JP2006152147A - 電子部品 - Google Patents

Abstract

【課題】 アルミニウムの腐蝕がなく、パーティクル等の異物の付着がない清浄な電子部品を提供する。
【解決手段】 アルカリ成分（Ａ）、並びに数平均分子量３２〜５００の１価アルコール（Ｂ１）、数平均分子量６２〜２５０の２価アルコール（Ｂ２）、数平均分子量９２〜４００の３〜９価アルコール（Ｂ３）および該（Ｂ１）、（Ｂ２）もしくは（Ｂ３）の全ての水酸基を除いた残基と炭素数１〜８のアルキル基とから構成されるアルキルエーテル（Ｂ４）からなる群から選ばれる１種以上の親水性有機化合物（Ｂ）を含有するアルカリ洗浄剤を用いて洗浄されてなる電子部品である。
【選択図】 なし

Description

本発明は、アルカリ洗浄剤で洗浄された電子部品、更に詳しくはアルカリ洗浄剤で洗浄された、とくに一部にアルミニウムを使用した液晶パネル用ガラス基板及びその洗浄方法に関する。

従来より、電子部品はアルカリ洗浄剤で洗浄されることがあり、中性洗浄剤で洗浄された電子部品に比べて、油脂類、樹脂、パーティクルなどの異物が十分に除去されている。しかしながら、特にアルミニウムが部品の一部または全部に使用されている電子部品などの場合は、アルカリ洗浄剤で洗浄されるとアルミニウムが容易に腐食されてしまうため、アルカリ洗浄剤は使用しにくいのが現状であった。
例えば、液晶パネル用のポリイミド配向膜はこれまで水平配向タイプであったが、広視野角の液晶パネルの要望が強くなるにつれて垂直配向タイプのポリイミド配向膜が増える趨勢にある。水平配向タイプのポリイミド配向膜が塗布されたガラス基板は完全焼成（焼成温度：約１８０℃）前の半焼成状態（約８０℃で脱溶剤した半硬化膜）であれば、その不具合な配向膜はＮ−メチルピロリドンなどの溶剤でアルミ薄膜（配線）を腐蝕することなく剥離できるが、垂直配向タイプのポリイミド配向膜の場合には、該半焼成状態であっても溶剤ではポリイミド配向膜（半焼成）を剥離できないので、やむを得ずアルカリ洗浄剤を使用して配向膜剥離を行っている（特許文献−１参照）。その際、ガラス基板のアルミ薄膜（配線）は腐蝕するのでアルミ薄膜部分をワックスなどで保護してから洗浄し、次に炭化水素などの溶剤でワックス除去して基板を再生させるか、配向膜と同時にアルミ薄膜を完全に剥離・溶解させてからガラス基板だけを再生させる方法がとられていた。
特開平６−３０６６６１号公報

本発明の課題は、洗浄剤で洗浄されてもアルミニウムが腐食されていない電子部品を提供することにある。

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、アルカリ成分（Ａ）、並びに数平均分子量３２〜５００の１価アルコール（Ｂ１）、数平均分子量６２〜２５０の２価アルコール（Ｂ２）、数平均分子量９２〜４００の３〜９価アルコール（Ｂ３）および該（Ｂ１）、（Ｂ２）もしくは（Ｂ３）の全ての水酸基を除いた残基と炭素数１〜８のアルキル基とから構成されるアルキルエーテル（Ｂ４）からなる群から選ばれる１種以上の親水性有機化合物（Ｂ）を含有するアルカリ洗浄剤を用いて洗浄されてなる電子部品；並びに、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬及び浸漬揺動からなる群から選ばれる１種以上の方法で洗浄することを特徴とする該電子部品の洗浄方法；である。

本発明の電子部品は、アルミニウムが腐食されずに洗浄されて得られた電子部品であり、例えば液晶パネル用ガラス基板のアルミ配線にダメージを与えずに半焼成垂直配向ポリイミド膜を短時間に剥離・洗浄して得られる電子部品である。
本発明の電子部品は、配向膜剥離洗浄工程（ガラス基板再生工程）を経て得られた再生ガラス基板、アルミ配線を有するガラス基板、およびカラーフィルター部材であり、いずれもアルミの腐食がなく、かつ異物が少ない。

本発明の電子部品は、特にアルミニウムが部品の一部または全部に使用されている電子部品であり、例えば液晶パネル用ガラス基板（配向膜パターン化の前の洗浄、不具合配向膜の剥離洗浄）、プリント基盤、プラズマディスプレイガラス基板、サーマルヘッドなどの電子部品が挙げられる。本発明の電子部品はこれらのうち、とくに、液晶パネル用ガラス基板（配向膜を薄膜化する前のガラス基板、または配向膜が不具合となったガラス基板）であることが好ましい。

本発明の電子部品の洗浄に使用されるアルカリ洗浄剤におけるアルカリ成分（Ａ）としては、（Ａ１）金属水酸化物［アルカリ金属水酸化物（水酸化リチウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムなど）、アルカリ土類金属水酸化物（水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムおよび水酸化バリウムなど）］、（Ａ２）炭酸塩［アルカリ金属炭酸塩（炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウムなど）、アルカリ土類金属炭酸塩（炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムおよび炭酸バリウムなど）］、（Ａ３）リン酸塩［アルカリ金属リン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、トリポリリン酸ナトリウムおよびトリポリリン酸カリウムなど）、アルカリ土類金属リン酸塩（ピロリン酸カルシウム、ピロリン酸マグネシウム、ピロリン酸バリウム、トリポリリン酸カルシウム、トリポリリン酸マグネシウムおよびトリポリリン酸バリウムなど）］、（Ａ４）ケイ酸塩［アルカリ金属ケイ酸塩（ケイ酸ナトリウムおよびケイ酸カリウムなど）、アルカリ土類金属ケイ酸塩（ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウムおよびケイ酸バリウムなど）］、（Ａ５）アンモニア、（Ａ６）ヒドロキシルアミン、（Ａ７）下記一般式（１）で表される有機アルカリおよびこれらの混合物などが挙げられる。
（Ａ１）〜（Ａ７）のうち、洗浄性の観点から好ましいのは（Ａ７）である。

式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ炭素数１〜２４、好ましくは１〜１４の炭化水素基または−（Ｒ⁵Ｏ）_p−Ｈで表される基であり、Ｒ⁵は炭素数２〜４のアルキレン基、ｐは１〜６の整数を表す。
炭素数１〜２４の炭化水素基としては、直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和炭化水素基、脂環式炭化水素基および芳香環含有炭化水素基などが挙げられる。
直鎖もしくは分岐の飽和炭化水素基としては、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−およびｔ−ブチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基並びにオクタデシル基など）；直鎖もしくは分岐の不飽和炭化水素基としては、アルケニル基（ビニル基、プロペニル基、アリル基およびブテニル基など）；脂環式炭化水素基としては、シクロアルキル基（シクロヘキシル基など）；芳香環含有炭化水素基としては、アリール基（フェニル基およびナフチル基など）、アラルキル基（ベンジル基およびフェネチル基など）、アルキルアリール基（メチルフェニル基、エチルフェニル基、ノニルフェニル基、メチルナフチル基およびエチルナフチル基など）等が挙げられる。
これらの炭化水素基の中では、洗浄性の観点から好ましいのはアルキル基およびアルケニル基である。
Ｒ¹の炭素数が２４以下であれば洗浄性（または剥離性、以下同じ）が優れている。

−（Ｒ⁷Ｏ）_p−Ｈにおいて、Ｒ⁵としては、例えばエチレン基、プロピレン基およびブチレン基などの炭素数２〜４のアルキレン基が挙げられる。
Ｒ⁵の炭素数が４を以下であれば洗浄性が良好である。ｐは１〜６（好ましくは１〜３）の整数であり、ｐが６以下であれば洗浄性が良好である。

一般式（１）におけるカチオンの例としては、下記（１）〜（４）のテトラハイドロカルビルアンモニウムカチオン、下記（５）のオキシアルキレン基を有するアンモニウムカチオンおよびこれらの混合物が挙げられる。（Ａ）は、これらのカチオンとハイドロオキサイドアニオンとの塩である。
（１）炭素数１〜６のアルキル基を４個含むカチオン
［例えば、テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ（ｎ−またはｉ−）プロピルアンモニウム、テトラ（ｎ−、ｉ−またはｔ−）ブチルアンモニウム、テトラペンチルアンモニウム、テトラヘキシルアンモニウム、トリメチルエチルアンモニウムおよびテトラエチルアンモニウムなど］；
（２）炭素数１〜６のアルキル基を３個と炭素数７〜２４のハイドロカルビル基を１個含むカチオン
［例えば、トリメチルへプチルアンモニウム、トリメチルオクチルアンモニウム、トリメチルデシルアンモニウム、トリメチルドデシルアンモニウム、トリメチルステアリルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウム、トリエチルへキシルアンモニウム、トリエチルオクチルアンモニウム、トリエチルステアリルアンモニウム、トリエチルベンジルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリブチルオクチルアンモニウムおよびトリへキシルステアリルアンモニウムなど］；
（３）炭素数１〜６のアルキル基を２個と炭素数７〜２４のハイドロカルビル基を２個含むカチオン
［例えば、ジメチルジオクチルアンモニウム、ジエチルジオクチルアンモニウムおよびジメチルジベンジルアンモニウムなど］、
（４）炭素数１〜６のアルキル基を１個と炭素数７〜２４のハイドロカルビル基を３個含むカチオン
［例えば、メチルトリオクチルアンモニウム、エチルトリオクチルアンモニウムおよびメチルオクチルジベンジルアンモニウムなど］。

（５）オキシアルキレン基を有するアンモニウムカチオン
（ｉ）オキシアルキレン基を１個有するカチオン［例えば、ヒドロキシエチルトリメチルアミンカチオン、ヒドロキシエチルトリエチルアミンカチオン、ヒドロキシプロピルトリメチルアミンカチオン、ヒドロキシプロピルトリエチルアミンカチオン、ヒドロキシエチルジメチルエチルアミンカチオンおよびヒドロキシエチルジメチルオクチルアミンカチオンなど］
（ｉｉ）オキシアルキレン基を２個有するカチオン［例えば、ジヒドロキシエチルジメチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルジエチルアミンカチオン、ジヒドロキシプロピルジメチルアミンカチオン、ジヒドロキシプロピルジエチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルメチルエチルアミンカチオン、ジヒドロキシエチルメチルオクチルアミンカチオンおよびビス（２−ヒドロキシエトキシエチル）オクチルアミンカチオンなど］
（ｉｉｉ）オキシアルキレン基を３個有するカチオン［例えば、トリヒドロキシエチルメチルアミンカチオン、トリヒドロキシエチルエチルアミンカチオン、トリヒドロキシエチルブチルアミンカチオン、トリヒドロキシプロピルメチルアミンカチオン、トリヒドロキシプロピルエチルアミンカチオンおよびトリヒドロキシエチルオクチルアミンカチオンなど］

一般式（１）におけるカチオンのうち、洗浄性とリンス性の観点から、好ましいのはテトラハイドロカルビルアンモニウムカチオンであり、さらに好ましいのは、上記（１）および（２）、特に好ましいのは（１）、最も好ましいのはテトラメチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオンおよびこれらの併用である。

本発明における親水性有機化合物（Ｂ）は、親水性であり、２０℃における水に対する溶解度（ｇ／１００ｇＨ₂Ｏ）が３以上、さらに好ましくは１０以上のものであり、下記の（Ｂ１）〜（Ｂ４）の化合物が挙げられる。

（Ｂ１）数平均分子量（以下、Ｍｎと略記：測定はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による）３２〜５００の１価アルコール：
（Ｂ１１）炭素数１〜１２の脂肪族アルコールおよび
（Ｂ１２）該脂肪族アルコールに炭素数２〜４のアルキレンオキサイド（以下、ＡＯと略記）を付加した化合物およびこれらの混合物が挙げられる。
洗浄性と耐腐食性の観点から、好ましいのは（Ｂ１２）であり、特に、下記一般式（２）で表されるグリコールモノアルキルエーテルである。

式中、Ｒ⁶は炭素数１〜８のアルキル基、Ａ¹は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜４の整数を表す。
（Ｂ１１）としてはメタノール、エタノール、イソプロパノールおよびブタノールなどが挙げられ、（Ｂ１２）としてはエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびジエチレングリコールモノブチルエーテルなどが挙げられる。
（Ｂ１２）のうち洗浄性と耐腐蝕性の観点から好ましいのは、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルおよびトリエチレングリコールモノメチルエーテルであり、さらに好ましいのはジエチレングリコールモノメチルエーテルである。

（Ｂ２）Ｍｎ６２〜２５０の２価のアルコール：
アルカンジオール（炭素数２〜８のアルカンジオール：エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオールおよびネオペンチルグリコールなど）、脂環式ジオール（炭素数６〜１５のジオール：シクロヘキサン−１，２−、１，３−および１，４−ジオール、シクロペンタン−１，２−および１，３−ジオール並びに水素添加ビスフェノールＡなど）、、分子中にエーテル基を１個以上有するジオール（ジ〜ペンタエチレングリコールおよびジ〜テトラプロピレングリコールなど）並びにこれらの混合物が挙げられる。（Ｂ２）のＭｎは好ましくは６２以上１５０未満である。
これらのうち洗浄性と耐腐蝕性の観点から好ましいのは、プロピレングリゴールおよびジプロピレングリコールであり、さらに好ましいのはプロピレングリコールである。

（Ｂ３）Ｍｎ９２〜４００の３〜９価アルコール：
３〜９価の脂肪族多価アルコール（グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジグリセリン、トリグリセリン、テトラグリセリン、ペンタグリセリン、キシリトール、ソルビトールおよびシュークロースなど）、並びにこれらのＡＯ付加物（付加モル数１〜７モル）などが挙げられる。
これらのうちで洗浄性とリンス性の観点から好ましいのは、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリンおよびソルビトール、さらに好ましいのはグリセリン、ジグリセリンおよびソルビトールである。

（Ｂ４）は、（Ｂ１）、（Ｂ２）もしくは（Ｂ３）の全ての水酸基を除いた残基と炭素数１〜８、好ましくは１もしくは２のアルキル基とから構成されるアルキルエーテルである。
（Ｂ４）としては、例えば、（Ｂ２）のアルキルエーテルであって、下記一般式（３）で表されるグリコールエーテル（Ｂ４１）が挙げられる。

式中、Ｒ⁷およびＲ⁸は炭素数１〜８の炭化水素基、Ａ²は炭素数２〜４のアルキレン基、ｍは１〜４の整数を表す。
具体的には、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテルおよびトリエチレングリコールジエチルエーテルなどが挙げられる。
これらのうち洗浄性と耐腐蝕性の観点から好ましいのは、ジエチレングリコールジメチルエーテルおよびジエチレングリコールジエチルエーテルであり、さらに好ましいのはジエチレングリコールジエチルエーテルである。

（Ｂ）のうち洗浄性と耐腐蝕性の観点から好ましいのは、（Ｂ１）と（Ｂ３）の併用、（Ｂ２）と（Ｂ３）の併用、および（Ｂ１）と（Ｂ３）と（Ｂ４）の併用であり、特に（Ｂ１）と（Ｂ３）の併用が好ましい。
（Ｂ１）と（Ｂ３）の併用の場合の重量比（Ｂ１）／（Ｂ３）は、好ましくは５０〜９８／２〜５０、さらに好ましくは８０〜９８／２〜２０である。
（Ｂ２）と（Ｂ３）の併用の場合の重量比（Ｂ２）／（Ｂ３）は、好ましくは５０〜９８／２〜５０、さらに好ましくは８０〜９８／２〜２０である。
（Ｂ１）と（Ｂ３）と（Ｂ４）の併用の場合の重量比（Ｂ１）／（Ｂ３）／（Ｂ４）は、好ましくは５０〜９６／１〜５０／２〜３０、さらに好ましくは６０〜９５／２〜５０／２〜３０である。
（Ｂ）における、（Ｂ１）、（Ｂ２）および（Ｂ４）の合計重量と（Ｂ３）との重量比
［（Ｂ１）＋（Ｂ２）＋（Ｂ４）］／（Ｂ３）は、洗浄性と耐腐蝕性の観点から好ましくは７０〜９９／１〜３０、さらに好ましくは８０〜９８／２〜２０である。

本発明において、洗浄剤における（Ａ）および（Ｂ）の含有量は、洗浄性と耐腐蝕性の観点から、（Ａ）および（Ｂ）の合計重量に基づき、（Ａ）は好ましくは０．１〜２５％（以下において％は重量％を表す）、さらに好ましくは０．２〜１０％であり、（Ｂ）は好ましくは７５〜９９．９％、さらに好ましくは９０〜９９．８％である。

洗浄剤には、（Ａ）および（Ｂ）以外に、必要によりさらに他の親水性有機溶媒（Ｃ）、界面活性剤（Ｄ）、その他の添加剤（Ｆ）および／または水を含有してもよい。

他の親水性有機溶媒（Ｃ）としては、種々の溶媒が使用でき、例えば窒素原子含有親水性溶媒［ピロリドン系溶媒（Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、２−ピロリドンなど）、およびホルムアミド系溶剤（Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなど）など］；ラクトン系親水性溶媒［炭素数３〜１２のラクトン（プロピオラクトン、ブチロラクトンなど）など］；ケトン系親水性溶媒［メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコールなど］；環状エーテル系親水性溶媒［テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランなど］；エステル系親水性溶媒［酢酸エチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、アセト酢酸エチルなど］などが挙げられる。
これらのうちで好ましいのは、窒素原子含有親水性溶媒およびラクトン系親水性溶媒であり、特に好ましいのはＮ−メチルピロリドンおよびブチロラクトンである。
（Ｃ）の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて通常５０％以下、好ましくは１０〜３０％であり、（Ｂ）の重量に基づいて通常６０％以下、好ましくは１０〜４０％である。

界面活性剤（Ｄ）としては、非イオン界面活性剤（Ｄ１）、アニオン界面活性剤（Ｄ２）、カチオン界面活性剤（Ｄ３）、両性界面活性剤（Ｄ４）およびこれらの混合物が挙げられる。但し、（Ｄ１）には、上記の（Ｂ）の範囲の化合物（水に対する溶解度が３以上のもの）は含まれない。また、（Ｄ３）には一般式（１）で示される有機アルカリは含まれない。

（Ｄ１）としては、例えば、ＡＯ付加型非イオン界面活性剤［高級アルコール（炭素数８〜１８）、アルキルフェノール（炭素数１０〜２４）、高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）または高級アルキルアミン（炭素数８〜２４）等に直接ＡＯ［炭素数２〜４、例えばエチレンオキシド（以下ＥＯと略記）、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、以下同じ］を付加させたもの（Ｍｎ１５８〜２００，０００）；ポリオキシアルキレングリコール（Ｍｎ１５０〜６，０００）に高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）などを反応させたもの；ジオール［前記（Ｂ２）として例示したもの］または３〜９価の多価アルコール［前記（Ｂ３）として例示したもの］などの水酸基含有化合物に高級脂肪酸（炭素数１２〜２４）を反応させて得られたエステル化物にＡＯを付加させたもの（Ｍｎ２５０〜３０，０００）、高級脂肪酸（炭素数８〜２４）アミドにＡＯを付加させたもの（Ｍｎ２００〜３０，０００）、多価アルコール（前記のもの）アルキル（炭素数８〜６０）エーテルにＡＯを付加させたもの（Ｍｎ１２０〜３０，０００）など］、および多価アルコール（炭素数３〜２０）型非イオン界面活性剤［多価アルコール脂肪酸（炭素数８〜６０）エステル、多価アルコールアルキル（炭素数８〜６０）エーテル、脂肪酸（炭素数８〜６０）アルカノールアミドなど］などが挙げられる。
（Ｄ２）としては、例えば、カルボン酸（炭素数８〜２２の飽和または不飽和脂肪酸）またはその塩、カルボキシメチル化物の塩［炭素数８〜１６の脂肪族アルコールおよび／またはそのＥＯ（１〜１０モル）付加物などのカルボキシメチル化物の塩など］、硫酸エステル塩［高級アルコール硫酸エステル塩（炭素数８〜１８の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩など）など］、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩［炭素数８〜１８の脂肪族アルコールのＥＯ（１〜１０モル）付加物の硫酸エステル塩］、硫酸化油（天然の不飽和油脂または不飽和のロウをそのまま硫酸化して中和した塩）、硫酸化脂肪酸エステル（不飽和脂肪酸の低級アルコールエステルを硫酸化して中和した塩）、硫酸化オレフィン（炭素数１２〜１８のオレフィンを硫酸化して中和した塩）、スルホン酸塩［アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジエステル型、α−オレフィン（炭素数１２〜１８）スルホン酸塩、イゲポンＴ型など］およびリン酸エステル塩［高級アルコール（炭素数８〜６０）リン酸エステル塩、高級アルコール（炭素数８〜６０）ＥＯ付加物リン酸エステル塩、アルキル（炭素数４〜６０）フェノールＥＯ付加物リン酸エステル塩など］が挙げられる。
上記の塩としては、アルカリ金属（ナトリウム、カリウムなど）塩、アルカリ土類金属（カルシウム、マグネシウムなど）塩、アンモニウム塩、アルキルアミン（炭素数１〜２０）塩およびアルカノールアミン（炭素数２〜１２、例えばモノー、ジ−およびトリエタノールアミン）塩などが挙げられる。但し、アルキルアミン塩の場合であって、アルキルアミンが（Ｂ）のトリアルキルアミンである場合は、該アルキルアミンは（Ｂ）の含有量に含まれる。

（Ｄ３）としては、第４級アンモニウムのハロゲン塩型［テトラアルキル（炭素数４〜１００）アンモニウムクロライド、例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド；トリアルキル（炭素数３〜８０）ベンジルアンモニウムクロライド、例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド（塩化ベンザルコニウム）；アルキル（炭素数２〜６０）ピリジニウム塩、例えばセチルピリジニウムクロライド；ポリオキシアルキレン（炭素数２〜４）トリアルキルアンモニウムクロライド、例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド；サパミン型第４級アンモニウム塩、例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート］、アミン塩型［脂肪族高級アミン（炭素数１２〜６０、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミン、ロジンアミンなど）の無機酸（塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸など）塩または有機酸（炭素数２〜２２、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸）塩；脂肪族アミン（炭素数１〜３０）のＥＯ付加物などの無機酸（前記のもの）塩または有機酸（前記のもの）塩；３級アミン類（トリエタノールアミンモノステアレート、ステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミンなど）の無機酸（前記のもの）塩または有機酸（前記のもの）塩など］などが挙げられる。

（Ｄ４）としては、アミノ酸型両性界面活性剤［高級アルキルアミン（炭素数１２〜１８）のプロピオン酸ナトリウムなど］、ベタイン型両性界面活性剤［アルキル（炭素数１２〜１８）ジメチルベタイン、アルキル（炭素数１２〜１８）ジヒドロキシエチルベタイン、ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタインなど］、硫酸エステル塩型両性界面活性剤［高級アルキル（炭素数８〜１８）アミンの硫酸エステルナトリウム塩、ヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステルナトリウム塩など］、スルホン酸塩型両性界面活性剤（ペンタデシルスルフォタウリン、イミダゾリンスルホン酸など）、リン酸エステル塩型両性界面活性剤［グリセリン高級脂肪酸（炭素数８〜２２）エステル化物のリン酸エステルアミン塩］などが挙げられる。

（Ｄ１）〜（Ｄ４）の中では、洗浄性と耐腐蝕性の観点から好ましいのは（Ｄ１）および（Ｄ２）、さらに好ましいのは（Ｄ１）である。
（Ｄ）の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、通常３０％以下、好ましくは１〜２０％である。

その他の添加剤（Ｅ）としては、防錆剤［アミン（炭素数６〜３０、例えばシクロヘキシルアミン、ラウリルアミン、ステアリルアミンなど）のＥＯ（２〜１０モル）付加物、
クロム酸塩、亜硝酸塩、アミン（炭素数６〜３０）の高級脂肪酸（炭素数８〜３０）塩、ジカルボン酸（炭素数１２〜２４）のアルカリ金属（ナトリウム、カリウムなど）塩、ジカルボン酸（炭素数１２〜２４）のアルカノールアミド（例えば、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミド）、ジカルボン酸（炭素数１２〜２４）のアルカノールアミドアルカリ金属塩（例えば、ドデセニルコハク酸ジエタノールアミドナトリウム塩）など］、
酸化防止剤［フェノール化合物（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールなど）、含硫化合物（ジラウリルチオジプロピオネートなど）、（Ｂ）以外のアミン化合物（オクチル化ジフェニルアミンなど）、リン化合物（トリフェニルホスファイトなど）など］、金属イオン封鎖剤［エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムなど］、及びアルキル基の炭素数１〜６のトリアルキルアミン［トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルエチルアミンおよびジメチルブチルアミンなど］が挙げられる。
（Ｅ）の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、防錆剤は通常２０％以下、好ましくは０．５〜１０％、酸化防止剤は通常５％以下、好ましくは０．１〜１％、金属イオン封鎖剤は通常２０％以下、好ましくは０．５〜１０％、アルキル基の炭素数１〜６のトリアルキルアミンは通常１％以下、好ましくは０．０１〜０．８％である。

洗浄剤における水の含有量は、洗浄剤の全重量に基づいて、洗浄性、リンス性および耐腐蝕性の観点から、好ましくは３９％以下、さらに好ましくは１〜３８％、特に好ましくは２〜３０％である。
洗浄剤の重量に基づく、（Ｃ）、（Ｄ）および（Ｅ）の合計の含有量は、通常４０％以下、好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２０％以下である。

本発明の電子部品の洗浄に使用される洗浄剤は、通常、固体または液状であり、使いやすさの観点から好ましいのは液状であり、液状の場合は透明または白濁液状のいずれでもよい。洗浄剤が液状の場合の２５℃における粘度は、通常２〜３００ｍｍ²／ｓ、洗浄性およびリンス性の観点から、好ましくは３〜１００ｍｍ²／ｓ、更に好ましくは４〜５０ｍｍ²／ｓである。粘度はオストワルドまたはウベローデなどの粘度計にて測定できる。
洗浄剤のｐＨ（１０％水溶液）は通常１０〜１４、洗浄性および耐腐蝕性の観点から、好ましくは１０．５〜１３．５である。

本発明の電子部品としては、アルミが部品の一部または全部に使用されている電子部品であれば特に限定されない。例えば液晶パネル用ガラス基板（配向膜パターン化の前の洗浄をされたもの、又は不具合配向膜の剥離洗浄をされたもの）、プリント基盤、プラズマディスプレイガラス基板、サーマルヘッドなどの電子部品等が挙げられる。
これらの電子部品のうち、とくに好ましいのは液晶パネル用ガラス基板（配向膜を薄膜化する前のガラス基板の洗浄工程を経たもの、配向膜が不具合となったガラス基板の洗浄工程を経たもの）である。
本発明の電子部品は、汚れ、即ち、油分、指紋、樹脂、有機パーティクルなどの有機物、無機パーティクル（例えば、ガラス粉、セラミック粉、金属粉など）などの無機物の残存が少ない。
本発明の電子部品の洗浄方法は、超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬、浸漬揺動およびこれらの組み合わせによる洗浄方法が適用できる。
洗浄時の洗浄剤は、必要によりさらに水で稀釈されて使用されてもよいが、好ましいのは上記の水の含有量の範囲内である。

洗浄の条件は、例えば液晶パネル用ガラス基板の場合、洗浄温度は、通常１０〜７０℃、好ましくは１５〜６０℃程度である。洗浄時間は通常０．２〜１２０分、好ましくは０．５〜３０分である。水によるリンス温度は、通常５〜９０℃、好ましくは１０〜７０℃であり、リンス方法としては上記洗浄方法と同じ方法が適用できる。リンス後通常５０〜１５０℃、好ましくは６０〜１００℃で通常１〜１２０分間、好ましくは３〜６０分間加熱乾燥することにより清浄な液晶パネル用ガラス基板が得られ、再生使用することができる。

＜実施例＞
以下、製造例及び実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部は重量部を示す。

製造例１〜８、比較製造例１〜３
表１に記載の部数（純分表示）の各成分を、１Ｌのビーカー中で室温で十分に撹拌・混合して製造例および比較製造例の洗浄剤を作製した。
表１中の略号は下記の通りである。
Ａ−１：テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド
Ａ−２：テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド
Ａ−３：水酸化ナトリウム
Ｂ１−１：ジエチレングリコールモノメチルエーテル
Ｂ１−２：トリエチレングリコールモノメチルエーテル
Ｂ２−１：プロピレングリコール
Ｂ３−１：グリセリン
Ｂ３−２：ソルビトール
Ｂ４−１：ジエチレングリコールジエチルエーテル

製造例および比較製造例で得られた洗浄剤を使用してガラス基板の洗浄を以下の条件で行った。
得られたガラス基板の異物の有無と腐食性を下記の評価試験方法で評価した。評価結果を表１に示す。

洗浄条件；
予めＩＴＯ膜（インジウム・スズ酸化膜）を形成されたガラス基板（３５０mｍ×３００ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍ）の上にポリイミド樹脂を塗布し、８０℃で焼き付ける作業を３回繰り返し、半焼性の垂直配向ポリイミド膜（膜厚５μｍ）が密着したガラス基板を作成した。ガラス基板を洗浄剤（２５℃）に所定時間浸漬後、イオン交換水で１分間シャワーリンスし、さらに裏側の面についても同様にリンスした。次に、ガラス基板を７０℃の循風乾燥機中で１０分間乾燥した。

１．異物の有無
顕微鏡で観察して配向膜の残存程度と異物（樹脂およびパーティクルなど）の付着の有無を評価した。
＜評価基準＞
○：ガラス基板面に配向膜残りなし。異物が全くなし。
△：ガラス基板面に配向膜が少し残っている。
×：ガラス基板面に配向膜が大部分残っている。

２．腐蝕性
ガラス基板上のアルミ配線の腐食の有無を顕微鏡にて観察し、腐食性を評価した。
＜評価基準＞
○：アルミ配線の腐食認められず。
△：アルミ配線の腐食が一部認められる。
×：アルミ配線が大部分腐食している。

表１に示されるように、本発明の電子部品（実施例１〜８）は、配向膜の残存がなく、樹脂およびパーティクル等の異物の付着がなく、アルミ配線の腐食がない。

本発明の電子部品は、アルミニウムの腐食が少なく、かつ、油分、指紋、樹脂およびパーティクルなどの異物が少ないので、電子部品、特に液晶パネル用ガラス基板などの電子部品として好適である。

Claims (6)

1. アルカリ成分（Ａ）、並びに数平均分子量３２〜５００の１価アルコール（Ｂ１）、数平均分子量６２〜２５０の２価アルコール（Ｂ２）、数平均分子量９２〜４００の３〜９価アルコール（Ｂ３）および該（Ｂ１）、（Ｂ２）もしくは（Ｂ３）の全ての水酸基を除いた残基と炭素数１〜８のアルキル基とから構成されるアルキルエーテル（Ｂ４）からなる群から選ばれる１種以上の親水性有機化合物（Ｂ）を含有するアルカリ洗浄剤を用いて洗浄されてなる電子部品。
2. （Ａ）が下記一般式（１）で表される有機アルカリ成分である請求項１記載の電子部品。
   〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ炭素数１〜２４の炭化水素基または−（Ｒ⁵Ｏ）_p−Ｈで表される基であり、Ｒ⁵は炭素数２〜４のアルキレン基、ｐは１〜６の整数を表す。〕
3. （Ｂ１）が、下記一般式（２）で表されるグリコールモノアルキルエーテルであり、 （Ｂ３）が、グリセリン、ジグリセリン、トリグリセリンおよびソルビトールからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１又は２記載の電子部品。
   〔式中、Ｒ⁶は炭素数１〜８のアルキル基、Ａ¹は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜４の整数を表す。〕
4. （Ｂ）が窒素原子を含有しない化合物であることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の電子部品。
5. 電子部品が、少なくとも一部にアルミニウムを使用した液晶パネル用ガラス基板である請求項１〜４のいずれか記載の電子部品。
6. 超音波洗浄、シャワー洗浄、スプレー洗浄、浸漬及び浸漬揺動からなる群から選ばれる１種以上の方法で洗浄することを特徴とする請求項１〜５のいずれか記載の電子部品の洗浄方法。