JP2006143557A - 酸化ビスマス系光ファイバ製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 プリフォームを線引きして酸化ビスマス系光ファイバを製造する方法であって、プリフォームを超音波を印加しながら硝酸水溶液によりエッチングし、当該エッチングされたプリフォームを線引きして酸化ビスマス系光ファイバを製造する。
【選択図】 図1
Description
(問題1)腐食性溶液がF−を含むものであるとプリフォームの表面に再析出物が付着しやすい。
(問題2)再析出物がプリフォームの表面に付着することを防止するために、特許文献2に開示されている化学的研磨方法と同様に、プリフォームを遥動・回転させて、もしくは腐食性溶液を攪拌して、プリフォームの表面に腐食性溶液を動的に接触させる(即ち、プリフォームの表面に接触する腐食性溶液を流動させる)構成とした場合に、装置の機構が複雑になる。
尚、本明細書において酸化ビスマス系ガラスとは、モル%表示で典型的に、Bi2O3:30〜70%、SiO2+B2O3:15〜40%、Al2O3+Ga2O3:1〜25%、ZnO:0〜10%、In2O3:0〜20%、La2O3:0〜5%、CeO2:0〜0.5%の組成を有するガラスであり、コアとなるガラスにはErが添加される。ここで、例えばZnOが0〜10%であるとは、ZnOは必須ではないが10%まで含有してもよい、の意である。
実施例1において、プリフォーム形状のガラス(本例において以下、プリフォームという。)を形成する酸化ビスマス系ガラスとしては、モル%表示で、Bi2O3:43%、SiO2:34%、Al2O3+Ga2O3:21%、La2O3:1%、CeO2:1%未満の組成のものを使用した。
実施例2において、プリフォームのクラッドを形成する酸化ビスマス系ガラスとしては、モル%表示で、Bi2O3:43%、SiO2:34%、Al2O3+Ga2O3:21%、La2O3:1%、CeO2+CoO:1%未満の組成のものを使用した。
101 容器
102 酸液
103 被処理ガラス体
104 モータ
105 マグネチックスターラー
106 回転子
Claims (4)
- プリフォームを線引きして酸化ビスマス系光ファイバを製造する方法であって、プリフォームを超音波を印加しながら硝酸水溶液によりエッチングし、当該エッチングされたプリフォームを線引きすることを特徴とする酸化ビスマス系光ファイバ製造方法。
- 前記硝酸水溶液の硝酸濃度が0.5質量%以上であることを特徴とする請求項1に記載の酸化ビスマス系光ファイバ製造方法。
- 前記超音波の周波数が20kHz〜1MHzであることを特徴とする請求項1または2に記載の酸化ビスマス系光ファイバ製造方法。
- 酸化ビスマス系光ファイバがBi2O3を30〜70モル%含有するガラスからなることを特徴とする請求項1、2または3に記載の酸化ビスマス系光ファイバ製造方法。
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JPH0740750U (ja) * | 1993-12-28 | 1995-07-21 | 昭和電線電纜株式会社 | プリフォームロッド用自動洗浄装置 |
JPH09278475A (ja) * | 1996-04-11 | 1997-10-28 | Hoya Corp | 多重ガラス体の製造方法 |
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2004
- 2004-11-24 JP JP2004339009A patent/JP2006143557A/ja not_active Withdrawn
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