TWI457438B - Washing liquid composition and cleaning method - Google Patents
Washing liquid composition and cleaning method Download PDFInfo
- Publication number
- TWI457438B TWI457438B TW099130131A TW99130131A TWI457438B TW I457438 B TWI457438 B TW I457438B TW 099130131 A TW099130131 A TW 099130131A TW 99130131 A TW99130131 A TW 99130131A TW I457438 B TWI457438 B TW I457438B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- cation
- acid
- cleaning
- parts
- ether
- Prior art date
Links
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
Description
本發明係有關一種用以除去附著於電子零件上之油脂、樹脂或微粒的洗淨液組成物,特別是提供一種用以剝離液晶顯示器用玻璃基板中,經後加熱處理後之配向膜之洗淨液組成物及使用該組成物的洗淨方法。
一直以來,相較於中性洗淨液,鹼性洗淨液對於油脂、樹脂及微粒等的去除能力較為顯著,所以被廣泛地使用在電子零件、金屬零件及陶瓷零件等的清洗製程中。但是,因為鋁等非鐵金屬容易被鹼性洗淨液所腐蝕,一般在具有鋁之電子零件的洗淨方法中,較不適合使用鹼性洗淨液。以電子零件為例,特別是液晶顯示器中的聚醯亞胺配向膜,以往是以水平配向型為主,但隨著對於廣視角之液晶顯示器的需求越來越強,垂直配向型的聚醯亞胺配向膜有增加的趨勢。如果是水平配向型的聚醯亞胺配向膜玻璃基板,在後加熱處理(post-bake,後加熱處理溫度:180~280℃)前的半燒成狀態,此時的不合格品可以N-甲基吡咯烷酮(N-methylpyrrolidone)等溶劑剝離其配向膜,且不會腐蝕鋁薄膜(電子線路)。但是在垂直配向型的聚醯亞胺配向膜時,即使是在半燒成狀態,仍無法使用N-甲基吡咯烷酮等溶劑加以剝離,因此日本特開平6-306661號公開特許公報揭露了使用鹼性洗淨液加以剝離的手段。然而,因為玻璃基板的鋁薄膜會被鹼性洗淨液腐蝕,所以將鋁薄膜的部分先使用蠟等物質進行保護再進行洗淨,接著再以烴類等溶劑去除蠟使得基板及鋁薄膜復原,或是將配向膜及鋁薄膜同時完全剝離及溶解,僅使基板復原。
此外,在半導體元件電路等的製程中,為了去除形成電子線路時所產生的光阻殘留物,一直以來使用胺系剝離劑來進行。但是,胺系剝離劑具有腐蝕基板上的鋁及鎢等的金屬電路及金屬薄膜的問題。因此日本特開平4-48633號公開特許公報中揭露使用含有第四級銨氫氧化物以及醣類的水溶液解決腐蝕的問題,但是在光阻的剝離性及抑制金屬電路的腐蝕這兩方面,並無法同時完全滿足。
另外,日本特開2005-336470號公開特許公報揭露使用四烷基銨氫氧化物搭配特定醇類溶劑組成之洗淨液,對於抑制金屬腐蝕擁有良好的能力。不過該洗淨液對於後加熱處理後的配向膜,仍無法完全地將其剝離洗淨。
本發明第一目的在於提供一種剝離性佳的洗淨液組成物,特別是提供一種金屬腐蝕性低、剝離性佳、用以剝離液晶顯示器用玻璃基板中,經後加熱處理後之配向膜之洗淨液組成物。
本發明第二目的於在提供一種金屬腐蝕性低、剝離性佳之電子零件之洗淨方法。
為滿足前述預期目的,本發明一種洗淨液組成物,包含:鹼性化合物(A)、一級醇類有機溶劑(B)以及具醚基之二級及/或三級醇類的有機溶劑(C)。
以下逐一對本發明各組成做詳細的說明:
本發明的鹼性化合物(A)係選自於由金屬氫氧化物、碳酸鹽、磷酸鹽、矽酸鹽、氨水、聯胺、氫氧化銨及下記一般式(1)所表示之有機鹼所組成之群組。
式中,R1
為碳數1~24的烴基,R2
、R3
與R4
為氫原子、碳數1~24的烴基或-(R5
O)p
-H所表示的官能基,其中,R5
為碳數2~4的亞烷基、p為1~6的整數。
(a)所述金屬氫氧化物之具體例如:氫氧化鋰、氫氧化鈉及氫氧化鉀等鹼金屬氫氧化物;氫氧化鈣、氫氧化鎂及氫氧化鋇等鹼土金屬氫氧化物。
(b)所述碳酸鹽之具體例如:碳酸鈉及碳酸鉀等鹼金屬碳酸鹽類;碳酸鈣、碳酸鎂及碳酸鋇等鹼土金屬碳酸鹽類。
(c)所述磷酸鹽之具體例如:焦磷酸鈉、焦磷酸鉀、三聚磷酸鈉及三聚磷酸鉀等鹼金屬磷酸鹽類;焦磷酸鈣、焦磷酸鎂、焦磷酸鋇、三聚磷酸鈣、三聚磷酸鎂及三聚磷酸鋇等鹼土金屬磷酸鹽類。
(d)所述一般式(1)所示的有機鹼的具體例,包含如下列(i)~(v)所列舉之陽離子與氫氧化物陰離子所形成之鹽類及該鹽類的混合物。
(i)含有四個烴基的四級銨陽離子
含有四個碳數1~6的烷基之四烴基銨之具體例如:四甲基銨、四乙基銨、四正丙基銨、四異丙基銨、四正丁基銨、四異丁基銨、四第三丁基銨、四戊基銨及四己基銨等。
含有三個碳數1~6的烷基之四烴基銨之具體例如:三甲基庚基銨、三甲基辛基銨、三甲基癸基銨、三甲基十二烷基銨、三甲基十八烷基(stearyl)銨、三甲基苯甲基銨、三乙基己基銨、三乙基辛基銨、三乙基十八烷基銨、三乙基苯甲基銨、三丁基苯甲基銨、三丁基辛基銨及三己基十八烷基銨等。
含有二個碳數1~6的烷基之四烴基銨之具體例如:二甲基二辛基銨、二乙基二辛基銨及二甲基二苯甲基銨等。
含有一個碳數1~6的烷基之四烴基銨之具體例如:甲基三辛基銨、乙基三辛基銨及甲基辛基二苯甲基銨等。
(ii)含有三個烴基的三級銨陽離子
含有三個碳數1~6的烷基之三烴基銨陽離子之具體例如:三甲基銨陽離子、三乙基銨陽離子及三丁基銨陽離子等。
含有二個碳數1~6的烷基之三烴基銨陽離子之具體例如:二甲基辛基銨陽離子、二甲基十八烷基銨陽離子、二乙基辛基銨陽離子、二丁基辛基銨陽離子及二甲基苯甲基銨陽離子等。
含有一個碳數1~6的烷基之三烴基銨陽離子之具體例如:甲基二辛基銨陽離子、乙基二辛基銨陽離子及甲基辛基苯甲基銨陽離子等。
(iii)含有二個烴基的二級銨陽離子
含有二個碳數1~6的烷基之二烴基銨陽離子之具體例如:二甲基銨陽離子、二乙基銨陽離子、二丁基銨陽離子及二己基銨陽離子等。
含有一個碳數1~6的烷基之二烴基銨陽離子之具體例如:甲基辛基銨陽離子、乙基辛基銨陽離子、丁基辛基銨陽離子、己基辛基銨陽離子、甲基十八烷基銨陽離子、甲基苯甲基銨陽離子及乙基苯甲基銨陽離子等。
(iv)含有一個烴基的一級銨陽離子
單烴基(碳數1~6)銨陽離子之具體例如:甲基銨陽離子、乙基銨陽離子、丁基銨陽離子及己基銨陽離子等。
(v)含有氧化烯基的陽離子
含有一個氧化烯基的陽離子之具體例如:羥乙基三甲基銨陽離子、羥乙基三乙基銨陽離子、羥丙基三甲基銨陽離子、羥丙基三乙基銨陽離子、羥乙基二甲基乙基銨陽離子及羥乙基二甲基辛基銨陽離子等。
含有二個氧化烯基的陽離子之具體例如:二羥乙基二甲基銨陽離子、二羥乙基二乙基銨陽離子、二羥丙基二甲基銨陽離子、二羥丙基二乙基胺陽離子、二羥乙基甲基乙基銨陽離子、二羥乙基甲基辛基銨陽離子及雙(2-羥乙氧乙基)辛基銨陽離子等。
含有三個氧化烯基的陽離子之具體例如:三羥乙基甲基銨陽離子、三羥乙基乙基銨陽離子、三羥乙基丁基銨陽離子、三羥丙基甲基銨陽離子、三羥丙基乙基銨陽離子及三羥乙基辛基銨陽離子等。
在本發明的鹼性化合物(A)中,以洗淨性及清洗的觀點來看,較佳的是鹼金屬氫氧化物、聯胺及上述含有(i)及(ii)所述陽離子之氫氧化物,更佳的是聯胺與含(i)陽離子之氫氧化物,特別是含有四個碳數1~6的烷基之四烴基銨氫氧化物。上述的化合物,可以單獨一種或混合數種使用。
基於洗淨液組成物總重量100重量份,本發明之鹼性化合物(A)使用量一般為5~50重量份,較佳為10~45重量份,更佳為15~40重量份。
本發明之一級醇類有機溶劑(B)係為一級單價醇類、一級多價醇類或醚醇類等。
一級單價醇類之具體例如:甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、2-甲基1-丙醇、正戊醇、2-甲基1-丁醇、3-甲基1-丁醇、2,2-二甲基1-丙醇等一級單價醇類。
一級多價醇類之具體例如:乙二醇(ethylene gly-col)、1,3-丙二醇(1,3-propylene glycol)、1,4-丁二醇(1,4-butanediol)、1,6-己二醇(1,6-hexanediol)、新戊二醇(neopentyl glycol)、三羥甲基乙烷(trimethylol ethane)、三羥甲基丙烷(trimethylol propane)及異戊四醇(pentaerythritol)等一級多價醇類。
醚醇類之具體例如:乙二醇甲基醚(ethylene glycol monomethyl ether)、乙二醇乙基醚(ethylene glycol monoethyl ether)、一縮二乙二醇(diethylene glycol)、一縮二乙二醇甲基醚(diethylene glycol monomethyl ether)、一縮二乙二醇乙基醚(diethylene glycol mo-noethyl ether)、一縮二乙二醇丁基醚(diethylene glycol monobutyl ether)、一縮二乙二醇正己基醚(diethylene glycol mono n-hexyl ether)、一縮二乙二醇2-乙基己基醚(diethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether)、二縮三乙二醇(triethylene glycol)、二縮三乙二醇甲基醚(triethylene glycol monomethyl ether)、三縮四乙二醇(tetraethylene glycol)、三縮四乙二醇甲基醚(tetraethylene glycol monomethyl ether)、聚乙二醇(polyethylene glycol,Mn:150~850)等具一級醇基之醚醇類。
基於洗淨液組成物總重量100重量份,本發明之一級醇類有機溶劑(B)使用量一般為5~70重量份,較佳為10~65重量份,更佳為15~60重量份。
在本發明中,具醚基之二級及/或三級醇類的有機溶劑(C)的具體例如:1-甲氧基-2-丙醇(1-methoxy-2-propanol)、1-乙氧基-2-丙醇(1-ethoxy-2-propanol)、1-丙氧基-2-丙醇(1-propoxy-2-propanol)、1-丁氧基-2-丙醇(1-butoxy-2-propanol)、1-苯氧基-2-丙醇(1-phenoxy-2-propanol)、1-甲氧基-2-丁醇(1-methoxy-2-butanol)、1-丁氧基-2-丁醇(1-butoxy-2-butanol)、1-(2-甲氧基-1-甲基乙氧基)-2-丙醇[1-(2-methoxy-1-methylethoxy)-2-propanol]、1-(2-甲氧基-2-甲基乙氧基)-2-丙醇[1-(2-methoxy-2-methylethoxy)-2-propanol]、1-(2-乙氧基-1-甲基乙氧基)-2-丙醇[1-(2-ethoxy-1-methylethoxy)-2-propanol]、1-(2-丙氧基-1-甲基乙氧基)-2-丙醇[1-(2-propoxy-1-methylethoxy)-2-propanol]、1-(2-丁氧基-1-甲基乙氧基)-2-丙醇[1-(2-butoxy-1-methylethoxy)-2-propanol]、1-(2-第三丁氧基-1-甲基乙氧基)-2-丙醇[1-(2-tert-butoxy-1-methylethoxy)-2-propanol]、1-(2-己氧基-1-甲基乙氧基)-2-丙醇[1-(2-hexyloxy-1-methylethoxy)-2-propanol]、1,1’-[丙烷-1,2-二基雙(伸氧基)]二丙烷-1-醇{1,1’-[propane-1,2-diylbis(oxy)]dipropane-1-ol}、1-[2-(2-甲氧基-1-甲基乙氧基)-1-甲基乙氧基]-2-丙醇{1-[2-(2-methoxy-1-methylethoxy)-1-methylethoxy]-2-propanol}、1-[1-甲基-2-(1-甲基-2-丙氧基乙氧基)乙氧基]-2-丙烷{1-[1-methyl-2-(1-methyl-2-propoxyethoxy)ethoxy]-2-propanol}、4,7,10-三甲基-2,5,8,11-四氧十四烷-13-醇{4,7,10-trimethyl-2,5,8,11-tetraoxatetradecane-13-ol}、1-[1-[1-(1-甲氧基丙氧基)丙氧基]丙氧基-2-丙醇{1-[1-[1-(1-methoxypropoxy)propoxy]propoxy]-2-propanol}、1-甲氧基-2-甲基-2-丙醇(1-methoxy-2-methyl-2-propanol)、1-異丙氧基-2-甲基-2-丙醇(1-Isopropoxy-2-methyl-2-propanol)。
基於洗淨液組成物總重量100重量份,本發明之具醚基之二級及/或三級醇類的有機溶劑(C)使用量一般為5~70重量份,較佳為10~65重量份,更佳為15~60重量份。
本發明之洗淨液組成物中,鹼性化合物(A)、一級醇類有機溶劑(B)與具醚基之二級及/或三級醇類的有機溶劑(C)並用時,可獲得金屬腐蝕性低、剝離性佳之配向膜洗淨液。
當未使用一級醇類有機溶劑(B)時,會有金屬腐蝕性之問題發生;而未使用具醚基之二級及/或三級醇類的有機溶劑(C)時,則會有剝離性不佳之缺點。
本發明之洗淨液組成物除了上述鹼性化合物(A)、一級醇類有機溶劑(B)及具醚基之二級及/或三級醇類的有機溶劑(C)之外,在不影響洗淨液組成物表現下,可視需要添加水、其他親水性有機溶劑(D)、界面活性劑(E)與添加劑(F)。
其他親水性有機溶劑(D)係為吡啶類、醯胺類、噁唑啉酮類、亞硝酸鹽類、內酯類、酮類、醚類、醚酯類、環醚類、亞碸類或醚醇類等。
吡啶類之具體例如:N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮及2-吡咯烷酮等吡啶類。
醯胺類之具體例如:N-甲基甲醯胺(N-methylformamide)、N,N-二甲基甲醯胺(N,N-dimethylformamide)、N-乙基甲醯胺(N-ethylformamide)及N,N-二乙基甲醯胺(N,N-diethylformamide)等甲醯胺類,N-甲基乙醯胺(N-methylacetamide)、N,N-二甲基乙醯胺(N,N-dimethylacetamide)、N-乙基乙醯胺(N-ethylacetamide)、N,N-二乙基乙醯胺(N,N-diethylacetamide)等乙醯胺類、N,N-二甲基丙醯胺(N,N-dimethylpropionamide)、六甲基磷酸三胺(hexamethyl phosphoramide)等醯胺類。
噁唑啉酮類之具體例如:N-甲基-2-噁唑啉酮(N-methyl-2-oxazolidinone)、3,5-二甲基-2-噁唑啉酮(3,5-dimethyl-2-oxazolidinone)等噁唑啉酮類。
亞硝酸鹽類之具體例如:乙腈(acetonitrile)、丙腈(propionitrile)、丁腈(butyronitrile)、丙烯腈(acrylonitrile)、甲基丙烯腈(methacrylonitrile)、苯甲腈(benzonitrile)等亞硝酸鹽類。
內酯類之具體例如:γ-丁內酯(γ-butyrolactone)、α-乙醯基-γ-丁內酯(α-acetyl-γ-butyrolactone)、β-丁內酯(β-butyrolactone)、γ-戊內酯(γ-valerolactone)、δ-戊內酯(δ-valerolactone)等內酯類。
酮類之具體例如:丙酮(acetone)、苯乙酮(acetophenone)、甲基乙基酮(methylethylketone)、環己酮(cyclohexanone)、環戊酮(cyclopentanone)及二丙酮醇(diacetone alcohol)等酮類。
醚類之具體例如:乙二醇二甲基醚(ethylene glycol dimethyl ether)、二乙二醇二甲基醚(diethylene glycol dimethyl ether)、三乙二醇二甲基醚(triethylene glycol dimethyl ether)、二乙二醇二乙基醚(diethylene glycol diethyl ether)、二乙二醇二丁基醚(diethylene glycol dibutyl ether)、二乙二醇異丙基甲基醚(diethylene glycol isopropylmethyl ether)、二乙二醇正丁基甲基醚(diethylene glycol n-butylmethyl ether)、二丙二醇二甲基醚(dipropylene glycol dimethyl ether)、三丙二醇二甲基醚(tripropylene glycol dimethyl ether)、二丙二醇正丙基甲基醚(dipropylene glycol n-propylmethyl ether)、二丙二醇正丁基甲基醚(dipropylene glycol n-butylmethyl ether)等不含醇基之醚類。
醚酯類之具體例如:乙二醇甲醚醋酸酯(ethylene glycol monomethyl ether acetate)、乙二醇乙醚醋酸酯(ethylene glycol monoethyl ether acetate)、二乙二醇甲醚醋酸酯(diethylene glycol monomethyl ether ace-tate)、二乙二醇乙醚醋酸酯(diethylene glycol monoe-thyl ether acetate)及二乙二醇丁醚醋酸酯(diethylene glycol monobutyl ether acetate)等醚酯類。
環醚類之具體例如:四氫呋喃(tetrahydrofuran)、四氫吡喃(tetrahydropyran)等環醚類。
亞碸類之具體例如:二甲基亞碸(dimethylsulfoxide)、二乙基亞碸(diethylsulfoxide)、環丁碸(sulfolane)等亞碸類。
多價醇類之具體例如:1,2-丙二醇(1,2-propylene glycol)、丙三醇(glycerin)、1,3-丁二醇(1,3-butanediol)、2,3-丁二醇(2,3-butanediol)、1,2-戊二醇(1,2-pentanediol)、1,4-戊二醇(1,4-pentanediol)、2,4-戊二醇(2,4-pentanediol)、1,2-己二醇(1,2-hexanediol)、1,5-己二醇(1,5-hexanediol)及2,5-己二醇(2,5-hexanediol)等碳數2~8的直鏈式二醇類(alkane diol);1,2-環己烷二醇(1,2-cyclohexanediol)、1,3-環己烷二醇(1,3-cyclohexanediol)、1,4-環己烷二醇(1,4-cyclohexanediol)、1,2-環戊烷二醇(1,2-cyclopentanediol)、1,3-環戊烷二醇(1,3-cyclopentanediol)等碳數6~12的脂環式二醇類。
基於洗淨液組成物總重量100重量份,本發明之其他親水性有機溶劑(D)較佳為0~20重量份。
界面活性劑(E)的種類可以分為非離子界面活性劑(E1)、陰離子界面活性劑(E2)、陽離子界面活性劑(E3)及兩性界面活性劑(E4)。但是前述之醇類與一般式(1)所示之有機鹼並不包括在此類。
前述非離子型界面活性劑(E1)的具體例為,烯烴基氧化物加成型非離子界面活性劑、碳數3~20之多價醇型非離子界面活性劑。
所述的烯烴基氧化物加成型非離子界面活性劑可為碳數8~18之高級醇類、碳數10~24之烷基酚、碳數12~24之高級脂肪酸或碳數8~24之高級烷基胺等化合物中,直接加成碳數2~4之氧化烯基所得產物,該碳數2~4之氧化烯基係為氧化乙烯基(以下簡稱EO)、氧化丙烯基或氧化丁烯基,且碳數2~4之氧化烯基的加成莫耳數為8~5,000;所述的烯烴基氧化物加成型非離子界面活性劑亦可為聚氧烯烴基乙二醇(Mn為150~6,000)與碳數12~24之高級脂肪酸等反應的產物、於二醇類或三~八價的多價醇等含有羥基的化合物與碳數12~24之高級脂肪酸反應所得的酯化物上加成氧化烯基的產物(Mn為250~30,000)、於碳數8~24之高級脂肪酸醯胺上加成氧化烯基的產物(Mn為200~30,000)或在碳數8~60之多價醇烷基醚上加成氧化烯基的產物(Mn為120~30,000)等。
所述碳數3~20之多價醇型非離子界面活性劑係為碳數8~60之多價醇脂肪酸酯、碳數8~60之多價脂肪酸烷基醚或碳數8~60之脂肪酸烷醇醯胺。
陰離子型界面活性劑(E2)的具體例為,羧酸(碳數8~22之飽和或不飽和脂肪酸)或其鹽類、羧甲基化合物的鹽類[碳數8~16之脂肪族醇類及/或該脂肪族醇類的EO加成物(加成數目1~10)等的羧甲基化合物之鹽類等]、硫酸酯鹽類[高級醇硫酸酯鹽類(碳數8~18之脂肪族脂類的硫酸酯鹽類等)等]、高級烷基醚硫酸酯鹽類[碳數8~18之脂肪族醇類之EO加成物(加成數目1~10)的硫酸酯鹽類]、硫酸化油(天然的不飽和油脂或不飽和的蠟油進行硫酸化後再中和所得的鹽類)、硫酸化脂肪酸脂(對不飽和脂肪酸的低級醇酯類進行硫酸化後再中和所得的鹽類)、硫酸化烯烴(對碳數12~18之烯烴類進行硫酸化後再中和所得的鹽類)、磺酸鹽[烷基苯磺酸鹽、烷基萘磺酸鹽、磺基琥珀酸二酯型、碳數12~18的α-烯烴磺酸鹽、Igepon T型(商品名)界面活性劑]及磷酸酯鹽[碳數8~60高級醇的磷酸酯鹽、碳數8~60高級醇之EO加成物的磷酸酯鹽、碳數4~60烷基酚之EO加成物的磷酸酯鹽等]等鹽類。
上述鹽類的具體例為,鹼金屬(鈉、鉀等)鹽、鹼土族金屬(鈣、鎂等)鹽、銨鹽、碳數1~20之烷基胺鹽及碳數2~12之烷醇胺(單、二、三乙醇胺)鹽等。
陽離子型界面活性劑(E3)的具體例為,鹵化四級銨鹽型[碳數4~100之四烷基銨鹽,例如:氯化十二烷基三甲基銨、氯化二癸基二甲基銨、溴化二辛基二甲基銨、溴化硬脂基三甲基銨;碳數3~80之三烷基苯基銨鹽,例如:氯化十二烷基二甲基苯基銨(氯化苯甲烴銨);碳數2~60之烷基啶鹽,例如:氯化十六烷基啶鹽;碳數2~4之聚氧烯烴基三烴基銨鹽,例如:氯化聚氧乙烯基三甲基銨;Sapamine型(商品名)四級銨鹽,例如:硬脂醯胺乙基二乙基甲基銨的甲基硫酸鹽]、胺鹽型[碳數12~60之脂肪族高級胺(例如:十二烷基胺、硬脂基胺、十六烷基胺、硬化牛脂胺、松香胺等)的無機酸(鹽酸、硫酸、硝酸及磷酸)鹽或有機酸(醋酸、丙酸、十二酸、油酸、安息香酸、琥珀酸、己二酸、壬二酸)鹽;碳數1~11低級胺的高級脂肪酸(碳數12~24,例如:硬脂酸、油酸)鹽;碳數1~30脂肪族胺的EO加成物等的無機酸(如上所述的無機酸)鹽或有機酸(如上所述的有機酸)鹽;三級胺(三乙醇胺單硬脂酸酯、硬脂醯胺乙基二乙基甲基乙醇胺等)的無機酸(如上所述的無機酸)鹽或有機酸(如上所述的有機酸)鹽等]等。
兩性界面活性劑(E4)的具體例為,氨基酸兩性界面活性劑[碳數12~18之高級烷基胺的丙酸鈉等]、甜菜鹼(三甲基甘氨酸)型兩性界面活性劑[碳數12~18之烷基二甲基甜菜鹼等、碳數12~18之烷基二羥乙基甜菜鹼等、椰子油脂肪酸醯胺丙基甜菜鹼等]、硫酸酯鹽型兩性界面活性劑[碳數8~18之高級烷基胺的硫酸酯鈉鹽、羥乙基咪唑啉硫酸酯鈉鹽等]、磺酸鹽型兩性界面活性劑(五癸基胺基乙磺酸、咪唑啉磺酸等)、磷酸酯鹽型兩性界面活性劑[碳數8~22之甘油高級脂肪酸酯化物的磷酸酯胺鹽]等。
在所述的界面活性劑(E)中,以洗淨性及耐腐蝕性的觀點來看,較佳的是非離子界面活性劑(E1)及陰離子界面活性劑(E2),更佳的是非離子界面活性劑(E1)。基於洗淨液組成物總重量100重量份,本發明之界面活性劑(E)較佳為0~20重量份。
添加劑(F),例如是防鏽劑[碳數為6~30之胺(如環己基胺、十二烷基胺、硬脂基胺等)的氧乙稀(E0)加成物(加成數目2~10)、鉻酸鹽、亞硝酸鹽、碳數6~30之胺的高級脂肪酸(碳數8~30)鹽、碳數12~24之二羧酸的鹼金屬(鈉、鉀等)鹽、銨鹽、或烷醇胺鹽(三乙醇胺鹽等)、碳數12~24之二羧酸的烷醇醯胺(例如十二烷基琥珀酸二乙醇醯胺)、碳數12~24之二羧酸的烷醇醯胺鹼金屬鹽(例如十二烷基琥珀酸二乙醇醯胺鈉鹽)等],抗氧化劑[酚類化合物(2,6,-二-t-丁基-4-甲基酚等)、含硫化合物(雙十二烷基硫二苯胺丙酸鹽等)、胺化合物(辛基化二苯基胺等)、磷化合物(三苯基亞磷酸鹽等)等],金屬離子螯合劑(乙烯二胺四醋酸鈉、檸檬酸鈉等),有機酸(檸檬酸、乙醇酸、琥珀酸、酒石酸、乳酸、反丁烯二酸、蘋果酸、乙醯酸、丁酸、吉草酸、草酸、順丁烯二酸、杏仁酸等)及這些物質的鹼金屬(鈉、鉀等)鹽、銨鹽或烷醇胺鹽(如三乙醇胺鹽)等。
添加劑(F)的含量,基於洗淨液組成物總重量100重量份,本發明之防鏽劑通常在20重量份以下,較佳的是0.5~10重量份,抗氧化劑通常在5重量份以下,較佳的是0.1~1重量份,金屬離子螯合劑通常在20重量份以下,較佳的是0.5~10重量份,有機酸通常在20重量份以下,較佳的是0.5~10重量份。
以本發明洗淨液組成物的總重量100重量份為基準,其他親水性有機溶劑(D)、界面活性劑(E)及添加劑(F)合計的含量,通常在40重量份以下,較佳的是在30重量份以下,更佳的是在20重量份以下。且洗淨液組成物在25℃時的動黏度,通常在2~300mm2
/sec,從洗淨性及沖洗的觀點來看,較佳的是3~100mm2
/sec,更佳的是4~50mm2
/sec。其中,黏度是以奧斯華特(Ostwald)或烏柏羅德(Ubbelohde)等黏度計進行測定。
本發明的洗淨液組成物,其適用的用途並無特別限定,可用於各種電子零件及鋁建材等的洗淨,較佳的是用於電子零件的洗淨,特別是廣泛地用在一部份或全部使用鋁之電子零件等零件的洗淨上。例如,液晶面板用的玻璃基板、半導體基板、印刷電路板、電漿顯示玻璃基板、熱感應頭等電子零件、空調冷卻膜、空氣清淨機的鋁電極板、電剃刀等的電器零件、鋁建材等。此外,洗淨的對象(汙垢)為油脂、指紋、樹脂、有機微粒等有機物、無機微粒(例如,玻璃粉、陶瓷粉、金屬粉等無機物)。在這些洗淨對象中,本發明洗淨液組成物特別適合使用於液晶面板用的玻璃基板的洗淨(配向膜進行薄膜化前玻璃基板的洗淨,或配向膜為不合格的玻璃基板的洗淨)。
本發明之洗淨液組成物可適用選自於由超音波、噴淋洗淨、噴灑洗淨、浸漬及浸漬搖動所組成方法群組進行洗淨。進行洗淨時,本發明的洗淨液組成物在必要時可以水進行稀釋。
洗淨溫度,通常為10~70℃,較佳的是15~60℃。洗淨時間通常是0.2~120分,較佳的是0.5~30分。以本發明洗淨液組成物進行洗淨後,可再以水沖洗除去附著於基板的洗淨液組成物,水的沖洗溫度通常是5~90℃,較佳的是10~70℃,沖洗的方法同上述所適用的洗淨方法。沖洗後,通常在50~150℃的環境中,較佳的是在60~100℃的環境中,進行加熱乾燥,時間通常在1~120分,較佳的是在3~60分,以得到乾淨的液晶面板用的玻璃基板,如此即可使玻璃基板復原。
依照表一中所記載各成分所需之重量份,於室溫下在1公升的燒杯中充分地均勻攪拌與混合,即可製得洗淨液組成物,並以下記各測定評價方式進行評價,所得結果如表一所示。
在預先形成ITO膜(銦錫氧化膜)的玻璃基板(25mm×25mm,厚度為0.75mm)上,塗佈聚醯亞胺樹脂。接著,在80℃進行預烤(pre-bake)作業,預烤2分鐘後,放入220℃的循環烘箱中進行30分鐘後烤(post-bake)作業,完成聚醯亞胺配向膜(膜厚0.1μm)的玻璃基板實驗片。將實驗片置於不銹鋼網上,以洗淨液組成物(25℃)噴淋(shower)具有該配向膜之表面2~11分鐘後,再以離子交換水噴淋洗淨實驗片的兩面各一分鐘。然後,實驗片在70℃循環風乾燥機中乾燥十分鐘後,以顯微鏡觀察配向膜的剝離狀態,依照配向膜完全剝離所需之洗淨液組成物噴淋時間,評價洗淨液組成物的配向膜剝離性,評價標準如下。
◎:噴淋時間≦3分鐘
○:3分鐘<噴淋時間≦5分鐘
△:5分鐘<噴淋時間≦10分鐘
╳:10分鐘<噴淋時間
在預先形成ITO膜(銦錫氧化膜)的玻璃基板(25mm×25mm,厚度為0.75mm)上,塗佈聚醯亞胺樹脂。接著,在80℃進行預烤(pre-bake)作業,預烤2分鐘後,放入220℃的循環烘箱進行30分鐘後烤(post-bake)作業,完成聚醯亞胺配向膜(膜厚0.1μm)的玻璃基板實驗片。將實驗片在洗淨液組成物(25℃)中,分別浸漬2~11分鐘後,置於不銹鋼網上,以離子交換水對實驗片的一面噴淋洗淨一分鐘後,對實驗片的另一面進行同樣的沖洗步驟。然後,實驗片在70℃循環風乾燥機中乾燥十分鐘後,以顯微鏡觀察配向膜的剝離狀態,依照配向膜完全剝離所需之浸漬時間,評價洗淨液組成物的配向膜剝離性,評價標準如下。
◎:噴淋時間≦3分鐘
○:3分鐘<噴淋時間≦5分鐘
△:5分鐘<噴淋時間≦10分鐘
╳:10分鐘<噴淋時間
將具有鋁薄膜(膜厚0.03μm)密著之玻璃基板試驗片(25mm×25mm、厚度0.75mm)浸漬在100ml的洗淨液組成物中,以每小時間隔之目測方式判定鋁薄膜是否已完全溶解,以鋁薄膜完全消失所需時間,作為腐蝕時間,腐蝕時間越長表示金屬非腐蝕性越好,評價標準如下。
○:24小時≦腐蝕時間
△:12小時≦腐蝕時間<24小時
╳:腐蝕時間<12小時
表一係本發明洗淨液組成物實施例及比較例的組成比例及評價結果。
Claims (4)
- 一種洗淨液組成物,包含:鹼性化合物(A),且該鹼性化合物(A)為聯胺;一級醇類有機溶劑(B);以及具醚基之二級及/或三級醇類的有機溶劑(C),其中基於洗淨液組成物總重量100重量份,該鹼性化合物(A)使用量為5~50重量份,該一級醇類有機溶劑(B)使用量為5~70重量份,該具醚基之二級及/或三級醇類的有機溶劑(C)使用量為5~70重量份。
- 一種電子零件之洗淨方法,其特徵在於使用如申請專利範圍第1項所述之洗淨液組成物,以選自於由超音波洗淨、噴淋洗淨、噴灑洗淨及浸漬所組成的方法群組進行洗淨。
- 如申請專利範圍第2項所述電子零件之洗淨方法,其中,該電子零件包含玻璃基板。
- 如申請專利範圍第3項所述電子零件之洗淨方法,其中,該玻璃基板上配置有配向膜層。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW099130131A TWI457438B (zh) | 2010-09-06 | 2010-09-06 | Washing liquid composition and cleaning method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW099130131A TWI457438B (zh) | 2010-09-06 | 2010-09-06 | Washing liquid composition and cleaning method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201211238A TW201211238A (en) | 2012-03-16 |
TWI457438B true TWI457438B (zh) | 2014-10-21 |
Family
ID=46764208
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW099130131A TWI457438B (zh) | 2010-09-06 | 2010-09-06 | Washing liquid composition and cleaning method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWI457438B (zh) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1693439A (zh) * | 2004-04-30 | 2005-11-09 | 三洋化成工业株式会社 | 碱性洗净剂 |
TW201024403A (en) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Fujifilm Corp | Cleaning liquid for semiconductor device and cleaning method |
-
2010
- 2010-09-06 TW TW099130131A patent/TWI457438B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1693439A (zh) * | 2004-04-30 | 2005-11-09 | 三洋化成工业株式会社 | 碱性洗净剂 |
TW201024403A (en) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Fujifilm Corp | Cleaning liquid for semiconductor device and cleaning method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201211238A (en) | 2012-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5428859B2 (ja) | 鉛フリーハンダフラックス除去用洗浄剤組成物、および鉛フリーハンダフラックスの除去方法 | |
KR102176804B1 (ko) | 스크린판용 세정제 조성물 | |
TWI316650B (en) | Alkali cleaning agent | |
CN100543124C (zh) | 基板用清洗剂及清洗方法 | |
US7485612B2 (en) | Electronic parts cleaning solution | |
WO2011027673A1 (ja) | 鉛フリーハンダ水溶性フラックス除去用洗浄剤、除去方法及び洗浄方法 | |
CN101295144A (zh) | 光刻胶剥离液 | |
CN102277242B (zh) | 清洗剂组合物 | |
CN102296001B (zh) | 一种平板显示用清洗液及其制备方法 | |
JP6598671B2 (ja) | フラックス用洗浄剤組成物 | |
CN102443500B (zh) | 一种洗净液组成物及洗净方法 | |
KR101087087B1 (ko) | 수계 세정제 조성물 | |
JP3799026B2 (ja) | アルカリ洗浄剤 | |
JP2005336470A (ja) | アルカリ洗浄剤 | |
CN103809396A (zh) | 防止污渍的光刻胶剥离剂组合物及平板显示器基板的制法 | |
JP2012246474A (ja) | 平板表示装置用洗浄剤組成物 | |
JP2005060660A (ja) | 半導体基板用洗浄液 | |
TWI457438B (zh) | Washing liquid composition and cleaning method | |
KR101880305B1 (ko) | 전자재료용 세정액 조성물 | |
KR20110028109A (ko) | 세정액 조성물 | |
JP2006008932A (ja) | アルカリ洗浄剤 | |
CN104498950A (zh) | 一种高选择性钛层腐蚀液组合物 | |
CN107577120A (zh) | 抗蚀剂剥离液组合物、显示器基板及其制造方法 | |
CN113414167A (zh) | 表面活性剂及其制备方法、陶瓷件清洗方法 | |
JP2006306968A (ja) | 電子部品用洗浄剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |