JP2006164978A - レーザー照射装置,パターニング方法,およびパターニング方法を用いる有機電界発光素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光源装置110と,光源装置110の下部に配置されるマスク120と,マスク120の下部に配置されるプロジェクションレンズ130とを含み,マスク120の所定の部分に,光源装置110からの光の経路を変更するフレネルレンズを具備するレーザー照射装置100を提供する。
【選択図】図2
Description
110 光源装置
120 マスク
130 プロジェクションレンズ
140 ドナー基板
150 転写層
160 基板
Claims (21)
- 光源装置と;
前記光源装置の下部に配置され,前記光源装置から照射される光の経路を変える手段を具備するマスクと;
前記マスクの下部に配置されるプロジェクションレンズと;
を含み,
前記マスクは,所定の部分に前記光源装置から発生する前記光の経路を変更するフレネルレンズを具備することを特徴とする,レーザー照射装置。 - 前記フレネルレンズは,前記マスクの下部面および/または前記マスクの上部面に配置されることを特徴とする,請求項1に記載のレーザー照射装置。
- 前記フレネルレンズは,前記マスクの前記所定の部分をフレネルレンズ形状に加工して構成されることを特徴とする,請求項1に記載のレーザー照射装置。
- 前記マスクは,透明性材質で構成されることを特徴とする,請求項1〜3のいずれかに記載のレーザー照射装置。
- 前記透明性材質は,ガラスまたは透明プラスチックであることを特徴とする,請求項4に記載のレーザー照射装置。
- 基板を設ける段階と;
転写層を含むドナー基板を設ける段階と;
前記基板および前記ドナー基板をラミネーションする段階と;
前記ドナー基板の転写領域に,レーザー照射装置を用いてレーザーを照射して前記基板上に転写層パターンを形成する段階と;
を含み,
前記ドナー基板において,前記レーザーが照射される前記転写領域の中央部分から周縁部分に向かって,レーザーエネルギー密度の高い前記レーザーが照射されることを特徴とする,パターニング方法。 - 前記レーザー照射装置は,
光源装置と;
前記光源装置の下部に配置されるマスクと;
前記マスクの下部に配置されるプロジェクションレンズと;
を含み,
前記マスクは,前記光源装置から照射される光の経路を変更する光路変更手段を具備することを特徴とする,請求項6に記載のパターニング方法。 - 前記光路変更手段は,フレネルレンズであることを特徴とする,請求項7に記載のパターニング方法。
- 前記フレネルレンズは,前記マスクの上部面および/または前記マスクの下部面に配置されることを特徴とする,請求項8に記載のパターニング方法。
- 前記マスクは,透明性材質で構成されることを特徴とする,請求項7〜9のいずれかに記載のパターニング方法。
- 前記フレネルレンズは,前記マスクの所定の部分をフレネルレンズ形状に加工して構成されることを特徴とする,請求項8〜10のいずれかに記載のパターニング方法。
- 前記基板の前記転写層パターンは,N2雰囲気で形成されることを特徴とする,請求項6〜11のいずれかに記載のパターニング方法。
- 前記N2雰囲気は,O2およびH2Oの含有量をそれぞれ100ppm以下となるまで,N2を充填してなされることを特徴とする,請求項12に記載のパターニング方法。
- 前記基板の前記転写層パターンは,真空雰囲気で形成されることを特徴とする,請求項6〜11のいずれかに記載のパターニング方法。
- 所定の素子が形成される基板を設ける段階と;
有機膜層を含むドナー基板を設ける段階と;
前記基板上に前記ドナー基板をラミネーションする段階と;
前記ドナー基板の有機膜層パターン領域にレーザーを照射して,前記基板上に有機膜層パターンを形成する段階と;
を含み,
前記ドナー基板の前記有機膜層パターン領域の中央部分から周縁部分に向かって,レーザーエネルギー密度の高い前記レーザーが照射されることを特徴とする,有機電界発光素子の製造方法。 - 前記レーザーを照射するレーザー照射装置は,
光源装置と;
前記光源装置の下部に配置されるマスクと;
前記マスクの下部に配置されるプロジェクションレンズと;
を含み,
前記マスクは,前記光源装置から照射される光の経路を変更する光路変更手段を具備することを特徴とする,請求項15に記載の有機電界発光素子の製造方法。 - 前記光路変更手段は,フレネルレンズであることを特徴とする,請求項16に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記基板の前記有機膜層パターンは,N2雰囲気で形成されることを特徴とする,請求項15〜17のいずれかに記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記N2雰囲気は,O2およびH2Oの含有量をそれぞれ100ppm以下となるまで,N2を充填してなされることを特徴とする,請求項18に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記基板の前記有機膜層パターンは,真空雰囲気で形成されることを特徴とする,請求項15〜17のいずれかに記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記基板の前記有機膜層パターンは,発光層,正孔注入層,正孔輸送層,正孔抑制層,電子輸送層および電子注入層で構成される群から選択される少なくとも一つ以上の層で構成されることを特徴とする,請求項15〜20のいずれかに記載の有機電界発光素子の製造方法。
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