘電体磁器組成物は、組成式Bam TiO2+m で表され、前記組成式中のmが0.995≦m≦1.010であり、BaとTiとの比が0.995≦Ba/Ti≦1.010であるチタン酸バリウムを含む主成分と、Rの酸化物(ただし、RはY,Dy,Tb,GdおよびHoから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分と、その他の副成分とを含有する。
すなわち、MgO、CaO、BaOおよびSrOから選択される少なくとも1種を含む第1副成分と、
SiO2 を主として含有し、MO(ただし、MはMg、Ca、BaおよびSrから選択される少なくとも1種)、Li2 OおよびB2 O3 から選択される少なくとも1種を含む第2副成分と、
V2 O5 、MoO3 およびWO3 から選択される少なくとも1種を含む第3副成分と、
MnOおよびCr2 O3 から選択される少なくとも1種を含む第5副成分と、をさらに含有することが好ましい。
第1副成分:0.1〜5モル、
第2副成分:0.1〜12モル、
第3副成分:0〜0.3モル(ただし、0は含まない)、
第5副成分:0.05〜1.0モル
であり、好ましくは、
第1副成分:0.2〜4モル、
第2副成分:1〜6モル、
第3副成分:0〜0.25モル(ただし、0は含まない)、
第5副成分:0.05〜0.4モル
である。
第1副成分(MgO、CaO、BaOおよびSrO)の含有量が少なすぎると、容量温度変化率が大きくなってしまう。一方、含有量が多すぎると、焼結性が悪化すると共に、高温負荷寿命が悪化する傾向にある。なお、第1副成分中における各酸化物の構成比率は任意である。
内部電極層3に含有される導電材は特に限定されないが、誘電体層2の構成材料が耐還元性を有するため、比較的安価な卑金属を用いることができる。導電材として用いる卑金属としては、NiまたはNi合金が好ましい。Ni合金としては、Mn,Cr,CoおよびAlから選択される1種以上の元素とNiとの合金が好ましく、合金中のNi含有量は95重量%以上であることが好ましい。なお、NiまたはNi合金中には、P等の各種微量成分が0.1重量%程度以下含まれていてもよい。内部電極層3の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、0.1〜3μm、特に0.2〜2.0μm程度であることが好ましい。
外部電極4に含有される導電材は特に限定されないが、本実施形態では安価なNi,Cuや、これらの合金を用いることができる。外部電極4の厚さは用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、10〜50μm程度であることが好ましい。
本実施形態の積層セラミックコンデンサは、従来の積層セラミックコンデンサと同様に、ペーストを用いた通常の印刷法やシート法によりグリーンチップを作製し、これを焼成した後、外部電極を印刷または転写して焼成することにより製造される。以下、製造方法について具体的に説明する。
本実施形態においては、上記誘電体磁器組成物粉末の調製は、次のように行う。すなわち、図2に示すように、まず、上記主成分の原料と、上記第4副成分の原料の一部(誘電体磁器組成物に含有されることとなる第4副成分のうち一部に相当する原料)とを、予め反応(固溶)させ、反応済み原料を得る。次いで、この反応済み原料に、残りの第4副成分の原料(誘電体磁器組成物を構成することとなる第4副成分のうち残りの原料)と、上記第1〜第3、第5副成分の原料とを添加し、必要に応じて仮焼きすることにより、誘電体磁器組成物粉末は調製される。
まず、主成分の原料と第4副成分の原料とを、別々に、水、あるいはアルコールなどの水溶性の有機溶媒に分散させた主成分原料スラリーと第4副成分原料スラリーを得る。次いで、この主成分原料スラリーと第4副成分原料スラリーとを混合して、混合スラリーを得る。そして、得られた混合スラリーを乾燥して、乾燥原料を得て、その後、この乾燥原料を500〜700℃程度の温度で仮焼きすることにより反応済み原料を得ることができる。
具体的には、第1副成分の原料としては、酢酸マグネシウム、蓚酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、マグネシウムアルコキシドなどが例示され、第2副成分の原料としては、酢酸バリウム、ステアリン酸バリウム、バリウムアルコキシド、酢酸カルシウム、ステアリン酸カルシウム、カルシウムアルコキシド、シリカアルコキシドなどが例示され、第3副成分の原料としては、バナジウムアルコキシドなどが例示され、第4副成分の原料としては、イットリウムアルコキシド、酢酸イットリウム、蓚酸イットリウムなどが例示され、第5副成分の原料としては、酢酸マンガン、マンガンアルコキシドなどが例示される。
脱バインダ処理、焼成およびアニールは、連続して行なっても、独立に行なってもよい。
このようにして製造された本発明の積層セラミックコンデンサは、ハンダ付等によりプリント基板上などに実装され、各種電子機器等に使用される。
まず、平均粒径0.35μmの主成分原料(BaTiO3 )を準備し、このBaTiO3 15モルを9Lの水に加え、撹拌・分散させて、主成分原料スラリーを調製した。
MgCO3 (第1副成分):0.18モル
(Ba,Ca)SiO3
(第2副成分):0.1125モル
V2 O5 (第3副成分):0.0045モル
Y2 O3 (第4副成分):0.0525モル
MnCO3 (第5副成分):0.03モル
なお、第4副成分であるY2 O3 の添加量は、Y原子換算でのモル数とした。すなわち、Y2 O3 換算での添加量は、0.02625モルである。また、第4副成分以外の各副成分の添加量は、各化合物換算の添加量とした。
脱バインダ処理条件は、昇温速度:32.5℃/時間、保持温度:260℃、温度保持時間:8時間、雰囲気:空気中とした。
焼成条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1250℃、温度保持時間:2時間、冷却速度:200℃/時間、雰囲気ガス:加湿したN2 +H2 混合ガス(酸素分圧:10−7Pa)とした。
アニール条件は、昇温速度:200℃/時間、保持温度:1050℃、温度保持時間:2時間、冷却速度:200℃/時間、雰囲気ガス:加湿したN2 ガス(酸素分圧:1.01Pa)とした。
なお、焼成およびアニールの際の雰囲気ガスの加湿には、水温を20℃としたウエッターを用いた。
コンデンサの試料に対し、基準温度20℃において、デジタルLCRメータ(横河電機(株)製 YHP4274A)にて、周波数120Hz,入力信号レベル(測定電圧)0.625Vrms/μmの条件下で、静電容量Cを測定した。そして、得られた静電容量、積層セラミックコンデンサの誘電体厚みおよび内部電極同士の重なり面積から、比誘電率(単位なし)を算出した。比誘電率は、高いほど好ましい。結果を表1に示す。
コンデンサの試料に対し、基準温度20℃において、デジタルLCRメータ(横河電機(株)製 YHP4274A)にて、周波数120Hz,入力信号レベル(測定電圧)0.625Vrms/μmの条件下で、誘電損失tanδを測定した。誘電損失は、小さいほど好ましい。結果を表1に示す。
コンデンサ試料に対し、絶縁抵抗計(アドバンテスト社製R8340A)を用いて、20℃において4V/μmの直流電圧を、コンデンササンプルに1分間印加した後の絶縁抵抗IRを測定した。結果を表1に示す。
コンデンサ試料に対し、−55〜125℃における静電容量を測定し、静電容量の変化率ΔCを算出し、EIA規格のX7R特性を満足するか否かについて評価した。すなわち、−55〜125℃において、変化率ΔCが、±15%以内であるか否かを評価した。結果を表1に示す。なお、表1中、X7R特性を満足した試料は「○」とし、満足しなかった試料は「×」とした。
コンデンサ試料に対し、180℃にて20V/μmの電界下で加速試験を行い、絶縁抵抗IRが108Ω以下になるまでの時間(単位は時間)を算出した。IR加速寿命は、長いほうが好ましい。結果を表1に示す。
BaTiO3 粉末とY2 O3 粉末とを予め反応させることにより得られた反応済み原料について、XPS測定により、表面深さ方向のBa、Ti、Yの各元素の分布状態を測定した。XPS測定の結果、Ba、Ti、Yの各元素は、反応済み原料の表面近傍付近から内部に至るまで、ほぼ同じ濃度で分布しており、固溶反応が均一に進行していることが確認できた。
誘電体磁器組成物粉末を作製する際に、以下のようにして反応済み原料を作製した以外は、実施例1と同様にして、誘電体磁器組成物粉末を得て、実施例2のコンデンサ試料を得た。
まず、平均粒径0.35μmの主成分原料(BaTiO3 )を準備し、このBaTiO3 15モルを9Lのプロパノールに加え、撹拌・分散させて、主成分原料スラリーを調製した。
誘電体磁器組成物粉末を作製する際に、以下のようにした以外は、実施例1と同様にして、誘電体磁器組成物粉末を得て、比較例1のコンデンサ試料を得た。
表1に、実施例1,2および比較例1の比誘電率ε、誘電損失tanδ、絶縁抵抗IR、静電容量の温度特性およびIR加速寿命を示す。なお、表1中、絶縁抵抗IRの「mE+n」は「m×10+n」を意味する。
反応済み原料に第1〜第5副成分を添加する際に、第1、第2、第4、第5副成分の原料として、以下に示すゾル、あるいは有機化合物の塩を使用した以外は、実施例2と同様にして、誘電体磁器組成物粉末を製造し、実施例2と同様にして、実施例3のコンデンサ試料を得た。
第1副成分:Mg(CH3 (CH2 )16 COO)2
第2副成分:Ba(CH3 COO)2 、Ca(CH3 COO)2 ・2H2 O、SiO2 ゾル
第4副成分:Y2 O3 ゾル
第5副成分:Mn(CH3 COO)2 ・4H2 O
なお、第3副成分の原料は、実施例2と同様に、V2 O5 を使用した。また、各副成分の添加量についても実施例2と同様とした。
誘電体磁器組成物粉末を作製する際に、予め主成分原料と反応させる第4副成分の原料として、Gd(C3 H7 O)3 を使用した以外は、実施例2と同様にして、誘電体磁器組成物粉末を得て、実施例4のコンデンサ試料を得た。得られたコンデンサ試料について、実施例1と同様にして、比誘電率ε、誘電損失tanδ、絶縁抵抗IR、静電容量の温度特性およびIR加速寿命の評価を行った。結果を表3に示す。
表2に実施例2,3および4を製造する際に使用した各副成分の原料を、表3に、実施例2,3および4の比誘電率ε、誘電損失tanδ、絶縁抵抗IR、静電容量の温度特性およびIR加速寿命を示す。
10… コンデンサ素子本体
2… 誘電体層
3… 内部電極層
4… 外部電極
Claims (17)
- チタン酸バリウムを含む主成分と、
Rの酸化物(ただし、RはY,Dy,Tb,GdおよびHoから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、
前記主成分の原料と、前記第4副成分の原料の少なくとも一部とを予め反応させ、反応済み原料を得る工程を有し、
前記主成分の原料と予め反応させる前記第4副成分の原料が、Rの酸化物および/または焼成によりRの酸化物となる化合物を含有するゾルであることを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。 - チタン酸バリウムを含む主成分と、
Rの酸化物(ただし、RはY,Dy,Tb,GdおよびHoから選択される少なくとも1種)を含む第4副成分とを有する誘電体磁器組成物を製造する方法であって、
前記主成分の原料と、前記第4副成分の原料の少なくとも一部とを予め反応させ、反応済み原料を得る工程を有し、
前記主成分の原料と予め反応させる前記第4副成分の原料が、アルコキシドを含有する原料であることを特徴とする誘電体磁器組成物の製造方法。 - 前記主成分の原料と、前記誘電体磁器組成物に含有されることとなる前記第4副成分の原料の一部とを予め反応させ、反応済み原料を得る工程と、
前記反応済み原料に、前記誘電体磁器組成物に含有されることとなる残りの前記第4副成分の原料を添加する工程とを有する請求項1または2に記載の誘電体磁器組成物の製造方法。 - 前記反応済み原料に添加する前記第4副成分の原料が、Rの酸化物および/または焼成によりRの酸化物となる化合物を含有するゾルである請求項3に記載の誘電体磁器組成物。
- 前記反応済み原料に添加する前記第4副成分の原料が、有機化合物の塩を含有する原料である請求項3に記載の誘電体磁器組成物。
- 最終的に得られる前記誘電体磁器組成物中における前記第4副成分の含有量を、前記主成分100モルに対して、R換算で、0.1〜10モルとする請求項1〜5のいずれかに記載の誘電体磁器組成物の製造方法。
- 前記主成分の原料と予め反応させておく前記第4副成分を、前記主成分100モルに対して、R換算で、0〜0.5モル(ただし、0は含まない)とする請求項1〜6のいずれかに記載の誘電体磁器組成物の製造方法。
- 前記主成分の原料と予め反応させておく前記第4副成分の比率を、前記誘電体磁器組成物に最終的に含有されることとなる前記第4副成分の総量100重量%に対して、0〜25重量%(ただし、0は含まない)とする請求項1〜6のいずれかに記載の誘電体磁器組成物の製造方法。
- 前記誘電体磁器組成物は、
MgO、CaO、BaOおよびSrOから選択される少なくとも1種を含む第1副成分と、
SiO2 を主として含有し、MO(ただし、MはMg、Ca、BaおよびSrから選択される少なくとも1種)、Li2 OおよびB2 O3 から選択される少なくとも1種を含む第2副成分と、
V2 O5 、MoO3 およびWO3 から選択される少なくとも1種を含む第3副成分と、をさらに含有し、
前記主成分100モルに対する各副成分の比率を、
第1副成分:0.1〜5モル、
第2副成分:0.1〜12モル、
第3副成分:0〜0.3モル(ただし、0は含まない)、
とする請求項1〜8のいずれかに記載の誘電体磁器組成物の製造方法。 - 前記誘電体磁器組成物は、MnOおよびCr2 O3 から選択される少なくとも1種を含む第5副成分を、さらに含有し、
前記主成分100モルに対する第5副成分の比率を、0.05〜1.0モルとする請求項9に記載の誘電体磁器組成物の製造方法。 - 前記第1〜第3副成分の原料のうち少なくとも一部として、前記第1〜第3副成分の原料を含有するゾルを使用する請求項9または10に記載の誘電体磁器組成物の製造方法。
- 前記第1〜第3副成分の原料のうち少なくとも一部として、有機化合物の塩を含有する原料を使用する請求項9または10に記載の誘電体磁器組成物の製造方法。
- 前記第5副成分の原料として、前記第5副成分の原料を含有するゾルを使用する請求項10〜12のいずれかに記載の誘電体磁器組成物の製造方法。
- 前記第5副成分の原料として、有機化合物の塩を含有する原料を使用する請求項10〜13のいずれかに記載の誘電体磁器組成物の製造方法。
- 前記主成分の原料として、平均粒径が0.05〜0.5μmである原料を使用する請求項1〜14のいずれかに記載の誘電体磁器組成物の製造方法。
- 請求項1〜15のいずれかに記載の方法により製造される誘電体磁器組成物。
- 請求項16に記載の誘電体磁器組成物で構成してある誘電体層を有する電子部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004359865A JP4691978B2 (ja) | 2004-12-13 | 2004-12-13 | 誘電体組成物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004359865A JP4691978B2 (ja) | 2004-12-13 | 2004-12-13 | 誘電体組成物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006169006A true JP2006169006A (ja) | 2006-06-29 |
JP4691978B2 JP4691978B2 (ja) | 2011-06-01 |
Family
ID=36670153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004359865A Expired - Fee Related JP4691978B2 (ja) | 2004-12-13 | 2004-12-13 | 誘電体組成物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4691978B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7618910B2 (en) | 2006-03-23 | 2009-11-17 | Tdk Corporation | Dielectric ceramic composition production method |
US7678724B2 (en) | 2006-06-12 | 2010-03-16 | Tdk Corporation | Electronic device, dielectric ceramic composition and the production method |
US7718560B2 (en) | 2006-06-12 | 2010-05-18 | Tdk Corporation | Electronic device, dielectric ceramic composition and the production method |
JP2012232892A (ja) * | 2012-06-25 | 2012-11-29 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物およびセラミック電子部品 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000173854A (ja) * | 1998-12-02 | 2000-06-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 耐還元性誘電体組成物の製造方法およびこの耐誘電体組成物を用いた積層セラミックコンデンサ |
JP2000311828A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-11-07 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物の製造方法と誘電体層含有電子部品の製造方法 |
JP2001172076A (ja) * | 1999-10-05 | 2001-06-26 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物の製造方法 |
JP2002060268A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-26 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物の製造方法と誘電体層含有電子部品の製造方法 |
JP2002080275A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-03-19 | Tdk Corp | 誘電体磁器および電子部品 |
JP2002321983A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-08 | Tdk Corp | 誘電体セラミック材料の製造方法と誘電体セラミックコンデンサ |
JP2003176180A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-24 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体セラミック原料粉末の製造方法および誘電体セラミック原料粉末 |
JP2004055727A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体セラミックおよびその製造方法ならびに積層セラミック電子部品 |
-
2004
- 2004-12-13 JP JP2004359865A patent/JP4691978B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000173854A (ja) * | 1998-12-02 | 2000-06-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 耐還元性誘電体組成物の製造方法およびこの耐誘電体組成物を用いた積層セラミックコンデンサ |
JP2000311828A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-11-07 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物の製造方法と誘電体層含有電子部品の製造方法 |
JP2001172076A (ja) * | 1999-10-05 | 2001-06-26 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物の製造方法 |
JP2002080275A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-03-19 | Tdk Corp | 誘電体磁器および電子部品 |
JP2002060268A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-26 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物の製造方法と誘電体層含有電子部品の製造方法 |
JP2002321983A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-08 | Tdk Corp | 誘電体セラミック材料の製造方法と誘電体セラミックコンデンサ |
JP2003176180A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-06-24 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体セラミック原料粉末の製造方法および誘電体セラミック原料粉末 |
JP2004055727A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体セラミックおよびその製造方法ならびに積層セラミック電子部品 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7618910B2 (en) | 2006-03-23 | 2009-11-17 | Tdk Corporation | Dielectric ceramic composition production method |
US7678724B2 (en) | 2006-06-12 | 2010-03-16 | Tdk Corporation | Electronic device, dielectric ceramic composition and the production method |
US7718560B2 (en) | 2006-06-12 | 2010-05-18 | Tdk Corporation | Electronic device, dielectric ceramic composition and the production method |
JP2012232892A (ja) * | 2012-06-25 | 2012-11-29 | Tdk Corp | 誘電体磁器組成物およびセラミック電子部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4691978B2 (ja) | 2011-06-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7718560B2 (en) | Electronic device, dielectric ceramic composition and the production method | |
JP4821357B2 (ja) | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 | |
JP4839913B2 (ja) | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 | |
JP2007331958A (ja) | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 | |
JP2005154237A (ja) | 誘電体磁器組成物、その製造方法及び電子部品 | |
JP2007331957A (ja) | 誘電体磁器組成物、電子部品およびその製造方法 | |
JP2005145791A (ja) | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 | |
JP2008247656A (ja) | 誘電体磁器組成物の製造方法および電子部品の製造方法 | |
EP1669334A1 (en) | Electronic device, dielectric ceramic composition and production method of the same | |
JP5685931B2 (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
JP2007261876A (ja) | 誘電体粒子、誘電体磁器組成物およびその製造方法 | |
JP4863005B2 (ja) | 誘電体磁器組成物および電子部品 | |
JP2007063040A (ja) | 誘電体磁器組成物の製造方法、および電子部品 | |
JP4696891B2 (ja) | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 | |
JP4403705B2 (ja) | 誘電体磁器組成物および電子部品 | |
JP4863007B2 (ja) | 誘電体磁器組成物および電子部品 | |
JP4661203B2 (ja) | セラミック電子部品およびその製造方法 | |
JP2006066835A (ja) | セラミック電子部品およびその製造方法 | |
JP2008227093A (ja) | 積層型電子部品の製造方法 | |
JP2008162862A (ja) | 誘電体磁器組成物および電子部品 | |
JP2007230819A (ja) | 誘電体磁器組成物、電子部品およびその製造方法 | |
JP4547945B2 (ja) | 電子部品、誘電体磁器組成物およびその製造方法 | |
JP4691978B2 (ja) | 誘電体組成物の製造方法 | |
JP2008174434A (ja) | 誘電体磁器組成物および電子部品 | |
JP4691977B2 (ja) | 誘電体組成物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071101 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100913 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100921 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101207 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110125 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110207 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140304 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |