CN106842824B - 一种图形失真的检测方法及结构 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例公开了一种图形失真的检测方法及结构。该方案中，对第一感光材料通过曝光显影形成所需的待检测图形的同时，在待检测图形的预设检测区域形成具有两个不同高度的水平面的检测台阶，然后通过相同的曝光机参数对第二感光材料在检测区域内形成用于检测曝光失焦的检测图形，如果检测图形在检测台阶的两个水平面上的预设尺寸参数是一致的，说明所采用的曝光机参数曝光时，第二感光材料在焦深范围内，由于第一感光材料与第二感光材料所采用的曝光机参数相同，那么，第一感光材料也在焦深范围内，就没有曝光失焦，形成的待检测图形就不会因曝光失焦而失真，反之，则因曝光失焦而失真。这样，可以及时发现解决曝光失焦及其导致的图形失真问题。

Description

一种图形失真的检测方法及结构
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种图形失真的检测方法及结构。
背景技术
光刻工艺是显示器制备过程中的一步关键工艺，它是通过涂胶、曝光、显影将掩膜版上的图形转移到基板上的。其中，对于曝光工艺来说，曝光的焦深是一个重要因素，在生产过程中，如果感光材料未在焦深范围内，即曝光失焦，图形就会变形失真。但是在现有技术中，由于其它工艺也会导致图形失真，也就无法确定图形失真是否因曝光失焦导致的，不能及时发现解决曝光失焦问题。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种图形失真的检测方法及结构，以实现及时发现解决曝光失焦及其导致的图形失真问题。
本发明实施例的目的是通过以下技术方案实现的：
一种图形失真的检测方法，包括：
在基板上涂覆第一感光材料；
依照预设曝光机参数，对所述第一感光材料曝光，显影形成待检测图形，同时在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶；其中，所述检测台阶具有高度不同的第一水平面和第二水平面；所述第一水平面和所述第二水平面平行于所述基板所在平面；
在所述基板上涂覆第二感光材料；
依照所述预设曝光机参数，对所述第二感光材料曝光，显影形成位于所述检测区域内的用于检测曝光失焦的检测图形；
检测所述检测图形中位于所述检测台阶的第一水平面的部分与位于所述检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致；如果一致，则确定所述待检测图形在所述检测区域未因曝光失焦失真；如果不一致，则确定所述待检测图形在所述检测区域因曝光失焦失真。
较佳地，所述第二感光材料的厚度小于所述第一感光材料的厚度。
较佳地，形成位于所述检测区域内的用于检测曝光失焦的检测图形，包括：
在所述检测区域内形成至少一条条状的检测图形；其中，所述条状的检测图形在所述基板上的正投影与所述检测台阶在所述基板上的正投影相交。
较佳地，在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶，包括：
在所述待检测图形的至少一个所述检测区域内形成凸起，以形成所述检测台阶。
较佳地，检测所述检测图形中位于所述检测台阶的第一水平面的部分与位于所述检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致，包括：
检测所述条状图形中位于所述凸起的部分与位于所述凸起一侧的部分的线宽是否一致；
或者，检测各所述条状图形位于所述凸起的部分与位于所述凸起一侧的部分的间隔是否一致。
较佳地，在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶，包括：
在所述待检测图形的至少一个所述检测区域内形成凹槽，以形成所述检测台阶。
较佳地，检测所述检测图形中位于所述检测台阶的第一水平面的部分与位于所述检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致，包括：
检测所述条状图形中位于所述凹槽内的部分与位于所述凹槽外的部分的线宽是否一致；
或者，检测各所述条状图形位于所述凹槽内的部分与位于所述凹槽外的部分的间隔是否一致。
较佳地，所述检测台阶分布于非像素区域。
较佳地，所述检测台阶分布于所述待检测图形的周边区域。
较佳地，所述检测台阶分布于所述待检测图形的顶点处和/或侧边中点处。
较佳地，所述第一感光材料和第二感光材料相同。
较佳地，所述第一感光材料和第二感光材料均为树脂。
较佳地，该方法还包括：
去除所述检测图形。
一种图形失真的检测结构，包括：基板，位于所述基板上的依照预设曝光机参数曝光并显影得到的待检测图形、在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内的检测台阶、位于所述检测区域内依照所述预设曝光机参数曝光并显影得到的用于检测曝光失焦的检测图形；
其中，所述检测台阶具有高度不同的第一水平面和第二水平面；所述第一水平面和所述第二水平面平行于所述基板所在平面；
所述检测图形位于所述检测台阶的第一水平面的部分与位于所述检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数一致时，则表明所述待检测图形在所述检测区域未因曝光失焦失真；如果不一致，则表明所述待检测图形在所述检测区域因曝光失焦失真。
本发明实施例的有益效果如下：
本发明实施例提供的一种图形失真的检测方法及结构中，对第一感光材料通过曝光显影形成所需的待检测图形的同时，在待检测图形的预设检测区域形成具有两个不同高度的水平面的检测台阶，然后通过相同的曝光机参数对第二感光材料在检测区域内形成用于检测曝光失焦的检测图形，如果检测图形在检测台阶的两个水平面上的预设尺寸参数是一致的，说明所采用的曝光机参数曝光时，第二感光材料在焦深范围内，由于第一感光材料与第二感光材料所采用的曝光机参数相同，那么，第一感光材料也在焦深范围内，就没有曝光失焦，形成的待检测图形就不会因曝光失焦而失真，反之，则因曝光失焦而失真。这样，可以及时发现解决曝光失焦及其导致的图形失真问题。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种图形失真的检测方法的流程图；
图2为本发明实施例提供的一种检测台阶的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的另一种检测台阶的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的在图2所示的检测台阶上设置检测图形的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的在图3所示的检测台阶上设置检测图形的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的在图4所示结构的截面示意图；
图7为本发明实施例提供的在图5所示结构的截面示意图；
图8为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明提供的一种图形失真的检测方法及结构进行更详细地说明。
为了及时发现解决曝光失焦及其导致的图形失真问题，本发明实施例提供一种图形失真的检测方法，如图1所示，该方法至少包括如下步骤：
步骤100、在基板上涂覆第一感光材料。
步骤110、依照预设曝光机参数，对第一感光材料曝光，显影形成待检测图形，同时在待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶；其中，检测台阶具有高度不同的第一水平面和第二水平面；第一水平面和第二水平面平行于基板所在平面。
步骤120、在基板上涂覆第二感光材料。
步骤130、依照上述预设曝光机参数，对第二感光材料曝光，显影形成位于检测区域内的用于检测曝光失焦的检测图形。
步骤140、检测检测图形中位于检测台阶的第一水平面的部分与位于检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致；如果一致，则确定待检测图形在检测区域未因曝光失焦失真；如果不一致，则确定待检测图形在检测区域因曝光失焦失真。
本发明实施例中，对第一感光材料通过曝光显影形成所需的待检测图形的同时，在待检测图形的预设检测区域形成具有两个不同高度的水平面的检测台阶，然后通过相同的曝光机参数对第二感光材料在检测区域内形成用于检测曝光失焦的检测图形，如果检测图形在检测台阶的两个水平面上的预设尺寸参数是一致的，说明所采用的曝光机参数曝光时，第二感光材料在焦深范围内，由于第一感光材料与第二感光材料所采用的曝光机参数相同，那么，第一感光材料也在焦深范围内，就没有曝光失焦，形成的待检测图形就不会因曝光失焦而失真，反之，则因曝光失焦而失真。这样，可以及时发现解决曝光失焦及其导致的图形失真问题。
实施中，检测到曝光失焦后，需要调节曝光机曝光时焦平面的位置。
具体实施时，形成检测台阶的方式有多种，下面进行举例说明：
较佳地，上述步骤110中，在待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶，具体实现方式可以是：如图2所示，在待检测图形20的至少一个检测区域内形成凹槽21，以形成检测台阶22。这时，凹槽21内的水平面和凹槽外的水平面形成检测台阶22的两个水平面。
或者，较佳地，上述步骤110中，在待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶，具体实现方式可以是：如图3所示，在待检测图形的至少一个检测区域内形成凸起23，以形成检测台阶22。这时，凸起23的水平面和凸起23一侧的水平面形成检测台阶22的两个水平面。
具体实施时，上述步骤130中，形成位于检测区域内的用于检测曝光失焦的检测图形，具体实现方式可以是：在检测区域内形成至少一条条状的检测图形；其中，如图4和图5所示，条状的检测图形24在基板上的正投影与检测台阶在基板上的正投影相交。图6和图7示出了沿检测图形方向的截面图。
如果利用形成凹槽21的方式形成检测台阶22，相应的，上述步骤140中，检测检测图形中位于检测台阶的第一水平面的部分与位于检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致，具体实现方式可以是：
检测条状图形中位于凹槽内的部分与位于凹槽外的部分的线宽是否一致；
或者，检测各条状图形位于凹槽内的部分与位于凹槽外的部分的间隔是否一致。
如果利用形成凸起23的方式形成检测台阶22，相应的，上述步骤140中，检测检测图形中位于检测台阶的第一水平面的部分与位于检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致，具体实现方式可以是：
检测条状图形中位于凸起的部分与位于凸起一侧的部分的线宽是否一致；
或者，检测各条状图形位于凸起的部分与位于凸起一侧的部分的间隔是否一致。
其中，上述线宽和间隔即为上述预设尺寸参数。当然，也可以根据需要将检测图形设置成其它的形状，并进行相应的预设尺寸参数的检测。
具体实施时，涂覆的第二感光材料的厚度对检测结果的准确性有一定的影响，如果第二感光材料过厚，会导致形成的检测台阶的两个水平面超过第一感光材料，不利于检测的进行，为避免这一问题，较佳地，第二感光材料的厚度小于第一感光材料的厚度。从图6和图7中可以看出，第二感光材料越薄，形成的检测图形24越接近于检测台阶22的两个水平面，检测结果越准确。因此，本发明实施例的方案，对于膜层厚度较厚的待检测图形更加适用。例如，一般介电层的膜层较厚，第一感光材料形成的图形可以是介电层的图形。
具体实施时，较佳地，检测台阶分布于非像素区域。这样，可以避免检测台阶对像素区域造成影响，降低对显示的影响。
进一步的，为了方便确定检测图形的尺寸参数，较佳地，检测台阶分布于待检测图形的周边区域。具体的，检测台阶可以但不限于分布于待检测图形的顶点处和/或侧边中点处。
具体实施时，较佳地，第一感光材料和第二感光材料的种类有多种，并且这两种感光材料可以不同，也可以相同。两种感光材料相同，一方面无需更换感光材料，提高效率，另一方面，两次曝光的感光情况相同，检测更加准确。较佳地，第一感光材料和第二感光材料为树脂。
对待检测图形检测完毕后，为了便于进行后续工艺，或者解决曝光失焦问题，较佳地，本发明实施例提供的方法还包括：去除上述检测图形。
下面通过具体的场景，对本发明实施例提供的一种图形失真的检测方法进行更加详细地说明。
本实施例中，采用两种掩膜版，如图8所示，第一种掩膜版25除了具有待检测图形20外，还在待检测图形的周边区域的顶点处和侧边的中点处分别设置检测区域26，在各检测区域内设置检测台阶22，即凹槽的图形。第二种掩膜版在检测区域内设置检测图形。由于实际工艺中，一张掩膜版的尺寸有限，需要在基板上设置多张图8所示的第一种掩膜版。本实施例中，采用的第一感光材料为树脂，用于形成介电层的图形，在完成树脂前的所有工艺后，按照如下步骤进行本发明的流程：
步骤一、在基板上涂覆树脂。
具体的，涂覆转速：初始转速为200～400rpm/5s，较佳地，为300rpm/5s；最终转速为700～900rpm/15s，较佳地，为830rpm/5s，前烘时的温度为100摄氏度，时间为120s。
步骤二、利用第一种掩膜版，依照预设曝光机参数，对树脂进行曝光，显影，其中，曝光量为200mJ，显影时间为80s，漂白速率为1.2uvm/min，固化温度为230摄氏度，时间为45min，之后进行干法刻蚀，其中，灰化功率为800w，压力为200mtor，流量为SF6/O2＝30/300sccm，形成介电层的图形，同时在介电层的图形的检测区域内形成凹槽。
步骤三、在基板上涂覆光刻胶。
步骤四、利用第二种掩膜版，依照步骤三中的预设曝光参数对光刻胶进行曝光，显影形成多条与凹槽在基板上的正投影相交的条状检测图形。
步骤五、检测条状图形中位于凹槽内的部分与位于凹槽外的部分的线宽是否一致；或者，检测各条状图形位于凹槽内的部分与位于凹槽外的部分的间隔是否一致。；如果一致，则确定待检测图形在检测区域未因曝光失焦失真；如果不一致，则确定待检测图形在检测区域因曝光失焦失真。
步骤六、去除光刻胶。
基于同样的发明构思，本发明实施例还提供一种图形失真的检测结构，包括：基板，位于基板上的依照预设曝光机参数曝光并显影得到的待检测图形、在待检测图形的至少一个预设检测区域内的检测台阶、位于检测区域内依照预设曝光机参数曝光并显影得到的用于检测曝光失焦的检测图形；
其中，检测台阶具有高度不同的第一水平面和第二水平面；第一水平面和第二水平面平行于基板所在平面；
检测图形位于检测台阶的第一水平面的部分与位于检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数一致时，则表明待检测图形在检测区域未因曝光失焦失真；如果不一致，则表明待检测图形在检测区域因曝光失焦失真。
本发明实施例提供的一种图形失真的检测方法及结构中，对第一感光材料通过曝光显影形成所需的待检测图形的同时，在待检测图形的预设检测区域形成具有两个不同高度的水平面的检测台阶，然后通过相同的曝光机参数对第二感光材料在检测区域内形成用于检测曝光失焦的检测图形，如果检测图形在检测台阶的两个水平面上的预设尺寸参数是一致的，说明所采用的曝光机参数曝光时，第二感光材料在焦深范围内，由于第一感光材料与第二感光材料所采用的曝光机参数相同，那么，第一感光材料也在焦深范围内，就没有曝光失焦，形成的待检测图形就不会因曝光失焦而失真，反之，则因曝光失焦而失真。这样，可以及时发现解决曝光失焦及其导致的图形失真问题。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (14)

1.一种图形失真的检测方法，其特征在于，包括：
在基板上涂覆第一感光材料；
依照预设曝光机参数，对所述第一感光材料曝光，显影形成待检测图形，同时在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶；其中，所述检测台阶具有高度不同的第一水平面和第二水平面；所述第一水平面和所述第二水平面平行于所述基板所在平面；
在所述基板上涂覆第二感光材料；
依照所述预设曝光机参数，对所述第二感光材料曝光，显影形成位于所述检测区域内的用于检测曝光失焦的检测图形；
检测所述检测图形中位于所述检测台阶的第一水平面的部分与位于所述检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致；如果一致，则确定所述待检测图形在所述检测区域未因曝光失焦失真；如果不一致，则确定所述待检测图形在所述检测区域因曝光失焦失真。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二感光材料的厚度小于所述第一感光材料的厚度。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成位于所述检测区域内的用于检测曝光失焦的检测图形，包括：
在所述检测区域内形成至少一条条状的检测图形；其中，所述条状的检测图形在所述基板上的正投影与所述检测台阶在所述基板上的正投影相交。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶，包括：
在所述待检测图形的至少一个所述检测区域内形成凸起，以形成所述检测台阶。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，检测所述检测图形中位于所述检测台阶的第一水平面的部分与位于所述检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致，包括：
检测所述条状的检测图形中位于所述凸起的部分与位于所述凸起一侧的部分的线宽是否一致；
或者，检测各所述条状的检测图形位于所述凸起的部分与位于所述凸起一侧的部分的间隔是否一致。
6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶，包括：
在所述待检测图形的至少一个所述检测区域内形成凹槽，以形成所述检测台阶。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，检测所述检测图形中位于所述检测台阶的第一水平面的部分与位于所述检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致，包括：
检测所述条状的检测图形中位于所述凹槽内的部分与位于所述凹槽外的部分的线宽是否一致；
或者，检测各所述条状的检测图形位于所述凹槽内的部分与位于所述凹槽外的部分的间隔是否一致。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述检测台阶分布于非像素区域。
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述检测台阶分布于所述待检测图形的周边区域。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述检测台阶分布于所述待检测图形的顶点处和/或侧边中点处。
11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一感光材料和第二感光材料相同。
12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述第一感光材料和第二感光材料均为树脂。
13.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该方法还包括：
去除所述检测图形。
14.一种图形失真的检测结构，其特征在于，包括：基板，位于所述基板上的依照预设曝光机参数曝光并显影得到的待检测图形、在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内的检测台阶、位于所述检测区域内依照所述预设曝光机参数曝光并显影得到的用于检测曝光失焦的检测图形；
其中，所述检测台阶具有高度不同的第一水平面和第二水平面；所述第一水平面和所述第二水平面平行于所述基板所在平面；
所述检测图形位于所述检测台阶的第一水平面的部分与位于所述检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数一致时，则表明所述待检测图形在所述检测区域未因曝光失焦失真；如果不一致，则表明所述待检测图形在所述检测区域因曝光失焦失真。
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