JP4498802B2 - ガラスロッドの火炎研磨方法、光ファイバの製造方法 - Google Patents
ガラスロッドの火炎研磨方法、光ファイバの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4498802B2 JP4498802B2 JP2004108788A JP2004108788A JP4498802B2 JP 4498802 B2 JP4498802 B2 JP 4498802B2 JP 2004108788 A JP2004108788 A JP 2004108788A JP 2004108788 A JP2004108788 A JP 2004108788A JP 4498802 B2 JP4498802 B2 JP 4498802B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass rod
- flame
- optical fiber
- glass
- hydrogen gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 245
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims description 88
- 238000007524 flame polishing Methods 0.000 title claims description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 51
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 claims description 45
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 28
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 10
- 239000004071 soot Substances 0.000 claims description 6
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 83
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 description 28
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 24
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/0148—Means for heating preforms during or immediately prior to deposition
Description
まず、VAD法等により石英ガラスからなる出発部材に石英ガラス微粒子を吹き付けてスート体をつくり、これを1200℃程度で脱水した後、1500℃程度で焼結して透明化することによりガラスロッドを製造する。このガラスロッドは、コア部のみからなるもの、又はコア部の周囲にクラッド部の一部が形成されたものである。
そして、このガラスロッドを所定の外径まで延伸した後、外付け法等により、ガラスロッドの外周部上に残部のクラッド部を形成して光ファイバ母材とする。
次に、この光ファイバ母材を線引きし、紡糸することによって、光ファイバを得る。
異物、気泡、欠陥、輝点等が光ファイバ母材中に存在していると、光ファイバ母材を線引きする際に断線が発生したり、光ファイバの光学特性が低下してしまう。
そこで、少なくともガラスロッドを延伸する工程と、ガラスロッドの外周部上に残部のクラッド部を形成する工程との前処理として、ガラスロッドを酸水素炎で火炎研磨し、これによりガラスロッドの外周部の傷を無くし、またガラスロッドに付着した異物を除去している。
このような水酸基を多量に含有する光ファイバ母材を線引きすると、水酸基が光ファイバ内に拡散し、得られた光ファイバでは水酸基による1383nm近傍の光損失が大きく損なわれてしまう。
水酸基による1383nm近傍の光損失を低減する方法として、ガラスロッドの外周部上に形成する外付け層を薄くして外付け倍率を小さくすることによって、コア領域から離れた領域に水酸基含有層が生成するようにして、水酸基による光損失を抑える方法が適用されている。
ここで、外付け倍率とは、(外付け後の光ファイバ母材の外径)/(外付け前のガラスロッドの外径)である。
また、外付け層を薄くする分、外付け後の光ファイバ母材の外径を変えないためには、外径の大きなガラスロッドを用いる必要がある。このような外径の大きなガラスロッドの外周部上に石英ガラス微粒子を堆積させる際、石英ガラス微粒子の堆積温度が低くなりやすく、堆積された石英ガラス微粒子の嵩密度が低下してしまう場合がある。石英ガラス微粒子の嵩密度が低い場合、ガラスロッドの嵩密度と、堆積された石英ガラス微粒子の嵩密度には大きな差が生じ、石英ガラス微粒子を堆積後に焼結して透明ガラス化する際、両者のガラスの収縮度の差によって外付け層の剥離やずれ等が生じ、歩留まりが悪化してしまう。特に、堆積初期の石英ガラス微粒子の嵩密度が低くなると、外付け層の剥離やずれが顕著に発生する。
このため、ガラスロッドに石英ガラス微粒子を堆積させる際、石英ガラス微粒子の堆積温度が低くならないように、バーナに供給するガス流量やバーナの移動速度等を精度良く調整する必要があった。
ガラスロッドを火炎研磨する際に水酸基の生成を抑制する技術として、バーナに供給する酸素ガスに対する水素ガスのモル比(水素ガス/酸素ガス)が2以下となるように、酸素ガスと水素ガスの供給量を調整して酸水素炎を発生させ、この酸水素炎でガラスロッドを火炎研磨する方法が開示されている(特許文献1参照。)。
しかし、ガラスロッドの表面温度が1200℃〜1700℃では温度が低いために、ガラスロッドの外周部をエッチングする効果が乏しく、十分にガラスロッドの外周面の傷を無くしたり、異物を除去することができない場合があった。
請求項1に係る発明は、酸水素炎をガラスロッドに当てて加熱、研磨するガラスロッドの火炎研磨方法において、酸素ガスに対する水素ガスの供給量のモル比(水素ガス/酸素ガス)を5.0〜7.0とし、かつガラスロッド表面の最高温度を2010℃〜2200℃とし、酸水素炎によるガラスロッドのエッチング速度(Δr・V/L)が0.028mm/分〜0.110mm/分となるように、火炎研磨によるガラスロッドの半径減少量Δr、ガラスロッドのうち酸水素炎に当たっている領域の幅L、ガラスロッドに対するバーナの相対移動速度Vを調整することを特徴とするガラスロッドの火炎研磨方法である。
請求項2に係る発明は、石英ガラスからなる出発部材にガラス微粒子を吹き付けてスート体とし、これを脱水、透明処理した後、延伸してガラスロッドを得て、該ガラスロッドにガラス微粒子を吹き付け、脱水、透明処理して得られる光ファイバ母材を線引きする光ファイバの製造方法において、少なくともガラス微粒子を吹き付ける前のガラスロッドを、請求項1に記載のガラスロッドの火炎研磨方法で研磨することを特徴とする光ファイバの製造方法である。
図1は、ガラスロッドに酸水素炎を照射している状態を示す一例を示す模式図である。
符号1はガラスロッドを示し、このガラスロッド1は、コア部のみからなるもの、又はコア部の周囲にクラッド部の一部が形成されたものであり、石英ガラス単独、又は石英ガラスを主成分としこれに屈折率等を調整するためのゲルマニウム等が添加されたものである。
このガラスロッド1は、図示しない駆動装置に回転自在に保持されて、その軸回りに符号αの方向に回転するようになっている。
このバーナ2には、図示しないガイドバー等を備えた駆動装置が設けられており、回転自在に保持されたガラスロッド1の軸方向にスライド移動できるようになっている。
そして、酸水素炎をガラスロッド1に当てながら、バーナ2をガラスロッド1の軸方向にスライド移動させ、ガラスロッド1の外周部全域に渡って火炎研磨する。
ガラスロッド1を火炎研磨する際、ガラスロッド1の外周部で水酸基が生成するが、ガラスロッド1に残留する水酸基の濃度は、(1)酸水素炎によるガラスロッド1のエッチング速度と、(2)ガラスロッド1中に拡散する水酸基の拡散速度によって左右されると考えられる。
例えば、酸水素炎によるガラスロッド1のエッチング速度を速くするか、又はガラスロッド1中に拡散する水酸基の拡散速度を遅くすることによって、ガラスロッド1に残留する水酸基の濃度を低く抑えることができる。
前記水素ガス/酸素ガスのモル比は、2.5〜10が好ましく、更に好ましくは4.0〜6.0である(後述。)。
水素ガス/酸素ガスのモル比を2.5以上とする条件は、従来の特許文献1(特開2003−137582号公報)に開示されたガラスロッド1を火炎研磨する条件に比べて、燃料ガスの水素ガスの供給量が多い条件である。
また、従来に比べて水素ガスの供給量が多いため、酸水素炎の還元作用を高めることができる。これにより酸水素炎に当たっているガラスロッド1の外周部において、ガラスのエッチング速度を増加させることができる。
以上により、酸水素炎によるガラスロッド1のエッチング速度を速めることができ、ガラスロッド1への水酸基の残留を抑制できる。また、ガラスロッド1のエッチング速度が速いため、ほぼ完全にガラスロッド1の外周面の傷を無くし、また異物を除去できる。
また、水素ガス/酸素ガスのモル比が2.0未満の場合、ガラスロッドの1の表面温度が低く、水酸基の拡散速度が遅いため、水酸基の残留濃度は低くなるが、ガラスロッド1をエッチングする効果が著しく乏しいため、ガラスロッド1の外周面の傷,異物等を除去できない。このため、火炎研磨後のガラスロッド1の外周部上にクラッド部の残部を形成して光ファイバ母材とすると、ガラスロッド1と外付け層との境界部に異物や気泡が残留したり欠陥、輝点等ができてしまう。
このように、水素ガス/酸素ガスのモル比が2.5未満では、ガラスロッド1に高濃度の水酸基が残留し、また十分にガラスロッド1の外周面の傷を無くし、異物を除去することができないため、好ましくない。
酸水素炎をガラスロッド1に当てた際のガラスロッド1表面の最高温度を1600℃〜2200℃とすることが好ましく、これにより水酸基の拡散速度に対してガラスロッド1のエッチング速度を更に速めることができ、ガラスロッド1への水酸基の残留を更に抑制できる。このようにして火炎研磨したガラスロッド1を用いて光ファイバ母材を形成し、この光ファイバ母材を線引きして光ファイバとすると、1383nmの水酸基吸収損失増分が0.030dB/km以下の水酸基による光損失の低い光ファイバが得られる。
また、ガラスロッド1表面の最高温度を2200℃よりも高くするためには、非常に高温度の酸水素炎を必要とし、酸水素炎を安定して発生させることが困難となるため、好ましくない。
なお、ガラスロッド1の表面温度は、バーナ2に供給する水素ガス/酸素ガスのモル比を調整して酸水素炎の温度を変化させるだけでなく、ガラスロッド1の回転速度、ガラスロッド1とバーナ2間の距離等を調整することによって、所望の値としても構わない。
このため、バーナ2に供給する水素ガス/酸素ガスのモル比は、2.5〜10が好ましく、更に好ましくは4.0〜6.0である。これにより安定して高温度の酸水素炎を発生させることができ、安定してガラスロッド1表面の最高温度を1600℃〜2200℃とすることができる。
ここで、式(I)中、Δrは、火炎研磨によるガラスロッド1の半径減少量[mm]、Lは、ガラスロッド1のうち酸水素炎に当たっている領域の幅(詳細には、ガラスロッド1に達するまでの酸水素炎の外周の延長線とガラスロッド1の表面とが交わる領域の幅である。)[mm]、Vは、ガラスロッド1に対するバーナ2の相対移動速度[mm/分]をそれぞれ示す。
ここで、Lは、ガラスロッド1に達するまでの酸水素炎の外周の延長線とガラスロッド1の表面とが交わる領域の幅[mm]であるが、このガラスロッド1に達するまでの酸水素炎の外周の延長線とガラスロッド1の表面とが交わる領域のうち、ガラスロッド1に対してバーナ2が相対移動する方向の距離(幅)を言う。この例では、バーナ2がガラスロッド1の中心軸に対して平行に移動するため、図1に示されたように、Lは、ガラスロッド1の酸水素炎に当たっている領域のうち、ガラスロッド1の中心軸方向の距離となる。
また、この例では、Vは、バーナ2の移動速度と近似される。
水酸基は、ガラスロッド1の外周部のうち酸水素炎が当たっている領域で生じ、この酸水素炎が当たっている間にガラスロッド1中に拡散すると考えられる。
エッチング速度(Δr・V/L)は、前記したようにガラスロッド1の外周部の任意の箇所に酸水素炎が当たっている時間をもとに算出されているため、このΔr・V/Lの値を大きくすることによって、水酸基の拡散速度に対してガラスロッド1のエッチング速度を速めることができ、ガラスロッド1に水酸基が残留することを抑制できる。
これにより、ガラスロッド1への水酸基の残留を更に抑制でき、火炎研磨したガラスロッド1を用いて光ファイバ母材を形成し、この光ファイバ母材を線引きして光ファイバとすると、光損失の低い光ファイバが得られる。
ガラスロッド1の半径減少量(Δr)は、酸水素炎の温度、ガラスロッド1に対するバーナ2の相対移動速度(V)を調整することによって変化させることができる。また、ガラスロッド1に達するまでの酸水素炎の外周の延長線とガラスロッド1の表面とが交わる領域の幅(L)は、ガラスロッド1とバーナ2間の距離を調整することによって変化させることができる。
またエッチング速度(Δr・V/L)を0.110mm/分よりも速くするためには、非常に高温度の酸水素炎を必要とし、酸水素炎を安定して発生させることが困難となるため、好ましくない。
VAD法等により石英ガラスからなる出発部材に石英ガラス微粒子を吹き付けてスート体をつくる。そして、スート体を1200℃程度で脱水した後、1500℃程度で焼結して透明化することによりガラスロッドを製造する。
ここで、ガラスロッドは、コア部のみからなるもの、又はコア部の周囲にクラッド部の一部が形成されたものである。
そして、ガラスロッドを前述した本発明の火炎研磨方法によって、火炎研磨し、ガラスロッドの外周部の傷を無くし、またガラスロッドに付着した異物を除去する。
次に、火炎研磨後のガラスロッドを所定の外径まで延伸した後、この延伸したガラスロッドを再度、前述した本発明の火炎研磨方法によって火炎研磨する。
この光ファイバ母材を線引きし、紡糸することによって、光ファイバを製造する。
まず、VAD法により、コア部と第一クラッド部から構成された外径110mm程度のガラスロッド1を作製し、試料として用いた。
ここで、本明細書では、延伸前のガラスロッド1をVAD母材と言い、延伸後のガラスロッド1を延伸母材と言う。
このVAD母材を前述した本発明の火炎研磨方法により、VAD母材の回転数を40rpmとして火炎研磨した。
得られた延伸母材A,Bを再度、本発明の火炎研磨方法で火炎研磨した。
延伸母材Aの火炎研磨の条件を表1に示す。
本実施例では、VAD母材と延伸母材にそれぞれ火炎研磨を行ったが、延伸母材に本発明の火炎研磨方法を適用することが有効であった。VAD母材では、本発明の火炎研磨方法を適用することは有用であるが、後工程で再び、延伸母材を火炎研磨してエッチングするため、その効果は小さいためである。
延伸母材A,B又は光ファイバ母材を輪切りにし、その両面を光学研磨して厚さ1.0mmとした後、赤外分光光度計によりガラス中に含まれる水酸基の濃度を測定した。この水酸基の濃度測定では、0.1mm間隔で半径方向を線分析した。
以上により、延伸母材については、表面近傍(外周部)の水酸基濃度を求め、また光ファイバ母材については延伸母材と外付け層(外付け法により形成された第二クラッド部)との境界部分の水酸基濃度を求めた。
ここで、外付け法により、延伸母材A,Bの外周部上に、第二クラッド部を形成する際、脱水焼結して透明ガラス化しているため、光ファイバ母材の外付け層の水酸基濃度は1ppm以下であり、光ファイバ母材中の水酸基は、延伸母材と外付け層との境界部のみに存在していた。
延伸母材Aについて得られた結果を表2に示す。
この条件でガラスロッド1を火炎研磨した際、ガラスロッド1表面の最高温度が1600℃〜2200℃であった。またエッチング速度(Δr・V/L)が0.028mm/分〜0.110mm/分であった。
バーナ2に供給する酸素ガスに対する水素ガスのモル比(水素ガス/酸素ガス)が2.5以上となるようにしてガラスロッド1を火炎研磨した場合、ガラスロッド1に残留する水酸基濃度が低く抑えられた。このため、火炎研磨後のガラスロッド1を用いて光ファイバ母材を形成し、この光ファイバ母材を線引きすると、水酸基による光損失の増加量が0.012dB/km以下の光ファイバが得られた。
また、酸水素炎の温度が低く、ガラスロッド1表面の最高温度が1480℃,1550℃と低い温度であった。このため、ガラスロッド1をエッチングする効果が乏しく、十分にガラスロッド1の外周面の傷を無くし、また異物を除去することができなかった。これにより、火炎研磨後のガラスロッド1の外周部上にクラッド部の残部を形成して光ファイバ母材とすると、ガラスロッド1と外付け層との境界部に異物や気泡が残留してしまった。
この光ファイバ母材を線引きすると、図2に示されたように、水酸基による光損失の増加量が、条件1−2では0.035dB/km、条件2−2では0.033dB/kmであり、光損失の多い光ファイバが得られた。
しかし、ガラスロッド1をエッチングする効果が著しく乏しいため、ガラスロッド1の外周面の傷,異物等を除去できなかった。このため、火炎研磨後のガラスロッド1の外周部上にクラッド部の残部を形成して光ファイバ母材とすると、ガラスロッド1と外付け層との境界部に異物や気泡が多数残留してしまった。得られた光ファイバ母材を線引きすると、残留した異物や気泡のために途中で断線してしまい線引きできなかった。
水素ガス/酸素ガスのモル比が2.5〜10.0であり、かつガラスロッド1表面の最高温度が1600℃〜2200℃となるようにしてガラスロッド1を火炎研磨した場合、ガラスロッド1に残留する水酸基濃度が低く抑えられた。このため、火炎研磨後のガラスロッド1を用いて光ファイバ母材を形成し、この光ファイバ母材を線引きすると、水酸基による光損失の増加量が0.012dB/km以下の光ファイバが得られた。
水素ガス/酸素ガスのモル比が2.5〜10.0であり、かつエッチング速度(Δr・V/L)が0.028mm/分〜0.110mm/分となるようにしてガラスロッド1を火炎研磨した場合、ガラスロッド1に残留する水酸基濃度が低く抑えられ、この火炎研磨後のガラスロッド1を用いて光ファイバ母材を形成し、この光ファイバ母材を線引きすると、水酸基による光損失の増加量が0.012dB/km以下の光ファイバが得られた。
Claims (2)
- 酸水素炎をガラスロッドに当てて加熱、研磨するガラスロッドの火炎研磨方法において、
酸素ガスに対する水素ガスの供給量のモル比(水素ガス/酸素ガス)を5.0〜7.0とし、かつガラスロッド表面の最高温度を2010℃〜2200℃とし、
酸水素炎によるガラスロッドのエッチング速度(Δr・V/L)が0.028mm/分〜0.110mm/分となるように、火炎研磨によるガラスロッドの半径減少量Δr、ガラスロッドのうち酸水素炎に当たっている領域の幅L、ガラスロッドに対するバーナの相対移動速度Vを調整することを特徴とするガラスロッドの火炎研磨方法。 - 石英ガラスからなる出発部材にガラス微粒子を吹き付けてスート体とし、これを脱水、透明処理した後、延伸してガラスロッドを得て、該ガラスロッドにガラス微粒子を吹き付け、脱水、透明処理して得られる光ファイバ母材を線引きする光ファイバの製造方法において、
少なくともガラス微粒子を吹き付ける前のガラスロッドを、請求項1に記載のガラスロッドの火炎研磨方法で研磨することを特徴とする光ファイバの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004108788A JP4498802B2 (ja) | 2004-04-01 | 2004-04-01 | ガラスロッドの火炎研磨方法、光ファイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004108788A JP4498802B2 (ja) | 2004-04-01 | 2004-04-01 | ガラスロッドの火炎研磨方法、光ファイバの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005289747A JP2005289747A (ja) | 2005-10-20 |
JP4498802B2 true JP4498802B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=35323133
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004108788A Expired - Lifetime JP4498802B2 (ja) | 2004-04-01 | 2004-04-01 | ガラスロッドの火炎研磨方法、光ファイバの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4498802B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115448584B (zh) * | 2022-09-09 | 2023-07-14 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 一种高膨胀玻璃棒火焰抛光方法及装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0756025A (ja) * | 1993-08-09 | 1995-03-03 | Fujikura Ltd | 光ファイバの製造方法 |
JPH08310823A (ja) * | 1995-05-15 | 1996-11-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス母材の火炎研磨方法 |
JPH11106230A (ja) * | 1997-10-01 | 1999-04-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラスロッド加工用バーナ及びガラスロッドの加工方法 |
JP2000264669A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-26 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
JP2003020239A (ja) * | 2001-07-06 | 2003-01-24 | Fujikura Ltd | 光ファイバプリフォームの加工方法 |
JP2003089540A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-28 | Fujikura Ltd | 光ファイバプリフォームの火炎研磨方法 |
JP2003137582A (ja) * | 2001-10-24 | 2003-05-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
JP2003146687A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-05-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ母材の製造方法 |
-
2004
- 2004-04-01 JP JP2004108788A patent/JP4498802B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0756025A (ja) * | 1993-08-09 | 1995-03-03 | Fujikura Ltd | 光ファイバの製造方法 |
JPH08310823A (ja) * | 1995-05-15 | 1996-11-26 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス母材の火炎研磨方法 |
JPH11106230A (ja) * | 1997-10-01 | 1999-04-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラスロッド加工用バーナ及びガラスロッドの加工方法 |
JP2000264669A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-26 | Hitachi Cable Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
JP2003020239A (ja) * | 2001-07-06 | 2003-01-24 | Fujikura Ltd | 光ファイバプリフォームの加工方法 |
JP2003089540A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-28 | Fujikura Ltd | 光ファイバプリフォームの火炎研磨方法 |
JP2003137582A (ja) * | 2001-10-24 | 2003-05-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ母材の製造方法 |
JP2003146687A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-05-21 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ母材の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005289747A (ja) | 2005-10-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1112976B1 (fr) | Procédé de refroidissement d'une fibre optique en cours de fibrage | |
US6535679B2 (en) | Optical fiber and method of manufacturing the same | |
KR20060033861A (ko) | 점도 불일치를 감소시킨 광섬유 | |
KR19980064732A (ko) | 광파이버와 이것을 제조하는 방법 | |
JP4399357B2 (ja) | 合成により製造された石英ガラスからなるジャケット管およびジャケット管を使用して製造される光ファイバー | |
JP2980501B2 (ja) | 大型石英ガラス管、大型石英ガラスプリフォ−ムおよびそれらの製造方法 | |
JP4808906B2 (ja) | 単一モード光ファイバーおよび単一モード光ファイバーの製造法 | |
JP4498802B2 (ja) | ガラスロッドの火炎研磨方法、光ファイバの製造方法 | |
JP4463605B2 (ja) | 光ファイバ母材およびその製造方法 | |
JP4400026B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
EP2789589B1 (en) | Glass optical fibre preform and method for its manufacture | |
KR20030003018A (ko) | 산소 화학량론을 조정하여 광섬유를 제조하는 방법 및 장치 | |
JPH1171125A (ja) | 光ファイバ用プリフォームの製造方法 | |
JP4376702B2 (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JP4409481B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
JP4459875B2 (ja) | 光ファイバ用母材とその製造方法、光ファイバの製造方法 | |
EP2481715B1 (en) | Method of manufacturing an optical fiber preform | |
US20040118164A1 (en) | Method for heat treating a glass article | |
FR2489297A1 (fr) | Procede de fabrication d'une preforme pour guide de lumiere et preforme ainsi obtenue | |
JP4057332B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
JPH0437623A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
JPH085856A (ja) | 石英系光ファイバとその製造方法 | |
JP2005200255A (ja) | 光ファイバプリフォームの製造方法及び光ファイバ | |
JP2005029399A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
JP2004067418A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061128 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090424 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090507 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090702 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090901 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091201 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20091209 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100406 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100414 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4498802 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140423 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |