JP2001217188A - リソグラフィ装置用照明器、そのような照明器を含むリソグラフィ装置、およびそのようなリソグラフィ装置を使う製造方法 - Google Patents

リソグラフィ装置用照明器、そのような照明器を含むリソグラフィ装置、およびそのようなリソグラフィ装置を使う製造方法

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JP2001217188A JP2000377332A JP2000377332A JP2001217188A JP 2001217188 A JP2001217188 A JP 2001217188A JP 2000377332 A JP2000377332 A JP 2000377332A JP 2000377332 A JP2000377332 A JP 2000377332A JP 2001217188 A JP2001217188 A JP 2001217188A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 部品数が少なく、嵩が低く、従って製造コス
トの安い、および短波長でも透過効率のよい照明器を備
える、改良したリソグラフィ投影装置を提供すること。 【解決手段】 リソグラフィ投影装置用の放射線ビーム
を制御するための照明器が複数の光学素子１０およびこ
の光学素子１０をこのビーム経路から出し入れするため
の交換器１２を含む。この照明器の瞳平面１６でのビー
ムの強度分布は、この光学素子によって決る。この交換
器が異なる光学素子を交換することによって、ズーム・
アキシコンの必要なしに、異なる照度整定（強度分布）
が得られるので、部品数および接合境界面数が減り、従
って製造コストが低減し、透過効率が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、放射線の照射ビー
ムを作るために使用でき、平面での放射線ビームの強度
分布を制御する、リソグラフィ装置用照明システムに関
する。更に詳しくは、この発明は、リソグラフィ投影装
置で；放射線の投影ビームを供給するための、照明シス
テムを含む放射線システム；この投影ビームを所望のパ
ターンに従ってパターニングするための、パターニング
手段；基板を保持するための基板テーブル；およびこの
パターン化したビームをこの基板の目標部分上に結像す
るための投影システムを含む装置にこの照明システムを
使うことに関する。
【０００２】
【従来の技術】“パターニング”という用語は、入射放
射線ビームに、この基板の目標部分に創成すべきパター
ンに対応する、パターン化した断面を与えるために使う
ことができる手段を指すと広く解釈すべきであり；“光
バルブ”という用語もこの様な関係に使ってある。一般
的に、上記パターンは、集積回路またはその他のデバイ
ス（以下参照）のような、この目標部分で作るデバイス
の特別の機能層に対応するだろう。そのようなパターニ
ング手段の例には次のようなものがある； − マスクを保持するためのマスクテーブル。マスク
の概念は、リソグラフィでよく知られ、二値、交互位相
シフト、および減衰位相シフトのようなマスク型、並び
に種々のハイブリッドマスク型を含む。そのようなマス
クを放射線ビーム中に置くと、このマスク上のパターン
に従って、このマスクに入射する放射線の選択透過（透
過性マスクの場合）または選択反射（反射性マスクの場
合）を生ずる。このマスクテーブルは、このマスクを入
射放射線ビームの中の所望の位置に保持できること、お
よびもし望むなら、それをこのビームに対して動かせる
ことを保証する。 − プログラム可能ミラーアレイ。そのような装置の
例は、粘弾性制御層および反射面を有するマトリックス
アドレス可能面である。そのような装置の背後の基本原
理は、反射面のアドレス指定された領域が入射光を回折
光として反射し、一方アドレス指定されない領域が入射
光を未回折光として反射するということである。適当な
フィルタを使って、上記未回折光を反射ビームから濾過
して取除き、回折光だけを後に残すことができ；この様
にして、このビームがマトリックスアドレス可能面のア
ドレス指定パターンに従ってパターン化されるようにな
る。必要なマトリックスアドレス指定は、適当な電子手
段を使って行える。そのようなミラーアレイについての
更なる情報は、例えば、米国特許第５，２９６，８９１
号および第５，５２３，１９３号から収集することがで
き、それらを参考までにここに援用する。 − プログラム可能ＬＣＤアレイ。そのような構成の
例は、米国特許第５，２２９，８７２号で与えられ、こ
れらは参考までにここに援用する。簡単のために、この
明細書の以下の説明には、ある場所で、それ自体をマス
クテーブルおよびマスクを伴う例に具体的に向けるかも
知れないが；しかし、そのような場合に議論する一般原
理は、上に示すようなパターニング手段の広い文脈で見
るべきである。
【０００３】簡単のために、この投影システムを以後
“レンズ”と呼ぶかも知れないが；しかし、この用語
は、例えば、屈折光学素子、反射光学素子、および反射
屈接システムを含む、種々の型式の投影システムを包含
すると広く解釈すべきである。この放射線システムは、
放射線の投影ビームを指向、成形または制御するために
これらの設計形式の何れかによって動作する部品も含ん
でよく、それでそのような部品も以下に、集合的または
単独に、“レンズ”と呼ぶかも知れない。更に、このリ
ソグラフィ装置は二つ以上の基板テーブルおよび／また
は二つ以上のマスクテーブルを有する型式でもよい。そ
のような“多段”装置では、追加のテーブルを並列に使
ってもよく、または準備工程を一つ以上のテーブルで行
い、一方他の一つ以上のテーブル露出に使ってもよい。
二段階リソグラフィ装置は、例えば、米国特許第５，９
６９，４４１号および１９９８年２月２７日提出の米国
特許出願０９／１８０，００１に記載されていて、これ
らを参考までにここに援用する。
【０００４】リソグラフィ投影装置は、例えば、集積回
路（ＩＣ）の製造に使うことができる。そのような場
合、このパターニング手段がこのＩＣの個々の層に対応
する回路パターンを生成してもよく、およびこのパター
ンを感光材料（レジスト）の層で塗被した基板（シリコ
ンウエハ）上の目標部分（一つ以上のダイを含む）上に
結像することができる。一般的に、単一ウエハが隣接目
標部分の全回路網を含み、それらをこの投影システムを
介して、一度に一つずつ、逐次照射する。マスクによる
マスクテーブル上へのパターニングを使う現在の装置で
は、二つの異なる型式の機械を区別することができる。
一つの型式のリソグラフィ投影装置では、各目標部分
を、マスクパターン全体をこの目標部分に一度に露出す
ることによって照射し；そのような装置を普通ウエハス
テッパと呼ぶ。代りの装置では−それを普通ステップア
ンドスキャン装置と呼ぶ−、各目標部分を、このマスク
パターンを投影ビームの下で与えられた基準方向（“走
査”方向）に連続的に走査し、同時に基板テーブルをこ
の方向と平行または逆平行に同期して走査することによ
って照射し；一般的に、この投影システムは倍率Ｍ（一
般的に＜１）を有するので、この基板テーブルを走査す
る速度Ｖは、倍率Ｍ掛けるマスクテーブルを走査する速
度である。ここに説明したようなリソグラフィ装置に関
する更なる情報は、例えば、米国特許第６，０４６，７
９２号から収集することができ、これを参考までにここ
に援用する。
【０００５】リソグラフィに使うような、投影装置は、
一般的に、以後単に照明器と呼ぶ照明システムを含む。
この照明器は、レーザのような放射源から放射線を受
け、このパターニング手段（例えば、マスクテーブル上
のマスク）のような、物体を照明するための照明ビーム
を作り出す。典型的照明器内では、このビームを成形
し、瞳平面でこのビームが所望の空間強度分布を有する
ように制御する。この瞳平面での空間強度分布は、この
照明ビームを作り出すための仮想放射線源の役割を効果
的になす。この瞳平面の後で、この放射線を以後“結合
レンズ”と呼ぶレンズグループによって実質的に集束す
る。上記結合レンズは、この実質的に集束した光を、石
英ロッドのような、積分器に結合する。上記積分器の機
能は、この照明ビームの空間および角度の両方の強度分
布の均一性を改善することである。この瞳平面での空間
強度分布は、この瞳平面がこの結合光学素子の前方焦点
面と実質的に一致するので、上記結合光学素子によって
照明される物体で角強度分布に変換される。この瞳平面
での空間強度分布の制御は、この照明された物体の像を
基板上に投影するときの処理パラメータを改善するため
に行うことができる。
【０００６】既知の照明器は、以後“ズーム・アキシコ
ン”と呼ぶ光学システムを含む。このズーム・アキシコ
ンは、瞳平面での空間強度分布を調整するための手段で
ある。この放射源からの放射線は、第１光学部品を通過
し、それが角強度分布を生成する。次に、この放射線ビ
ームは、ズームレンズを横切る。このズームレンズの後
方焦点面に、一般的にこの瞳平面の２次光源となるのに
適した空間強度分布が現れる。従って、このズームレン
ズの後方焦点面は、典型的には瞳平面（即ち、この結合
光学素子の前方焦点面）と実質的に一致する。この瞳平
面での空間強度分布の外側半径方向範囲は、ズームレン
ズの焦点距離を変えることによって変えることができ
る。しかし、ズームレンズは二つの自由度を持たねばな
らず、一つはこのズームレンズの焦点距離を変えるため
で、第２は、この焦点距離が変るとき、後方焦点面がこ
の照明器の瞳平面に位置するままであるように、この主
面の位置を変えるためである。この機能性のために、ズ
ームレンズは、典型的には直列の数枚（例えば、少なく
とも３枚）の別々のレンズから成り、その幾つかは可動
である。上述のように、ズームレンズの焦点距離を調整
することによって、瞳平面での円盤形の、好ましくは均
質の強度分布を設定できる。以下では、瞳平面での何れ
かの予選択の、好適空間強度分布を“照度整定”と呼ぶ
かも知れない。
【０００７】瞳平面近くにあるアキシコンは、一般的に
相補の円錐形面を有する二つの素子から成る。上記アキ
シコンは、環状空間強度分布、またはそれらの中心付近
に強度のない、即ち、軸上照度のない、その他の空間強
度分布を生成するために使う。このアキシコンの二つの
円錐面の間の距離を調整することによって環状度を調整
することができる。アキシコンを閉じたとき、即ち、円
錐面の間の隙間がゼロのとき、従来の（即ち、上記円盤
状）照度設定を作り出すことができる。円錐面の間に隙
間があると、環状強度分布が生じ、この環の内側半径方
向範囲は二つの円錐面の間の距離によって決り；他方ズ
ームレンズは、この環の外側半径方向範囲、従って幅を
決める。この強度分布の予め選択した内側および外側の
半径方向範囲を屡々σ設定、特に、それぞれ、σ内側設
定およびσ外側設定と呼ぶ。ここでσ内側およびσ外側
は、この瞳の最大半径に対する問題の半径の比の尺度で
ある。ここで使う“ズーム・アキシコン”という用語
は、上記ズームレンズおよび上記アキシコンを含むモジ
ュールを指すと解釈すべきである。
【０００８】多極照度整定は、例えば、この角強度分布
を適当に形作るようにこのズームレンズの前の上記第１
光学素子を修正することによって、またはこのビーム経
路に、例えば、瞳平面の近くに、孔明き板またはブレー
ドを挿入することによって等、既知の照明器の種々の手
段によって生成することができる。既知のズーム・アキ
シコンモジュールおよび多極モード生成についての更な
る情報は、１９９９年４月６日に提出した米国特許出願
０９／２８７，０１４で与えられ、それを参考までにこ
こに援用する。
【０００９】上に説明した既知の照明器では、所望の範
囲の照度整定を作り出すために、ズーム・アキシコンモ
ジュールが一般的に数個（例えば、５個以上）の光学部
品を有し、特に幾つかの素子が独立に可動でなければな
らないという事実を考えると、それがその製作を高価に
することがある。更なる問題は、ズームレンズおよびア
キシコンの二つの円錐形素子を含むこれらのレンズがか
なりの厚さのレンズ材料および多数の表面接合境界を示
すことである。これは、吸収、効率の悪い被膜、劣化作
用および汚染のために透過効率が悪くなることがあるこ
とを意味する。この問題は、１９３、１５７、１２６ｎ
ｍのような、短い波長の放射線の使用を要する、絶えず
小さな形態を高密度で結像することに対する要求によっ
て悪化する。ＣａＦ2および石英のような、好適な透過
性材料の効率は、一般的に吸収が増すために短波長で落
ちる。部品の光学被膜の有効度も典型的に短波長で落
ち、劣化作用が一般的に悪くなる。それで、全体とし
て、透過率の減少のために、かなりのスループット低下
が起り得る。もう一つの問題は、既知の照明器がリソグ
ラフィ装置の中で比較的大きな容積を占めることであ
る。これは、次に機械の中での過剰な嵩および製造コス
トの増加（特にＣａＦ2のような材料を使うとき）に繋
がることがある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題を避けまたは軽減する照明器を備える、改良した
リソグラフィ装置を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の一つの態様によ
れば、最初の段落で指定したようなリソグラフィ装置
で、上記調整手段が複数の光学素子の少なくとも一つを
この投影ビーム経路から出し入れするための少なくとも
一つの交換器から成り、上記光学素子の各々が上記強度
分布の少なくとも一つのパラメータを規定することを特
徴とする装置が提供される。
【００１２】ここで使う“光学素子”という用語は、以
後ＤＯＥと呼ぶ、回折光学素子（例えば、回折マイクロ
レンズのアレイを含む）、マイクロレンズアレイ、ホロ
グラフィ光学素子（例えば、コンピュータ生成ホログラ
フィ光学サブ素子のアレイを含む）等のような素子を指
すと解釈すべきである。ＤＯＥについての更なる情報
は、例えば、米国特許第５，８５０，３００号で与えら
れ、それを参考までにここに援用する。上記素子は、一
般的にかなり薄く、例えば、実質的に平行平面の基板上
に作ることができる。
【００１３】
【発明の効果】交換器と複数の光学素子を使うことで、
ズーム・アキシコンモジュールを必要とすることなく、
この装置の照度整定を変えることが可能になる。ズーム
・アキシコンモジュールの除去およびこのモジュールの
単レンズによる置換えがこの照明器の光学部品の数を大
きく減らし、それが表面の数を減らしおよび必要な透過
性材料の厚さを減少し、それで初期スループットをかな
り改善する。ズーム・アキシコンモジュールの除去は、
この照明器の劣化および汚染作用に対する感度も下げ、
この装置のコストを下げられるようにできる。この装置
の大きさも減らすことができる。
【００１４】この発明の上記態様による装置は、以下の
利点を有することもできる。従来の照明器では、光学部
品の相対的複雑さおよび配置精度が瞳強度分布に望まし
くない楕円性を生ずることがある。しかし、本照明器の
比較的単純な構成は、この問題を軽減する。
【００１５】この発明の特別の実施例では、上記光学素
子のビーム経路に沿う位置および上記瞳生成レンズの位
置が調整可能である。これは、達成すべき、内側および
外側半径方向範囲のような、強度分布パラメータの或る
程度の連続変動を可能にする。これは、これらの光学素
子によってもたらされる強度分布のパラメータの離散的
性質を除去するためまたは交換器に備える必要のある交
換可能な光学素子の数を減らすために使うことができ
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】一実施例によれば、どの一時に
も、単一光学素子がビーム経路に（最初のビーム拡大後
に）存在し、強度分布の１組のパラメータを規定する。
この交換器は、各々異なる照度整定を規定するために、
この光学素子を多数の異なる光学素子の一つと交換す
る。この構成は、ビーム内の光学素子の数が少なければ
少ないほど、ビームの減衰が少ないので、有利なことが
ある。これは、光学的に薄く且つ製造が比較的安価であ
る、マイクロレンズアレイおよびＤＯＥのようなその他
の光学素子に特に有利であり、それで、各所望の照度整
定に一つずつ、異なる交換可能光学素子のライブラリを
設けることが問題でない。
【００１７】代りのシナリオでは、この交換器を、この
ビーム経路に少なくとも二つの上記光学素子を並列に
（即ち、並べて）配置できるように具体化する。その代
りに、単一のそのような光学素子を、複数の区域を含
み、各区域が異なる種類の照度整定に対応するような方
法で具体化し、およびこの装置を上記素子の一つ以上の
異なる区域を通してビームを向けられるように具体化す
ることができる。例えば、後者のシナリオの交換器は、
光学素子の平面に平行な平面で微細ｘ、ｙ運動を行え、
それによってこのビームをこの素子に関して微細に位置
決め可能であるようにしてもよく；その代りに光学スプ
リッタ／ミキサを使ってこのビームの異なる部分を異な
る区域、または単一区域の異なる領域、または別の素子
を予め選択した比で通るように向けてもよい。これらの
シナリオは全て共通に、それらが、上に説明した効率的
“混合効果”のために、かなり少ない数の光学素子にも
とづき格段に多数の照度整定を達成できるようにすると
いう事実を有する。更に、この様にして他の方法では達
成困難、または不可能な（様々の）照度整定が可能にな
る。実際の露出中に照度整定を変えることを意図するこ
とさえできる。
【００１８】先の段落で説明した内容で生成できるハイ
ブリッド照度整定の具体例には次のようなものがある： − 多極パターンが第１素子（または区域、または区域
の領域）によって生成され、背景光束が第２素子（また
は区域、または区域の領域）によって生成されるソフト
多極； − ｘ方向の“強い”２極およびｙ方向の“弱い”２極
を含む４極パターン； − ｘ方向の極間隔がｙ方向のそれと異なる、“千鳥状
４極”パターン。
【００１９】先の二つの段落で説明した実施例は、その
用途がズーム・アキシコンがなく、単レンズで置換えら
れた照明器に限定されないことに注意すべきである。材
料コスト、吸収問題および／またはズーム・アキシコン
の嵩が実質的問題でない場合（例えば、ＤＵＶリソグラ
フィ、または１９３ｎｍ若しくは１５７ｎｍで使う“ハ
イエンド”機で）は、柔軟性を負荷するために、この
“混合実施例”をズーム・アキシコンと組合わせて使っ
てもよい。
【００２０】この発明のもう一つの実施例では、上記光
学素子の幾つかがこのビーム経路に沿って直列に配置可
能である。一実施例では、第１光学素子が強度分布のパ
ラメータの特別なサブセットを規定し、第２光学素子
が、例えば、パラメータの上記サブセット特別の変更を
規定する。例えば、第１光学素子がこの強度分布の内側
および外側半径方向範囲（σ設定；それぞれ、σ内側設
定およびσ外側設定）によって定められるある予選択の
環状度を規定することができ、第２光学素子が上記内側
および外側半径方向範囲を、それぞれ、（予め選択した
量だけ）減少および増加する影響を及すことができる。
これは、異なる光学素子の予選択可能な組合せ（一つの
交換器の中の光学素子と他の交換器の開放位置の組合せ
を含む）をこの光路に直列に配置することによって、必
要な光学素子の数を最小にしながら、照度整定の数を増
すことができるという利点を有する。そのような実施例
は、幾つか（例えば、二つ）の交換器を直列に含んでも
よい。光学素子として、例えば、マイクロレンズアレイ
またはＤＯＥを使うことは、一般的にそれらが比較的薄
く、従って、それらの幾つかを直列に配置しても、ズー
ム・アキシコンモジュールと較した光吸収の程度が大き
く減少するので、有利である。
【００２１】この発明の更なる態様によれば、装置製造
方法であって： − 少なくとも部分的に放射線感応材料で覆われた基
板を用意する工程； − 照明システムを使って放射線の投影ビームを供給
する工程； − この投影ビームにその断面にパターンを与えるた
めにパターニング手段を使う工程； − このパターン化した放射線ビームをこの放射線感
応材料の層の目標領域上に投影する工程；を含む方法
で：この投影ビーム経路に複数の光学素子の少なくとも
一つを配置するために少なくとも一つの交換器を使って
この投影ビームの強度分布の内側および／または外側半
径方向範囲を設定し、この光学素子または各光学素子が
上記強度分布の少なくとも一つのパラメータを規定する
ことに特徴がある方法が提供される。
【００２２】この発明によるリソグラフィ投影装置を使
う製造プロセスでは、パターン（例えば、マスクの中
の）を、少なくとも部分的にエネルギー感応材料（レジ
スト）の層で覆われた基板上に結像する。この結像工程
の前に、この基板は、例えば、下塗り、レジスト塗布お
よびソフトベークのような、種々の処理を受けるかも知
れない。露出後、基板は、例えば、露出後ベーク（ＰＥ
Ｂ）、現像、ハードベークおよび結像形態の測定／検査
のような、他の処理を受けるかも知れない。この一連の
処理は、デバイス、例えばＩＣの個々の層をパターン化
するための基礎として使用する。そのようにパターン化
した層は、次に、エッチング、イオン注入（ドーピン
グ）、金属化処理、酸化処理、化学・機械的研磨等のよ
うな、全て個々の層の仕上げを意図した種々の処理を受
けるかも知れない。もし、幾つかの層が必要ならば、全
処理またはそれと同様の処理を各新しい層に反復しなけ
ればならないだろう。結局、デバイスのアレイが基板
（ウエハ）上にできる。次に、これらのデバイスをダイ
シングまたは鋸引のような手法によって互いから分離
し、そこから個々のデバイスをキャリヤに取付け、ピン
に接続等が行われる。そのようなプロセスに関する更な
る情報は、例えば、ピータ・バン・ザントの“マイクロ
チップの製作：半導体加工の実用ガイド”、第３版、マ
グロウヒル出版社、1997年、ISBN0-07-067250-4という
本から得ることができる。
【００２３】この明細書でＩＣの製造に於けるこの発明
による装置の使用を具体的に参照してもよいが、そのよ
うな装置は、他の多くの可能な用途があることを明確に
理解すべきである。例えば、それを集積光学システム、
磁区メモリ用誘導検出パターン、液晶ディスプレイパネ
ル、薄膜磁気ヘッド等の製造に使ってもよい。当業者
は、そのような代替用途の関係では、この明細書で使う
“レチクル”、“ウエハ”または“ダイ”という用語の
どれも、それぞれ、より一般的な用語“マスク”、“基
板”および“目標領域”で置換えられると考えるべきで
あることが分るだろう。
【００２４】本文書では、照明放射線および照明ビーム
という用語を紫外放射線（例えば、３６５、２４８、１
９３、１５７または１２６ｎｍの波長の）およびＥＵＶ
を含むあらゆる種類の電磁放射線を包含するために使用
する。
【００２５】
【実施例】次に、この発明の実施例を、例としてだけ、
添付の概略図を参照して説明する。これらの図で、対応
する参照記号は、対応する部品を指す。
【００２６】図１は、この発明の具体的実施例によるリ
ソグラフィ投影装置を概略的に描く。この装置は： − 放射線（例えば、ＵＶまたはＥＵＶ線）の投影ビ
ームＰＢを供給するための放射線システムＬＡ、Ｅｘ、
ＩＬ； − マスクＭＡ（例えば、レチクル）を保持するため
のマスクホルダを備え、このマスクを部材ＰＬに関して
正確に位置決めするために第１位置決め手段に結合され
た第１物体テーブル（マスクテーブル）ＭＴ； − 基板Ｗ（例えば、レジストを塗被したシリコンウ
エハ）を保持するための基板ホルダを備え、この基板を
部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第２位置決
め手段に結合された第２物体テーブル（基板テーブル）
ＷＴ； − マスクＭＡの被照射部分を基板Ｗの目標部分Ｃ
（一つ以上のダイを含む）上に結像するための投影シス
テム（“レンズ”）ＰＬ（例えば、屈折若しくは反射屈
折システム、またはミラーグループ）；を含む。ここで
示す装置は、透過型である（即ち、透過性のマスクを有
する）。しかし、一般的に、それは、例えば、（反射性
のマスクを備える）反射型でもよい。
【００２７】この放射線システムは、放射線のビームを
作る放射源ＬＡ（例えば、Ｈｇランプ、またはエキシマ
レーザ）を含む。このビームを直接か、または、例え
ば、ビーム拡大器Ｅｘのような、状態調節手段を通して
から、照明システムＩＬの中へ送る。この照明器ＩＬ
は、このビームの強度分布の外側および／または内側半
径方向範囲（即ち、それぞれ、σ外側およびσ内側）を
設定するための調整手段ＡＭを含む。その上、それは、
一般的に、積分器ＩＮおよびコンデンサＣＯのような、
種々の他の部品を含む。この様にして、マスクＭＡに入
射するビームＰＢは、その断面で所望の均一性および強
度分布を有する。
【００２８】図１に関して、放射源ＬＡは、（この放射
源ＬＡが、例えば、水銀ランプである場合によくあるこ
とだが）このリソグラフィ投影装置のハウジング内にあ
っても良いが、このリソグラフィ投影装置から遠く離れ
ていて、作った放射線ビームをこの装置に（例えば、適
当な指向ミラーを使って）導いても良いことに注意すべ
きで；この後者のシナリオは、放射源ＬＡがエキシマレ
ーザである場合によくあることである。本発明および請
求項は、これらのシナリオの両方を包含する。
【００２９】ビームＰＢは、次に、マスクテーブルＭＴ
上にマスクホルダで保持されたマスクＭＡを横切る。マ
スクＭＡを横断してから、ビームＰＢは、レンズＰＬを
通過し、それがこのビームを基板Ｗの目標部分Ｃ上に集
束する。干渉計変位および測定手段ＩＦの助けをかり
て、基板テーブルＷＴは、例えば、異なる目標部分Ｃを
ビームＰＢの経路に配置するように、正確に動くことが
できる。同様に、例えば、マスクＭＡをマスクライブラ
リから機械的に検索してから、または走査中に、第１位
置決め手段を使ってマスクＭＡをビームＰＢの経路に関
して正確に配置することができる。一般的に、物体テー
ブルＭＴ、ＷＴの運動は、図１に明示していないが、長
ストロークモジュール（粗位置決め）および短ストロー
クモジュール（微細位置決め）の助けをかりて実現す
る。しかし、ウエハステッパの場合は（ステップアンド
スキャン装置と違って）、マスクテーブルＭＴを短スト
ロークアクチュエータに結合するだけでもよく、または
固定してもよい。
【００３０】図示する装置は、二つの異なるモードで使
うことができる： １．ステップモードでは、マスクテーブルＭＴを本質的
に固定して保持し、全マスク像を目標部分Ｃ上に一度に
（単一“フラッシュ”で）投影する。次に基板テーブル
ＷＴをｘおよび／またはｙ方向に移動して異なる目標部
分ＣをビームＰＢで照射できるようにする； ２．走査モードでは、与えられた目標部分Ｃを単一“フ
ラッシュ”では露出しないことを除いて、本質的に同じ
シナリオを適用する。その代りに、マスクテーブルＭＴ
が与えられた方向（所謂“走査方向”、例えば、ｘ方
向）に速度νで動き得て、それで投影ビームＰＢがマス
ク像の上を走査させられ；同時に、基板テーブルＷＴが
それと共に同じまたは反対方向に速度Ｖ＝Ｍνで動かさ
れ、このＭはレンズＰＬの倍率（典型的には、Ｍ＝１／
４または１／５）である。この様にして、比較的大きい
目標部分Ｃを、解像度について妥協する必要なく、露出
できる。
【００３１】この発明による照明器の実施例を図２に示
す。それは、ビーム経路（破線）に光学素子１０および
このビーム経路の光学素子１０に置換できる他の光学素
子に接近できる光学素子交換器１２を含む。交換器１２
は、幾つかの光学素子を備え且つこれらの光学素子の選
択したものをビーム経路に配置するために制御可能なカ
ルーセル若しくは回転円板、または、例えば、写真スラ
イド映写機に使われているような、スライド取込取出機
構のような、光学素子をビーム経路から出し入れするた
めの何か適当な手段を含んでもよい。
【００３２】光学素子１０を通過する放射線を単レンズ
１４によって集光し、瞳平面１６に空間強度分布を生ず
る。代替実施例では、レンズ１４が複合レンズである
が、ズーム・アキシコンの場合と違って、その部品が全
て固定である。この瞳平面は、レンズ１４の後方焦点面
に位置する。光学素子１０の選択は、この照明器の強度
分布（即ち、照度整定）を決定する。各交換可能光学素
子１０は、内側および外側半径およびビーム形状のよう
な１組のパラメータを有する特定の強度分布を規定す
る。
【００３３】この実施例では、固定単レンズ１４および
複数の光学素子１０がズーム・アキシコンモジュールの
種々の（可動）レンズおよび二つの相補の円錐形部品に
置き換わる。レンズ１４の後で、この放射線を結合レン
ズ１８によって積分器ロッド２０（または、例えば、複
眼レンズ）に導入する。結合レンズ１８の軸方向位置
は、その前方焦点面が実質的に瞳平面１６と一致するよ
うに選択する。光学素子を使ってこの瞳平面で強度分布
を完全に規定するこの実施例は、積分器２０の入口で均
一性、テレセントリック性および強度分布のようなビー
ム特性で測定して、性能に負の影響は全くない。光学素
子１０は、一般的にマイクロレンズのアレイまたはＤＯ
Ｅのような、薄い素子である。
【００３４】特定の実施例では、この光学素子がフレネ
ルレンズのように機能する実質的に同じ回折光学マイク
ロレンズのアレイを含み、このフレネルレンズの一つの
部分の最大（軸方向）厚さと近隣部分の最小厚さとの間
の差をこの放射線ビームの波長（例えば、２４８ｎｍ、
または１９３ｎｍ）のオーダの精度で制御するＤＯＥで
ある。古典的、屈折フレネルレンズでは、上記精度が一
般的には維持されない。ここで使う“フレネルレンズ”
という用語は、ＤＯＥを構成する上記回折光学マイクロ
レンズを指すと一般的に解釈すべきである。このフレネ
ルレンズアレイは、例えば、リソグラフィプロセスを使
って製作することができる。フレネルレンズの表面上の
異なる領域に於ける厚さの段階的変化は、典型的には約
８段（または位相レベル）を使って、即ち、このアレイ
を製造するために使うプロセスで８層を使って階段とし
て近似することができる。
【００３５】一般的に作りたいと望む主照度整定（この
照明器の瞳平面での強度分布）は：所謂従来の整定、環
状整定、および多極整定である。異なる光学素子を製作
して以下に議論するようにこれらの整定の各々を生成す
ることができる。
【００３６】従来の整定、即ち、単純な均一の円盤状強
度分布は、単純にＤＯＥの各フレネルレンズを具体化し
て入射放射線ビームから発散ビームを作ることによって
創成できる。この光学素子によって作った角強度分布を
レンズ１４（図２）によって瞳平面で空間強度分布に変
換する。この照度整定の唯一のパラメータは、この瞳平
面での空間強度分布の外側半径方向範囲である。これら
のフレネルレンズの有効曲率半径の減少または個々のフ
レネルレンズの大きさの増加は、このビームの発散を増
し、従ってこの空間強度分布の最大半径方向範囲を増
す。これらのフレネルレンズの光軸に垂直な平面でのフ
レネルレンズの形状は、この瞳平面での空間強度分布の
形状を決める。それで、円盤形分布のために、フレネル
レンズは円盤状の形状を有すべきである。ＤＯＥを構成
するフレネルレンズの密詰めを可能にするために、上記
形状は、円盤状形状を近似する程に、六角形に選択する
ことができる。異なる光学素子の選択を用意して、多数
の従来の照度整定を与えることができる。ここに記載し
たような従来の整定の実現のために使う光学素子は、以
後“従来の光学素子”と呼んでもよい。
【００３７】環状照度整定は、瞳平面の中心部に光がな
いことに特徴がある。この照度整定のパラメータは、内
側半径方向範囲、即ち、この中心部に光のない範囲であ
る。従来の光学素子では、瞳での強度分布の中心部を各
フレネルレンズの中心部によって創成する。それで環状
照明を作るためには、従来の光学素子の各フレネルレン
ズの中心部を除去しなければならない。図３および図４
は、環状照度整定を作るための光学素子を設計できる方
法を概念的に示す。図３は、従来の光学素子の単一フレ
ネルレンズ３００を示し、内フレネルリングが点線の箱
３０２で示す領域から除去してある。放射線がこの内フ
レネルリングを通過するのを簡単に阻止できるが、これ
は効率を下げ；従って、このようにする代りにフレネル
リング３１０ａ、３１０ｂ、…の残りの外側のグループ
３０４を、図３に矢印３０６で示すように、半径方向に
内方に効果的に移動する。このようにして得られたフレ
ネルレンズ４００は、図４に断面で概略的に示し、勿論
軸対称で、この軸は図４の破線４０８である。そのよう
なフレネルレンズのアレイによって作った環の内側半径
方向範囲は、効果的に除去した内側フレネルリングの数
によって決り、この環の外側半径方向範囲は、従来の照
明モードに対するのと同じ方法で決めることができる。
【００３８】２極または４極のような、多極照明モード
では、瞳平面の各極を上記平面に於ける環状強度分布の
ほんの一部であると考えることができる。多極整定を生
成するための光学素子は、フレネルレンズが放射線強度
を向ける瞳平面での極形状に従って各フレネルレンズが
形作られたフレネルレンズのアレイを含むことができ
る。
【００３９】上にフレネルレンズアレイによって説明し
たが、これらの光学素子は、例えば、コンピュータ生成
ホログラム（フーリエ計算した画像発生パターン板）の
アレイのような、他の形を採ることができる。
【００４０】光学素子交換器に少なくとも一つの光学素
子を備える、この発明の特定の実施例は、特に小さいシ
グマ設定（即ち、小さい外側半径方向範囲）の従来の照
度整定を達成するために使うことができる。そのような
設定は、位相シフトマスクに使うために特に有利であ
る。
【００４１】上記シナリオによれば、各照度整定用に特
有の光学素子１０が必要であり、この照度整定のパラメ
ータは、連続的に変えることはできないが、一つの光学
素子を異なる光学素子と交換するときに不連続に変る。
この発明の更なる実施例によれば、光学素子１０とレン
ズ１４が照明器の光軸２２に沿って両方可動である。図
２の光学素子１０とレンズ１４を同時に動かせば、従来
照明の場合に、瞳平面での強度分布の半径方向範囲が効
果的に変る結果となることを研究が示す。例えば、それ
らを共に積分器２０の方へ動かすとき、瞳平面１６での
強度分布の有効半径方向範囲が小さくなる、即ち、外側
半径方向範囲（またはσ外側設定）が減る。それで、こ
の様にして、整定のある程度の連続変動が得られる。約
０．２５または０．３のσ外側の変更が典型的に達成可
能であることを研究が示す。
【００４２】レンズ１４を軸方向に動かすとき、瞳平面
１６がもはや結合レンズ１８の前方焦点面にないことは
勿論判るだろう。従って、積分器２０への入口での強度
分布は、均一でなくなるかも知れない。これは或る程度
修正可能であり、または光学素子１０とレンズ１４の軸
方向位置を調整することによって達成可能な“ズーム”
機能によって与えられる余剰フレキシビリティを犠牲に
して許容できる。
【００４３】好適実施例では、レンズ１４が１０００ｍ
ｍのオーダの焦点距離を有し、光学素子１０とレンズ１
４を光軸２２に沿って積分器２０に近接および離隔する
ように３５０ｍｍのオーダで移動可能である。
【００４４】上記実施例によれば、単一光学素子を使っ
て瞳平面１６での強度分布を規定し、交換器１２が、強
度分布を変えるように、特定の光学素子１０を異なる光
学素子と交換できる。これは、ズーム・アキシコンモジ
ュールを除去してその代りに単レンズ素子１４を使える
ようにする。照明器のスループット効率は、勿論、典型
的に光学部品に使用するＣａＦ2および石英の体積吸収
係数および表面被覆効率に敏感である。しかし、解析に
よれば、ズーム・アキシコンモジュールを使用する照明
器が５５ないし７５％の領域の効率を有してもよいのに
対して、上記実施例による照明器は、８０％と８５％の
間の効率を有することができ、それはかなりの効率改善
を表す。
【００４５】照明の一形態では、多極モードに対するよ
うな、強度分布の極がそれらの間で本質的にゼロ強度に
なっていて、それを“ハード”多極モードと呼んでい
る。しかし、或る用途では、極間または光軸上で幾らか
の放射線強度があるのが都合がよく、これらの変形を一
般的に“ソフト”多極モードと呼ぶ。ソフト照度整定の
例は：全体的背景放射強度を与えること；中央の弱い極
を設けること；および主極以外の多数の弱強度極を設け
ることである。上記のような、ソフトな変形は、従来の
および環状照度整定にも使ってよい。そのようなソフト
な変形は、前述の主照度整定を表す幾つか（例えば、少
なくとも二つ）の瞳強度分布の混合体であると考えるこ
とができる。
【００４６】以下では、“ソフト照度整定”を幾つか
（例えば、少なくとも二つ）の異なる瞳強度分布の混合
体と呼び、そこでこれらの瞳強度分布は、上記主照度整
定を含んでもよいが、それらに限定されない。参考のた
めに、上記主照度整定および対応するマイクロレンズま
たはフレネルレンズ形状（それぞれマイクロレンズアレ
イまたはＤＯＥに現れる通りの）を、以下の表に示すよ
うに、文字によって識別する。
【００４７】ここで称するｘ方向およびｙ方向は、局部
光軸に実質的に垂直な平面内にある。多くの実施例で、
ｘ軸およびｙ軸の方向は、パターニングマスクの臨界線
構造の相互に直交する方向と実質的に一致する。
【００４８】ソフト照度整定を作り出すための光学素子
は、本発明にも使ってよい。一実施例では、ソフト照度
整定を生成するための単一ＤＯＥがフレネルレンズのア
レイから成り、そこでは例えば２種類のフレネルレンズ
がこのアレイ上に分布する。例えば、ソフト４極強度分
布を生成するＤＯＥは、Ｎ型のフレネルレンズを詰めた
アレイを５０％およびもう一つの種類、例えば、Ｏ型の
フレネルレンズを詰めたアレイを５０％備えてもよい。
他の比、即ち、他の割合も勿論同様に使うことができ
る。
【００４９】この発明のもう一つに実施例では、二つの
ＤＯＥを、図１の素子１０の位置に、放射線ビームの中
に並べて、両ＤＯＥが入射放射線ビームによって部分的
に照射されるような方法で、配置することによってソフ
ト照明を得る；図５参照。図５に、カルーセル３２の位
置３０でのそのような並列構成を示す。このカルーセル
（図１の交換器１２の一部）は、軸３１の周りに回転可
能で、この軸３１とほぼ垂直な、相互に直交する方向ｘ
およびｙに横に動き得る。Ｏ型のフレネルレンズを含
み、図５に素子３４として示す従来の照明用ＤＯＥを、
Ｓ型のフレネルレンズを含み、素子４４として示す環状
照明用ＤＯＥと並べて置く。入射放射線ビーム４０のフ
ットプリント３８が両ＤＯＥを部分的に横切る。従っ
て、瞳平面に出来た空間強度分布は、従来の円盤形強度
分布と環状形強度分布の和であろう。明らかに、図５の
被照射面積４２と４３の比が上記従来の強度分布と環状
強度分布の比を決める。カルーセル３２を、図５に示す
ように、ｘ方向に動かすことによって、この比を制御
し、何れかの所望の予選択値に調整することができる。
この様にして、多数の単一素子ソフト環状ＤＯＥにアク
セスする必要なしに、特定の結像用途のための最適比を
確立することが可能である。
【００５０】この発明のもう一つに実施例では、異なる
照度整定を創成する際のかなりの柔軟性が、図６に示す
ように、複数の領域５２を含み、その各領域が、例え
ば、特定の照明モードを生成するＤＯＥ部分である、単
一光学素子５４を使うことによって得られる。図６は、
各領域に存在するフレネルレンズの型式を示す（上記の
表も参照）。それで、領域Ｎは、回折マイクロレンズの
アレイがＮ型のフレネルレンズ１００％から成って、４
極照明を生成するＤＯＥ部分であり、領域ＯＳは、ソフ
ト環状照明を生成するための上記のＤＯＥ部分である。
この光学素子を図５の位置３０に配置し、この光学素子
５４をこの放射線ビーム４０のフットプリント３８に対
して（例えば、ｘ方向および／またはｙ方向に）動かす
可能性を利用することによって、主照度整定は勿論、複
数のソフト照度整定を創成することができる。図６は、
この実施例を概略的に示すだけであることに注意すべき
である。例えば、領域の数、各領域に存在するフレネル
レンズ型式の比、および領域の大きさに関するフットプ
リント３８の大きさは、全て適当に選択できるパラメー
タである。
【００５１】この発明の更なる実施例を図７に示す。こ
の例では、二つの光学素子１０Ａ、１０Ｂをこのビーム
経路に沿って直列に配置し、各光学素子がそれぞれの交
換器１２Ａ、１２Ｂを有する。この例の交換器の各々
は、強度分布の特性またはパラメータの特別のサブセッ
トを制御するために１組の光学素子を備える。例えば、
交換器１２Ａに関連する光学素子は、アキシコンの機能
を引継ぐ、即ち、強度分布の環状度を制御する、多数の
環状整定（σ内側およびσ外側）を規定してもよく、一
方交換器１２Ｂに関連する光学素子は、ズームモジュー
ルによって従来通りに制御されるように、瞳で空間強度
分布パターンの半径方向の範囲を確定する多数の従来の
整定（σ外側）を規定してもよい。各交換器１２Ａ、１
２Ｂは、空きスロットを備え、それが創成しているビー
ムの特別なパラメータまたは特性の上記異なる値を確定
する、異なる光学素子の間で独立に交換できる。交換器
１２Ａによる環状整定と交換器１２Ｂによる従来の整定
の組合せ効果は、瞳平面での対応する強度分布のたたみ
込みだろう。それで、交換器１２Ａで設定されるσ内側
およびσ外側値は、交換器１２Ｂの光学素子による従来
の整定と組合わせたとき、それぞれ、減少および増加す
るだろう（即ち、この環のリング幅が増すだろう）。こ
の様にして、光学素子の直列の異なる組合せが可能であ
るので、大きな柔軟性を達成でき、少しの光学素子しか
必要ない。
【００５２】この発明の特定の実施例を上に説明した
が、この発明は、説明したのと別の方法で実施できるこ
とが判るだろう。この説明は、この発明を限定すること
を意図しない。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施例によるリソグラフィ投影装置
を描く。
【図２】本発明による照明器の一部の説明図である。
【図３】環状照明を生成すべき場合のために、回折光学
素子で使うためのフレネルレンズを断面で示す。
【図４】環状照明を生成すべき場合のために、効率を改
善した回折光学素子で使うための修正したフレネルレン
ズを断面で示す。
【図５】ソフト照度整定を生成するために使うことがで
きる光学素子を備え、この照度整定のソフトさを変える
ように動き得る交換器を示す。
【図６】放射線ビーム中に置いたとき、この放射線ビー
ム中の相対的横位置に依って、複数の照度整定を生成す
るために使い得る光学素子を描く。
【図７】本発明による照明器の更なる実施例を示す。
【符号の説明】
１０ 光学素子 １０Ａ 光学素子 １０Ｂ 光学素子 １２ 交換器 ３２ 保持手段 ３４ 光学素子 ４２ 被照射面積 ４３ 被照射面積 ４４ 光学素子 ＡＭ 調整手段 Ｃ 目標部分 Ｅｘ ビーム成形光学素子 ＩＬ 照明システム ＩＮ 積分器 ＬＡ 放射源 ＭＡ マスク ＭＴ マスクテーブル ＰＢ 投影ビーム ＰＬ 投影システム Ｗ 基板 ＷＴ 基板テーブル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 19/00 Ｇ０３Ｆ 7/20 ５２１ Ｇ０３Ｆ 7/20 ５２１ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ ５２７

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 リソグラフィ投影装置であって： − 放射線の投影ビーム（ＰＢ）を供給するための放
    射線システム（ＬＡ、Ｅｘ、ＩＬ）で、平面でのこの投
    影ビームの強度分布を規定するための照明システム（Ｉ
    Ｌ）を含み、この照明システムが上記強度分布の内側お
    よび／または外側半径方向範囲を制御するための調整手
    段（ＡＭ）を含む放射線システム； − 所望のパターンに従ってこの投影ビームをパター
    ニングするための、パターニング手段（ＭＡ、ＭＴ）； − 基板（Ｗ）を保持するための基板テーブル（Ｗ
    Ｔ）； − このパターン化したビームをこの基板の目標部分
    （Ｃ）上に結像するための投影システム（ＰＬ）；を含
    む投影装置に於いて、上記調整手段が複数の光学素子
    （１０）の少なくとも一つをこの投影ビーム経路から出
    し入れするための少なくとも一つの交換器（１２）から
    成り、上記光学素子の各々が上記強度分布の少なくとも
    一つのパラメータを規定することを特徴とする装置。
  2. 【請求項２】 請求項１による装置に於いて、上記少な
    くとも一つの光学素子（１０）が回折および／または屈
    折素子を含む装置。
  3. 【請求項３】 請求項２による装置に於いて、上記少な
    くとも一つの光学素子（１０）が屈折若しくは回折マイ
    クロレンズのアレイ、またはコンピュータ生成ホログラ
    ムを含む装置。
  4. 【請求項４】 請求項１ないし請求項３の何れか一つに
    よる装置に於いて、上記少なくとも一つの光学素子（１
    ０）のビーム経路に沿う位置が調整可能である装置。
  5. 【請求項５】 請求項１ないし請求項３の何れか一つに
    よる装置に於いて、上記光学素子の少なくとも二つ（３
    ４、４４）が上記ビーム経路に並列に配置可能である装
    置。
  6. 【請求項６】 請求項５による装置に於いて、上記ビー
    ム経路に並列に配置可能である上記光学素子（３４、４
    ４）の各々の上記ビーム経路の中の割合（４２；４３）
    が調整可能である装置。
  7. 【請求項７】 請求項１ないし請求項３の何れか一つに
    よる装置に於いて、上記光学素子の少なくとも二つ（１
    ０Ａ、１０Ｂ）が上記ビーム経路に沿って直列に配置可
    能である装置。
  8. 【請求項８】 請求項１ないし請求項３の何れか一つに
    よる装置に於いて、上記強度分布の上記パラメータを：
    外側半径方向範囲、環状度、内側半径方向範囲、周囲形
    状、周囲定位、極数、極の方位、極形状、強度勾配、お
    よび背景照明から選択する装置。
  9. 【請求項９】 装置製造方法であって： − 少なくとも部分的に放射線感応材料で覆われた基
    板（Ｗ）を用意する工程； − 照明システム（ＩＬ）を使って放射線の投影ビー
    ム（ＰＢ）を供給する工程； − この投影ビームにその断面にパターンを与えるた
    めにパターニング手段（ＭＡ、ＭＴ）を使う工程； − このパターン化した放射線ビームをこの放射線感
    応材料の層の目標領域（Ｃ）上に投影する工程；を含む
    方法で：この投影ビーム経路に複数の光学素子（１０）
    の少なくとも一つを配置するために少なくとも一つの交
    換器（１２）を使ってこの投影ビームの強度分布の内側
    および／または外側半径方向範囲を設定し、この光学素
    子または各光学素子が上記強度分布の少なくとも一つの
    パラメータを規定することに特徴がある方法。
  10. 【請求項１０】 請求項９に従って製造した装置。
  11. 【請求項１１】 照明システム（ＩＬ）であって、順
    次： − 実質的に平行にした放射線ビームから所望の内側
    および／または外側半径方向範囲を有する強度分布を作
    り出すための、調整手段（ＡＭ）； − このビームを積分器手段（ＩＮ）の入射面上に集
    束するための集束手段で、上記積分器手段がこのビーム
    の断面での強度均一性を改善する役に立つ積分器手段；
    を含み、この調整手段が複数の光学素子（１０）の少な
    くとも一つをこの投影ビーム経路から出し入れするため
    の少なくとも一つの交換器（１２）から成り、上記光学
    素子の各々が上記強度分布の少なくとも一つのパラメー
    タを規定することを特徴とするシステム。
  12. 【請求項１２】 照明システム（ＩＬ）であって、順
    次： − 実質的に平行にした放射線ビームから所望の内側
    および／または外側半径方向範囲を有する強度分布を作
    り出すための、調整手段（ＡＭ）； − このビームを積分器手段（ＩＮ）の入射面上に集
    束するための集束手段で、上記積分器手段がこのビーム
    の断面での強度均一性を改善する役に立つ集束手段；を
    含み、この調整手段がアキシコンまたはズームモジュー
    ルを含まないことを特徴とするシステム。
  13. 【請求項１３】 照明システム（ＩＬ）であって、順
    次： − 実質的に平行にした放射線ビームから所望の内側
    および／または外側半径方向範囲を有する強度分布を作
    り出すための、調整手段（ＡＭ）； − このビームを積分器手段（ＩＮ）の入射面上に集
    束するための集束手段で、上記積分器手段がこのビーム
    の断面での強度均一性を改善する役に立つ集束手段；を
    含み、この調整手段が少なくとも二つの光学素子（３
    ４、４４）を上記ビームに並列に配置するための保持手
    段（３２）から成ることを特徴とする照明システム。
  14. 【請求項１４】 請求項１３による照明システム（Ｉ
    Ｌ）に於いて、上記少なくとも二つの光学素子（３４、
    ４４）の各々の上記ビーム経路の中の割合（４２；４
    ３）が調整可能であることを特徴とするシステム。
  15. 【請求項１５】 照明システム（ＩＬ）であって、順
    次： − 実質的に平行にした放射線ビームから所望の内側
    および／または外側半径方向範囲を有する強度分布を作
    り出すための、調整手段（ＡＭ）； − このビームを積分器手段（ＩＮ）の入射面上に集
    束するための集束手段で、上記積分器手段がこのビーム
    の断面での強度均一性を改善する役に立つ集束手段；を
    含み、この調整手段が単一光学素子（１０）を備えるこ
    とができるホルダ（１２）から成り、上記光学素子が屈
    折若しくは回折マイクロレンズのアレイ、またはコンピ
    ュータ生成ホログラムを含むことを特徴とするシステ
    ム。
JP2000377332A 1999-12-13 2000-12-12 リソグラフィ装置用照明器、そのような照明器を含むリソグラフィ装置、およびそのようなリソグラフィ装置を使う製造方法 Expired - Fee Related JP3877517B2 (ja)

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