JPH11106230A - ガラスロッド加工用バーナ及びガラスロッドの加工方法 - Google Patents
ガラスロッド加工用バーナ及びガラスロッドの加工方法Info
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- JPH11106230A JPH11106230A JP9268350A JP26835097A JPH11106230A JP H11106230 A JPH11106230 A JP H11106230A JP 9268350 A JP9268350 A JP 9268350A JP 26835097 A JP26835097 A JP 26835097A JP H11106230 A JPH11106230 A JP H11106230A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/01205—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments starting from tubes, rods, fibres or filaments
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
- C03B29/02—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a discontinuous way
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 酸素流量を大幅に増やさずにガラスロッドを
効率よく加熱できる、ガラスロッド加工用バーナーとそ
れに適したガスの流しかたを提供する。 【解決手段】 円形状の水素噴出口中に、１個若しくは
複数個の酸素噴出口が配置し、酸素噴出口の断面積の総
和が水素噴出口の断面積の２％以上１０％以下であるガ
ラスロッド加工用バーナと、前記ガラスロッド加工用バ
ーナを用い、前記酸素噴出口におけるガス流速を２０ｍ
／ｓ以上１００ｍ／ｓ以下、前記水素噴出口におけるガ
ス流速を０．５ｍ／ｓ以上２０ｍ／ｓ以下とする。
効率よく加熱できる、ガラスロッド加工用バーナーとそ
れに適したガスの流しかたを提供する。 【解決手段】 円形状の水素噴出口中に、１個若しくは
複数個の酸素噴出口が配置し、酸素噴出口の断面積の総
和が水素噴出口の断面積の２％以上１０％以下であるガ
ラスロッド加工用バーナと、前記ガラスロッド加工用バ
ーナを用い、前記酸素噴出口におけるガス流速を２０ｍ
／ｓ以上１００ｍ／ｓ以下、前記水素噴出口におけるガ
ス流速を０．５ｍ／ｓ以上２０ｍ／ｓ以下とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバの製造
工程において、ガラスロッドの曲がり修正や火炎研磨、
あるいは、ガラスロッドへのダミーガラスロッドの溶着
を行うガラスロッドの加工方法、及び、これに用いられ
るガラスロッド加工用バーナに関するものである。
工程において、ガラスロッドの曲がり修正や火炎研磨、
あるいは、ガラスロッドへのダミーガラスロッドの溶着
を行うガラスロッドの加工方法、及び、これに用いられ
るガラスロッド加工用バーナに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバの製造工程において、ガラス
ロッドの曲がり修正や火炎研磨、あるいは、ガラスロッ
ドへのダミーロッドの溶着といったガラスロッドの加工
に用いられる従来のバーナとして、特開平４−２９２４
３２号公報従来の技術欄に記載されたものが知られてい
る。図２はこの従来のバーナ構造を示したもので、真円
形状の水素噴出口１中に多数の酸素噴出口２がほぼ均等
間隔で配列された構造である。
ロッドの曲がり修正や火炎研磨、あるいは、ガラスロッ
ドへのダミーロッドの溶着といったガラスロッドの加工
に用いられる従来のバーナとして、特開平４−２９２４
３２号公報従来の技術欄に記載されたものが知られてい
る。図２はこの従来のバーナ構造を示したもので、真円
形状の水素噴出口１中に多数の酸素噴出口２がほぼ均等
間隔で配列された構造である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】光ファイバの低コスト
化、生産量増大に対する要求から、光ファイバ母材等の
ガラスロッドの大型化が望まれている。大型のガラスロ
ッドを加工するため、バーナーを相似的に大型化してい
くと、それに伴ってガス使用量を多くする必要がある。
その結果、ガス費が増大し、また、ガラスロッドの周辺
設備も同時に加熱されてしまうため、設備の耐熱性が問
題になる等、従来技術の延長線上では解決できない問題
が生じる。本発明は、このような実状に鑑みて、新たな
形状のガラスロッド加工用バーナーとそれに適したガス
の流しかたを開示するものである。
化、生産量増大に対する要求から、光ファイバ母材等の
ガラスロッドの大型化が望まれている。大型のガラスロ
ッドを加工するため、バーナーを相似的に大型化してい
くと、それに伴ってガス使用量を多くする必要がある。
その結果、ガス費が増大し、また、ガラスロッドの周辺
設備も同時に加熱されてしまうため、設備の耐熱性が問
題になる等、従来技術の延長線上では解決できない問題
が生じる。本発明は、このような実状に鑑みて、新たな
形状のガラスロッド加工用バーナーとそれに適したガス
の流しかたを開示するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明にかかるガラスロ
ッド加工用バーナは、水素噴出口中に、１個若しくは複
数個の酸素噴出口が配置され、前記酸素噴出口の断面積
の総和が前記水素噴出口の断面積の２％以上１０％以下
であることを特徴とする。また、本発明にかかるガラス
ロッドの加工方法は、前記ガラスロッド加工用バーナを
用い、前記酸素噴出口におけるガス流速を２０ｍ／ｓ以
上１００ｍ／ｓ以下、前記水素噴出口におけるガス流速
を０．５ｍ／ｓ以上２０ｍ／ｓ以下とすることを特徴と
する。
ッド加工用バーナは、水素噴出口中に、１個若しくは複
数個の酸素噴出口が配置され、前記酸素噴出口の断面積
の総和が前記水素噴出口の断面積の２％以上１０％以下
であることを特徴とする。また、本発明にかかるガラス
ロッドの加工方法は、前記ガラスロッド加工用バーナを
用い、前記酸素噴出口におけるガス流速を２０ｍ／ｓ以
上１００ｍ／ｓ以下、前記水素噴出口におけるガス流速
を０．５ｍ／ｓ以上２０ｍ／ｓ以下とすることを特徴と
する。
【０００５】
【発明の実施の形態】ガラスロッドを効率よく加熱する
ためには、酸素と水素の流量比を反応の当量（１：２）
に依存する適正範囲にすること、及び、火炎をガラスロ
ッドに集中させることが必要である。発明者が後者の点
について検討を行ったところ、分子量が水素に比べて大
きい酸素の噴出口での流速を大きくすることにより、火
炎がガラスロッドに集中し、少ないガス使用量でガラス
ロッドを効率よく加熱できることが判明した。
ためには、酸素と水素の流量比を反応の当量（１：２）
に依存する適正範囲にすること、及び、火炎をガラスロ
ッドに集中させることが必要である。発明者が後者の点
について検討を行ったところ、分子量が水素に比べて大
きい酸素の噴出口での流速を大きくすることにより、火
炎がガラスロッドに集中し、少ないガス使用量でガラス
ロッドを効率よく加熱できることが判明した。
【０００６】本発明にかかるガラスロッド加工用バーナ
は、図１に示すように、水素噴出口１中に、１個若しく
は複数個の酸素噴出口２が配置され、酸素噴出口の断面
積の総和が水素噴出口の断面積の２％以上１０％以下で
あることを特徴とする。上記の構成によれば、酸素噴出
口２の断面積は比較的小さいので、酸素流量を多くせず
とも酸素噴出口での酸素流速を大きくできる。その結
果、火炎はガラスロッドに向かって集中して流れるよう
になり、ガラスロッドを効率よく加熱できる。
は、図１に示すように、水素噴出口１中に、１個若しく
は複数個の酸素噴出口２が配置され、酸素噴出口の断面
積の総和が水素噴出口の断面積の２％以上１０％以下で
あることを特徴とする。上記の構成によれば、酸素噴出
口２の断面積は比較的小さいので、酸素流量を多くせず
とも酸素噴出口での酸素流速を大きくできる。その結
果、火炎はガラスロッドに向かって集中して流れるよう
になり、ガラスロッドを効率よく加熱できる。
【０００７】本発明にかかるガラスロッド加工用バーナ
として、酸素噴出口がバーナ中心軸上の１点を指向する
構造とすることができる。これにより、火炎がバーナの
中心軸上に一層集中するので、ガラスロッドをより効率
的に加熱することができる。
として、酸素噴出口がバーナ中心軸上の１点を指向する
構造とすることができる。これにより、火炎がバーナの
中心軸上に一層集中するので、ガラスロッドをより効率
的に加熱することができる。
【０００８】本発明にかかるガラスロッドの加工方法
は、酸素噴出口の断面積の総和が水素噴出口の断面積の
２％以上１０％以下であるガラスロッド加工用バーナを
用い、酸素噴出口におけるガス流速を２０ｍ／ｓ以上１
００ｍ／ｓ以下、水素噴出口におけるガス流速を０．５
ｍ／ｓ以上２０ｍ／ｓ以下とすることを特徴とする。上
記の構成によれば、火炎がガラスロッドに集中し、ガラ
スロッドを効率よく加熱できる。また、火炎が必要以上
に大きくならず、周辺設備に悪影響を与えることが少な
い。なお、水素噴出口のノズル出口におけるガス流速は
５ｍ／ｓ以上１２ｍ／ｓ以下がより好ましい。
は、酸素噴出口の断面積の総和が水素噴出口の断面積の
２％以上１０％以下であるガラスロッド加工用バーナを
用い、酸素噴出口におけるガス流速を２０ｍ／ｓ以上１
００ｍ／ｓ以下、水素噴出口におけるガス流速を０．５
ｍ／ｓ以上２０ｍ／ｓ以下とすることを特徴とする。上
記の構成によれば、火炎がガラスロッドに集中し、ガラ
スロッドを効率よく加熱できる。また、火炎が必要以上
に大きくならず、周辺設備に悪影響を与えることが少な
い。なお、水素噴出口のノズル出口におけるガス流速は
５ｍ／ｓ以上１２ｍ／ｓ以下がより好ましい。
【０００９】
（実施例1）図３に示すように、直径７０ｍｍ、長さ８
００ｍｍの光ファイバ母材３１をダミーガラス棒３２を
介して横形旋盤のチャック３３に保持し、バーナ台３４
に半円周状に等間隔で９本並べたバーナ３５から、酸水
素火炎を光ファイバ母材３１に吹き付けて火炎研磨を行
った。バーナ３５として、図１（ａ）に示す円柱状の水
素噴出口１中に３個の酸素噴出口２が配置されたバーナ
（水素噴出口の内径１０ｍｍ、酸素噴出口の内径０．８
ｍｍ、酸素噴出口の外径２．０ｍｍ、酸素噴出口の断面
積と水素噴出口の断面積の比２．２％；表１のバーナ
Ａ）を用いた。一本のバーナあたり、水素ガスの流量は
５×１０-4ｍ3／ｓ（約３０リットル／分）、酸素の流
量は２×１０-4ｍ3／ｓ（約１２リットル／分）とし
た。この時の母材表面温度と火炎研磨による外径変化量
（ガラス蒸発量）は、それぞれ表２に示すように、１６
００℃、０．６ｍｍであり、火炎研磨後のガラス母材の
表面状態は良好であった。
００ｍｍの光ファイバ母材３１をダミーガラス棒３２を
介して横形旋盤のチャック３３に保持し、バーナ台３４
に半円周状に等間隔で９本並べたバーナ３５から、酸水
素火炎を光ファイバ母材３１に吹き付けて火炎研磨を行
った。バーナ３５として、図１（ａ）に示す円柱状の水
素噴出口１中に３個の酸素噴出口２が配置されたバーナ
（水素噴出口の内径１０ｍｍ、酸素噴出口の内径０．８
ｍｍ、酸素噴出口の外径２．０ｍｍ、酸素噴出口の断面
積と水素噴出口の断面積の比２．２％；表１のバーナ
Ａ）を用いた。一本のバーナあたり、水素ガスの流量は
５×１０-4ｍ3／ｓ（約３０リットル／分）、酸素の流
量は２×１０-4ｍ3／ｓ（約１２リットル／分）とし
た。この時の母材表面温度と火炎研磨による外径変化量
（ガラス蒸発量）は、それぞれ表２に示すように、１６
００℃、０．６ｍｍであり、火炎研磨後のガラス母材の
表面状態は良好であった。
【００１０】
【表１】
【００１１】
【表２】
【００１２】（実施例２）実施例１で使用したバーナＡ
に代え、表１のバーナＢ（酸素噴出口の断面積と水素噴
出口の断面積の比３．７％），Ｃ（酸素噴出口の断面積
と水素噴出口の断面積の比５．９％），Ｄ（酸素噴出口
の断面積と水素噴出口の断面積の比９．３％）を使用し
て光ファイバ母材の火炎研磨を行った。その他の構成
は、実施例１と同じとした。この時の母材表面温度と火
炎研磨による外径変化量（ガラス蒸発量）は、それぞれ
表２に示すように、１５００−１７００℃、０．４−
０．８ｍｍであり、火炎研磨後のガラス母材の表面状態
は良好であった。
に代え、表１のバーナＢ（酸素噴出口の断面積と水素噴
出口の断面積の比３．７％），Ｃ（酸素噴出口の断面積
と水素噴出口の断面積の比５．９％），Ｄ（酸素噴出口
の断面積と水素噴出口の断面積の比９．３％）を使用し
て光ファイバ母材の火炎研磨を行った。その他の構成
は、実施例１と同じとした。この時の母材表面温度と火
炎研磨による外径変化量（ガラス蒸発量）は、それぞれ
表２に示すように、１５００−１７００℃、０．４−
０．８ｍｍであり、火炎研磨後のガラス母材の表面状態
は良好であった。
【００１３】（実施例３）実施例１で使用したバーナＡ
に代え、図１（ｂ）に示す円柱状の水素噴出口１中に７
個の酸素噴出口２が配置されたバーナ（水素噴出口の内
径１２ｍｍ、酸素噴出口の内径０．８ｍｍ、酸素噴出口
の外径２．０ｍｍ、酸素噴出口の断面積と水素噴出口の
断面積の比３．９％；表１のバーナＥ）を使用して光フ
ァイバ母材の火炎研磨を行った。その他の構成は、実施
例１と同じとした。この時の母材表面温度と火炎研磨に
よる外径変化量（ガラス蒸発量）は、表２に示すよう
に、１６００℃、０．６ｍｍであり、火炎研磨後のガラ
ス母材の表面状態は良好であった。
に代え、図１（ｂ）に示す円柱状の水素噴出口１中に７
個の酸素噴出口２が配置されたバーナ（水素噴出口の内
径１２ｍｍ、酸素噴出口の内径０．８ｍｍ、酸素噴出口
の外径２．０ｍｍ、酸素噴出口の断面積と水素噴出口の
断面積の比３．９％；表１のバーナＥ）を使用して光フ
ァイバ母材の火炎研磨を行った。その他の構成は、実施
例１と同じとした。この時の母材表面温度と火炎研磨に
よる外径変化量（ガラス蒸発量）は、表２に示すよう
に、１６００℃、０．６ｍｍであり、火炎研磨後のガラ
ス母材の表面状態は良好であった。
【００１４】（実施例４）実施例３で使用したバーナＥ
に代え、表１のバーナＦ（酸素噴出口の断面積と水素噴
出口の断面積の比７．０％）を使用して光ファイバ母材
の火炎研磨を行った。その他の構成は、実施例１と同じ
とした。この時の母材表面温度と火炎研磨による外径変
化量（ガラス蒸発量）は、表２に示すように、１４００
℃、０．２ｍｍであり、火炎研磨後のガラス母材の表面
状態は良好であった。
に代え、表１のバーナＦ（酸素噴出口の断面積と水素噴
出口の断面積の比７．０％）を使用して光ファイバ母材
の火炎研磨を行った。その他の構成は、実施例１と同じ
とした。この時の母材表面温度と火炎研磨による外径変
化量（ガラス蒸発量）は、表２に示すように、１４００
℃、０．２ｍｍであり、火炎研磨後のガラス母材の表面
状態は良好であった。
【００１５】（実施例５）実施例１で使用したバーナＡ
に代え、図１（ｃ）のバーナ（水素噴出口の内寸８ｍｍ
×１２ｍｍ、酸素噴出口の内径１ｍｍ、酸素噴出口の外
径２．５ｍｍ、酸素噴出口の断面積と水素噴出口の断面
積の比７．０％；表1のバーナＩ）を使用して光ファイ
バ母材の火炎研磨を行った。この時の母材表面温度と火
炎研磨による外径変化量（ガラス蒸発量）は、表２に示
すように、１４００℃、０．２ｍｍであり、火炎研磨後
のガラス母材の表面状態は良好であった。
に代え、図１（ｃ）のバーナ（水素噴出口の内寸８ｍｍ
×１２ｍｍ、酸素噴出口の内径１ｍｍ、酸素噴出口の外
径２．５ｍｍ、酸素噴出口の断面積と水素噴出口の断面
積の比７．０％；表1のバーナＩ）を使用して光ファイ
バ母材の火炎研磨を行った。この時の母材表面温度と火
炎研磨による外径変化量（ガラス蒸発量）は、表２に示
すように、１４００℃、０．２ｍｍであり、火炎研磨後
のガラス母材の表面状態は良好であった。
【００１６】（比較例１）実施例３で使用したバーナＥ
に代え、表１のバーナＧ（酸素噴出口の断面積と水素噴
出口の断面積の比１２％），Ｈ（酸素噴出口の断面積と
水素噴出口の断面積の比２３％）を使用して光ファイバ
母材の火炎研磨を行った。その他の構成は、実施例１と
同じとした。この時の母材表面温度と火炎研磨による外
径変化量（ガラス蒸発量）は、それぞれ表２に示すよう
に、１３００−１３５０℃、０．０５−０．１５ｍｍで
あり、火炎研磨後のガラス母材の表面にはクラックが生
じた。これは、母材中心まで高温に加熱できなかったた
め、冷却時に表面が急冷し生じたものである。
に代え、表１のバーナＧ（酸素噴出口の断面積と水素噴
出口の断面積の比１２％），Ｈ（酸素噴出口の断面積と
水素噴出口の断面積の比２３％）を使用して光ファイバ
母材の火炎研磨を行った。その他の構成は、実施例１と
同じとした。この時の母材表面温度と火炎研磨による外
径変化量（ガラス蒸発量）は、それぞれ表２に示すよう
に、１３００−１３５０℃、０．０５−０．１５ｍｍで
あり、火炎研磨後のガラス母材の表面にはクラックが生
じた。これは、母材中心まで高温に加熱できなかったた
め、冷却時に表面が急冷し生じたものである。
【００１７】実施例１乃至５、及び、比較例１により断
面積比が２%以上１０%以下のバーナで効率よく火炎研磨
を行うことができ、火炎研磨後の表面状態が良好となる
ことがわかった。
面積比が２%以上１０%以下のバーナで効率よく火炎研磨
を行うことができ、火炎研磨後の表面状態が良好となる
ことがわかった。
【００１８】（実施例６）表１のバーナＡ，Ｃ，Ｅ，Ｆ
を使用し、実施例1と同一形状の光ファイバ母材の火炎
研磨を行った。バーナの配置は実施例1と同一で、水素
ガスの流量は一本のバーナあたり５×１０-4ｍ3／ｓ
（約３０リットル／分）に固定した。酸素の流量を変化
させて、母材表面温度、外径変化量、表面状態を調べた
結果を表３に示す。
を使用し、実施例1と同一形状の光ファイバ母材の火炎
研磨を行った。バーナの配置は実施例1と同一で、水素
ガスの流量は一本のバーナあたり５×１０-4ｍ3／ｓ
（約３０リットル／分）に固定した。酸素の流量を変化
させて、母材表面温度、外径変化量、表面状態を調べた
結果を表３に示す。
【００１９】
【表３】
【００２０】酸素噴出口におけるガス流速が１８ｍ／ｓ
の場合、火炎研磨後の表面の一部に、クラックが発生し
た。また、酸素噴出口におけるガス流速が１３０ｍ／ｓ
の場合、酸素噴出口におけるガス流速が６５ｍ／ｓの場
合と比べて母材温度、外径変化量に大差は無く酸素ガス
流量を増やした効果は認められなかった。以上の結果よ
り、酸素噴出口におけるガス流量の好適値は、２０ｍ／
ｓ以上１００ｍ／ｓ以下であることがわかった。
の場合、火炎研磨後の表面の一部に、クラックが発生し
た。また、酸素噴出口におけるガス流速が１３０ｍ／ｓ
の場合、酸素噴出口におけるガス流速が６５ｍ／ｓの場
合と比べて母材温度、外径変化量に大差は無く酸素ガス
流量を増やした効果は認められなかった。以上の結果よ
り、酸素噴出口におけるガス流量の好適値は、２０ｍ／
ｓ以上１００ｍ／ｓ以下であることがわかった。
【００２１】（実施例７）表１のバーナＦを使用し、実
施例1と同一形状の光ファイバ母材の火炎研磨を行っ
た。バーナの配置は実施例1と同一で、酸素の流量は一
本のバーナあたり３×１０-4ｍ3／ｓ（約１８リットル
／分）に固定した。水素の流量を変化させて、母材表面
温度、外径変化量、表面状態を調べた結果を表４に示
す。
施例1と同一形状の光ファイバ母材の火炎研磨を行っ
た。バーナの配置は実施例1と同一で、酸素の流量は一
本のバーナあたり３×１０-4ｍ3／ｓ（約１８リットル
／分）に固定した。水素の流量を変化させて、母材表面
温度、外径変化量、表面状態を調べた結果を表４に示
す。
【００２２】
【表４】
【００２３】水素噴出口におけるガス流速が０．３８ｍ
／ｓの場合、火炎研磨後の表面に折り返し点の近くに、
クラックが発生した。また、水素噴出口におけるガス流
速が大きくなるにしたがって母材表面温度は高くなり、
ガラスロッドは強く加熱されているが、水素流量の増加
とともに経費が急速に増大するので、２０ｍ／ｓを超え
る流速は実用的ではない。以上の結果より、水素噴出口
におけるガス流量の好適値は、０．５ｍ／ｓ以上２０ｍ
／ｓ以下であることがわかった。
／ｓの場合、火炎研磨後の表面に折り返し点の近くに、
クラックが発生した。また、水素噴出口におけるガス流
速が大きくなるにしたがって母材表面温度は高くなり、
ガラスロッドは強く加熱されているが、水素流量の増加
とともに経費が急速に増大するので、２０ｍ／ｓを超え
る流速は実用的ではない。以上の結果より、水素噴出口
におけるガス流量の好適値は、０．５ｍ／ｓ以上２０ｍ
／ｓ以下であることがわかった。
【００２４】（実施例８）表１のバーナＣとバーナ先端
の断面形状が同じであり、酸素噴出口がバーナ中心軸上
の一点を指向した焦点型構造のバーナを用いて火炎研磨
を行った。光ファイバ母材の形状、バーナの配置、酸
素、水素の流量は実施例１と同じである。この時の母材
表面温度は１６５０℃で、実施例１のバーナＣでの母材
表面温度より５０Ｋ高かった。焦点型構造とすれば、酸
素噴出口がストレートに配置されるバーナよりもガラス
ロッドを効率的に加熱できることを確認した。
の断面形状が同じであり、酸素噴出口がバーナ中心軸上
の一点を指向した焦点型構造のバーナを用いて火炎研磨
を行った。光ファイバ母材の形状、バーナの配置、酸
素、水素の流量は実施例１と同じである。この時の母材
表面温度は１６５０℃で、実施例１のバーナＣでの母材
表面温度より５０Ｋ高かった。焦点型構造とすれば、酸
素噴出口がストレートに配置されるバーナよりもガラス
ロッドを効率的に加熱できることを確認した。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本願の構成によれ
ば、酸素流量を大幅に増やさずにガラスロッドを効率よ
く加熱できる。
ば、酸素流量を大幅に増やさずにガラスロッドを効率よ
く加熱できる。
【図1】本発明にかかるガラスロッド加工用バーナを示
す模式図である。
す模式図である。
【図２】従来のガラスロッド加工用バーナを示す模式図
である。
である。
【図3】ガラス母材の火炎研磨の一例を示した概略説明
図である。
図である。
１：水素噴出口 ２：酸素噴出口 ３１：光ファイバ母材 ３２：ダミーガラス棒 ３３：チャック ３４：バーナ台 ３５：バーナ
Claims (3)
- 【請求項１】 水素噴出口中に、１個若しくは複数個の
酸素噴出口が配置され、前記酸素噴出口の断面積の総和
が前記水素噴出口の断面積の２％以上１０％以下である
ことを特徴とするガラスロッド加工用バーナ。 - 【請求項２】 前記酸素噴出口が、バーナ中心軸上の１
点を指向していることを特徴とする請求項１に記載のガ
ラスロッド加工用バーナ。 - 【請求項３】 請求項1に記載のガラスロッド加工用バ
ーナを用い、前記酸素噴出口におけるガス流速を２０ｍ
／ｓ以上１００ｍ／ｓ以下、前記水素噴出口におけるガ
ス流速を０．５ｍ／ｓ以上２０ｍ／ｓ以下とすることを
特徴とするガラスロッドの加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26835097A JP3465554B2 (ja) | 1997-10-01 | 1997-10-01 | ガラスロッド加工用バーナ及びガラスロッドの加工方法 |
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| JP26835097A JP3465554B2 (ja) | 1997-10-01 | 1997-10-01 | ガラスロッド加工用バーナ及びガラスロッドの加工方法 |
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| JPH11106230A true JPH11106230A (ja) | 1999-04-20 |
| JP3465554B2 JP3465554B2 (ja) | 2003-11-10 |
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ID=17457322
Family Applications (1)
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| JP26835097A Expired - Lifetime JP3465554B2 (ja) | 1997-10-01 | 1997-10-01 | ガラスロッド加工用バーナ及びガラスロッドの加工方法 |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP3465554B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003089540A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-28 | Fujikura Ltd | 光ファイバプリフォームの火炎研磨方法 |
| JP2005289747A (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-20 | Fujikura Ltd | ガラスロッドの火炎研磨方法、光ファイバの製造方法 |
-
1997
- 1997-10-01 JP JP26835097A patent/JP3465554B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003089540A (ja) * | 2001-09-11 | 2003-03-28 | Fujikura Ltd | 光ファイバプリフォームの火炎研磨方法 |
| JP4628613B2 (ja) * | 2001-09-11 | 2011-02-09 | 株式会社フジクラ | 光ファイバプリフォームの火炎研磨方法 |
| JP2005289747A (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-20 | Fujikura Ltd | ガラスロッドの火炎研磨方法、光ファイバの製造方法 |
| JP4498802B2 (ja) * | 2004-04-01 | 2010-07-07 | 株式会社フジクラ | ガラスロッドの火炎研磨方法、光ファイバの製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3465554B2 (ja) | 2003-11-10 |
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