JP2006165554A - システムおよび方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フォーカシング装置により第1のアライメントパターンおよび第2のアライメントパターンへ入射した後の可視光および赤外光が検出器へフォーカシングされ、検出された第1のアライメントパターンおよび第2のアライメントパターンに基づき後続のフィーチャパターンに対してオブジェクトがアライメントされる。
【選択図】図1
Description
本明細書では基板をパターニングするリソグラフィシステムでパターニングデバイスを使用するケースを考察するが、ここで説明するパターニングデバイスは他の分野、例えばオブジェクトをパターニングするプロジェクタ(投影系)またはディスプレイデバイス(プロジェクションTVなど)にも適用できることを理解されたい。リソグラフィシステムおよび/または基板という語は本明細書を通して実施例の説明のために用いられているだけである。
本発明を集積回路の製造のためのリソグラフィシステムに則して説明するが、ここで説明するリソグラフィシステムはDNAチップ,MEMS,MOEMS,光集積回路などの製造や、MRAM,フラットパネルディスプレイ、薄膜磁気ヘッド、液晶マイクロ/マクロデバイスのパターン検出などに用いられるものであってもよい。当該分野の技術者には、本明細書のコンテキストにおいて使用される“ウェハ”または“ダイ”という語もより一般的な“基板“または“ターゲット部分”と同等のものであることが明らかなはずである。
本発明のパターニングデバイスは種々の環境で用いることができるが、上述したように以下ではリソグラフィシステムの環境に則して説明する。ただしこれは説明のための例にすぎない。
1.ステップモード
制御可能な個別の素子から成るアレイ104上のパターン全体が1回の露光で、つまり“シングルフラッシュ”でターゲット部分120へ投影される。基板テーブル106はx方向および/またはy方向で種々のターゲット部分120の種々の位置へ運動される。これによりターゲット部分はパターンビーム110によって放射される。
2.スキャンモード
基本的にはステップモードと同様であるが、所定のターゲット部分が“シングルフラッシュ”では露光されない点が異なる。制御可能な個別の素子から成るアレイ104は所定の方向つまりスキャニング方向(例えばy方向)へ速度vで運動され、パターンビーム110によってアレイ全体がスキャンされる。基板テーブル106は同時に同じ方向または反対方向へ速度V=Mv[Mは投影系108の倍率]で運動される。こうして比較的大きなターゲット部分120が分解能の妥協なしに露光される。
3.パルスモード
制御可能な個別の素子から成るアレイ104は基本的には定置され、パルス放射系102を用いてパターン全体が基板114のターゲット部分へ投影される。基板テーブル106はほぼ一定の速度で運動され、パターンビーム110は基板114を走査線ごとにスキャンする。制御可能な個別の素子から成るアレイ104上のパターンは放射系102のパルス間で要求に応じて更新される。このパルスはターゲット部分が連続して基板114の要求された位置で露光されるようにタイミング制御される。こうしてパターンビーム110により基板114がスキャンされ、基板114のストリップ線路のパターンが完全に露光される。このプロセスは走査線ごとに基板が完全に露光されるまで反復される。
4.連続スキャンモード
基本的にはパルスモードと同様であるが、ほぼ一定の放射系102が使用され、制御可能な個別の素子から成るアレイ104上のパターンがパターンビーム110として更新され、基板114がスキャンされ、露光される点が異なる。
図2,図3には本発明のアライメントおよびフォーカシング部250,350が示されている。アライメントおよびフォーカシング部250,350を使用することにより、例えば約150μm深さまでの表面層および中間層のアライメントパターンが検査され、後続のフィーチャパターンの形状に対してオブジェクトがアライメントされる。これについては後に詳述する。有利な実施例では、オブジェクトは赤外光を透過し可視光を反射する材料を含む。例えば、オブジェクトはケイ素材料または赤外光を透過する他の材料から成る半導体ウェハ、フラットパネルディスプレイ基板である。
第1のレンズ480:R1=−64〜−65mm,R2=−71〜−72mm,厚さ1.5〜1.6mm,径22.0mm,ガラスタイプSF10(Schott)
第2のレンズ482:R1=−71〜−72mm,R2=15〜16mm,厚さ1〜2mm,径22.0mm,ガラスタイプN‐PSK3(Schott)
第3のレンズ484:R1=15〜16mm,R2=−35〜−36mm,厚さ10〜11mm,径22.0mm,ガラスタイプN‐PK51(Schott)
別の実施例ではレンズ480,482,484は次のような特性を有する。このレンズは所望の許容差に依存してほぼ前述のパラメータを有する。
第1のレンズ:R1=−64.795mm,R2=−71.120mm,厚さ1.518mm,径22.0mm,ガラスタイプSF10(Schott)
第2のレンズ:R1=−71.120mm,R2=15.469mm,厚さ1.5mm,径22.0mm,ガラスタイプN‐PSK3(Schott)
第3のレンズ:R1=15.469mm,R2=−35.382mm,厚さ10.083mm,径22.0mm,ガラスタイプN‐PK51(Schott)
図5によれば、光学デバイス556は第1のレンズ586および第2のレンズ588を有する。2つ組レンズを設ける設計により、可視光および赤外光の波長を同じ平面へフォーカシングする光学的規定が得られる。
第1のレンズ586:R1=−26〜−27mm,R2=無限,厚さ3mm,径12〜13mm,ガラスタイプBK7(Schott)
第2のレンズ588:R1=無限,R2=−59〜−60mm,厚さ5mm,径12〜13mm,ガラスタイプF2(Schott)
別の実施例ではレンズ586,588は次のような特性を有する。このレンズは所望の許容差に依存してほぼ前述のパラメータを有する。
第1のレンズ586:R1=−26.697mm,R2=無限,厚さ3mm,径12.7mm,ガラスタイプBK7(Schott)
第2のレンズ588:R1=無限,R2=−59.03mm,厚さ5mm,径12.7mm,ガラスタイプF2(Schott)
光路
図6には本発明のリソグラフィシステムの光学装置680が示されている。例えば光学装置680はリソグラフィシステム100内に設けられている。図7には本発明の光学装置680の光学系682が示されている。
図8には本発明の方法700のフローチャートが示されている。この実施例では、方法700は上述の1つまたは複数の装置および/またはシステムを使用している。ステップ702では少なくとも可視光と赤外光とが形成される。ステップ704で可視光はオブジェクトの表面層の第1のアライメントパターンで反射される。ステップ706では反射された可視光が検出器へフォーカシングされる。ステップ708では赤外光がオブジェクトの表面層下方の第2層の第2のアライメントパターンを透過する。ステップ710では透過された赤外光が検出器へフォーカシングされる。ステップ712では検出された第1のアライメントパターンおよび第2のアライメントパターンに基づいてアライメント信号が形成される。ステップ714では形成されたアライメント信号に基づいて後続のフィーチャパターン部分が受信されるようにオブジェクトがアライメントされる。
上述した本発明の実施例では、赤外光または近赤外光による埋め込まれたウェハターゲットの検出も可視光によるアライニングマスクターゲットの検出も1つのカメラを用いてほぼ同時にまたは個別に可能である。別の実施例としてこれを2つの別個のカメラを用いて行ってもよい。ただしこの場合には付加的な光学素子が必要となる。
本発明を幾つかの実施例に則して説明したが、これらは例示に過ぎず、本発明を限定するものではない。当該分野の技術者であれば本発明の範囲から離れることなくこれらに種々の修正を加えることができる。したがって本発明の範囲は上述の実施例によってではなく、特許請求の範囲およびこれと等価の特徴によって規定される。
Claims (18)
- アライメント装置、オブジェクトおよびフォーカシング装置を有しており、
前記アライメント装置は少なくとも可視光および赤外光を形成する照明部と検出器とを有しており、
前記オブジェクトは表面層、第2層および支持体層を有しており、該表面層は第1のフィーチャパターンおよび第1のアライメントパターンを含み、該第2層は表面層と支持体層とのあいだに配置され、少なくとも1つの第2層および支持体層が第2のフィーチャパターンおよび第2のアライメントパターンを含み、
前記フォーカシング装置により第1のアライメントパターンおよび第2のアライメントパターンへ入射した後の可視光および赤外光が検出器へコフォーカシングされ、
検出された第1のアライメントパターンおよび第2のアライメントパターンに基づき、後続のフィーチャパターンに対してオブジェクトがアライメントされる
ことを特徴とするシステム。 - 前記フォーカシング装置はオブジェクトと検出器とのあいだに光学系を有しており、該光学系は可視光および赤外光の双方を検出器へコフォーカシングする、請求項1記載のシステム。
- 前記フォーカシング装置は測定値に相応にアライメント装置から信号を受け取る位置決め装置を有しており、該位置決め装置は、測定値に基づいて、可視光および赤外光の双方が検出器へコフォーカシングされるように少なくとも1つのオブジェクトおよび検出器を光学系に対して運動させる、請求項2記載のシステム。
- 前記光学系は少なくとも第1のレンズ、第2のレンズおよび第3のレンズを含む光学素子を有する、請求項2記載のシステム。
- 前記第1のレンズはR1=−64〜−65mm,R2=−71〜−72mm,厚さ1.5〜1.6mm,径22.0mm,ガラスタイプSF10(Schott)であり、前記第2のレンズはR1=−71〜−72mm,R2=15〜16mm,厚さ1〜2mm,径22.0mm,ガラスタイプN‐PSK3(Schott)であり、前記第3のレンズはR1=15〜16mm,R2=−35〜−36mm,厚さ10〜11mm,径22.0mm,ガラスタイプN‐PK51(Schott)である、請求項4記載のシステム。
- 前記第1のレンズはR1=−64.795mm,R2=−71.120mm,厚さ1.518mm,径22.0mm,ガラスタイプSF10(Schott)であり、前記第2のレンズはR1=−71.120mm,R2=15.469mm,厚さ1.5mm,径22.0mm,ガラスタイプN‐PSK3(Schott)であり、前記第3のレンズはR1=15.469mm,R2=−35.382mm,厚さ10.083mm,径22.0mm,ガラスタイプN‐PK51(Schott)である、請求項5記載のシステム。
- 前記光学系は少なくとも第1のレンズおよび第2のレンズを含む光学素子を有する、請求項2記載のシステム。
- 前記第1のレンズはR1=−26〜−27mm,R2=無限,厚さ3mm,径12〜13mm,ガラスタイプBK7(Schott)であり、前記第2のレンズはR1=無限,R2=−59〜−60mm,厚さ5mm,径12〜13mm,ガラスタイプF2(Schott)である、請求項7記載のシステム。
- 前記第1のレンズはR1=−26.697mm,R2=無限,厚さ3mm,径12.7mm,ガラスタイプBK7(Schott)であり、前記第2のレンズはR1=無限,R2=−59.03mm,厚さ5mm,径12.7mm,ガラスタイプF2(Schott)である、請求項8記載のシステム。
- 前記可視光は第1のアライメントパターンの位置を検出するために用いられ、前記赤外光は第2のアライメントパターンの位置を検出するために用いられる、請求項1記載のシステム。
- 可視光は第1のアライメントパターンで反射されてからフォーカシング装置により検出器へフォーカシングされ、赤外光は第2のアライメントパターンを透過してからフォーカシング装置により検出器へフォーカシングされる、請求項1記載のシステム。
- 前記赤外光はオブジェクトの第1の側で形成され、前記可視光は該第1の側の反対の第2の側で形成される、請求項1記載のシステム。
- (a)少なくとも可視光と赤外光とを形成し、
(b)可視光をオブジェクトの表面層の第1のアライメントパターンへ入射させ、
(c)入射した可視光を検出器へフォーカシングし、
(d)赤外光をオブジェクトの表面層下方の第2層の第2のアライメントパターンへ入射させ、
(e)入射した赤外光を検出器へフォーカシングし、
(f)検出された第1のアライメントパターンおよび第2のアライメントパターンに基づいてアライメント信号を形成し、
(g)ステップ(f)に基づきフィーチャパターンの後続部分に対してオブジェクトをアライメントする
ことを特徴とする方法。 - 前記可視光および前記赤外光をほぼ同時に検出器へフォーカシングする、請求項13記載の方法。
- 前記可視光を前記第1のアライメントパターンで反射させてから検出器へフォーカシングし、前記赤外光を前記第2のアライメントパターンを透過させてから検出器へフォーカシングする、請求項13記載の方法。
- 前記赤外光をオブジェクトの第1の側で形成し、前記可視光を該第1の側の反対の第2の側で形成する、請求項13記載の方法。
- 請求項13記載の方法を用いて形成することを特徴とするフラットパネルディスプレイ。
- 請求項13記載の方法を用いて形成することを特徴とする集積回路。
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