JP2006148107A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターン形成アレー104と、そのアレー104に対して第一ビームを与える第一照射系124と、異なる方向から第二ビームを与える第二照射系360と、投影系108と、検出器342とを含む。検出器342はパターン形成アレー104によって偏向された第二ビームを受入れるように配置される。両ビームは補完形のパターンを有するようにパターン形成され、所望パターンとの比較および補完パターンとの重ね合わせに基づいてピクセルの不具合を検出する。
【選択図】図3
Description
図1は本発明の一実施例によるリソグラフィ投影装置100を模式的に示している。装置100は少なくとも放射系102と、個別に制御可能な部材よりなるアレー104と、物体テーブル106(例えば、基板テーブル)と、投影系(「レンズ」)108とを含む。
図2は本発明の一実施例による作動原理を示している。図2を参照し、また引き続き図1を参照すれば、照射系124からの露出放射光110はビーム分割器118からプログラム可能なパターン形成装置104に入射する。プログラム可能なパターン形成装置104の個々のピクセルは、それぞれの状態に応じて、放射光を第一光路に沿って戻し、ビーム分割器118を通して基板114へ向けるか(図1)、または第二光路にてビーム分割器118から離れる方向へ向ける。後者の放射光は図面では便宜的に符号240で示されている。便宜的に、基板114へ放射光を向けるようにセットされたピクセルは「オン」、放射光を偏向させるピクセルは「オフ」と称する。偏向された放射光240はビーム・ストップに入射されて光の無用な動きを防止し、また熱影響を処理できるようにする。本発明のこの実施例によれば、偏向された放射光240は検出器242へ向けられ、検出器242の出力244はプログラム可能なパターン形成装置104の何らかの不具合があるか否かを決定するのに使用される。
102 放射系
104 プログラム可能なパターン形成装置
106 基板テーブル
108 投影系
110 ビーム
112 放射光源
114 基板
116 位置決め装置
118 ビーム分割器
120 ターゲット箇所
122 放射ビーム
124 照射系
126,128 調整装置
130 積分装置
132 コンデンサ
134 干渉測定装置
136 ベース・プレート
138 干渉ビーム
140 ビーム分割器
240 偏向された放射光
242 検出器
244 出力
246 パターン供給源
248 制御システム
250 部分反射ミラー
360 第二の照射系
362 ビーム分割器
364 位置決めシステム
366 パターン形成されたビーム
370 マイクロレンズ
Claims (21)
- 基板にパターンを投影するリソグラフィ装置であって、
基板のターゲット箇所に導かれる第一光路と基板へ導かれる第二光路との間で選択的に入射光を偏向させることでビームをパターン化する個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーと、
第二光路に備えられた放射光に感応する検出器とを含むリソグラフィ装置。 - 検出器の出力を所望パターンの補完パターンと比較して、個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーの不具合を検出する制御システムをさらに含む請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- パターンが二値化パターンであり、補完パターンが2の補数による補完パターンである請求項2に記載されたリソグラフィ装置。
- 検出器が空間センサーである請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 検出器が電荷結合素子である請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 検出器がCMOS像センサーである請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーと検出器との間で第二光路に配置された部分反射ミラーをさらに含む請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- パターン形成アレーがデジタル式ミラー装置である請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- パターン形成アレーが回折格子の光弁である請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 基板にパターンを投影するリソグラフィ装置であって、
個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーと、
第一の放射ビームを個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーに向ける第一照射系であり、個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーは第一ビームを第一パターンでパターン形成する第一照射系と、
第二の放射ビームを異なる方向から個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーに向ける第二照射系であり、個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーは第二ビームを第一パターンの補完パターンである第二パターンでパターン形成する第二照射系と、
第一ビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、
パターン形成アレーによって反射された第二ビームからの放射光を受入れて感応する検出器とを含むリソグラフィ装置。 - 検出器がパターン形成された第一ビームおよびパターン形成された第二ビームの両方を受入れるように配置された請求項10に記載されたリソグラフィ装置。
- 個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーと投影系との間に配置され、パターン形成された第一ビームの一部およびパターン形成された第二ビームの一部を検出器へ向けて偏向させるために配置されているビーム分割器をさらに含む請求項11に記載されたリソグラフィ装置。
- 検出器の出力を第一パターンと比較して、個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーのあらゆる不具合を検出する制御システムをさらに含む請求項10に記載されたリソグラフィ装置。
- 検出器が空間センサーである請求項10に記載されたリソグラフィ装置。
- 検出器が電荷結合素子である請求項10に記載されたリソグラフィ装置。
- 検出器がCMOS像センサーである請求項10に記載されたリソグラフィ装置。
- 第一ビームの放射光が第二ビームの放射光よりも短い波長を有する請求項10に記載されたリソグラフィ装置。
- 個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーがデジタル式ミラー装置である請求項10に記載されたリソグラフィ装置。
- 個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーが回折格子光弁である請求項10に記載されたリソグラフィ装置。
- 個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーによって、基板のターゲット箇所に向かう第一光路および基板から離れる方向へ向かう第二光路の間で選択的に入射光を偏向させて放射ビームをパターン化させること、
第二光路における偏向された入射光を検出して、パターン形成アレーのあらゆる不具合を検出することを含むデバイス製造方法。 - ビームをパターン化する個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーへ第一および第二の放射ビームを向け、ビームは異なる方向から個別に制御可能な部材よりなるパターン形成アレーへ向けられて2つの補完パターンによってパターン形成されること、
基板のターゲット箇所へ第一放射ビームを投影すること、および
第二ビームの光路内に備えられた検出器を使用してパターン形成アレーのあらゆる不具合を検出することを含むデバイス製造方法。
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