JP2006139965A - 走査型電子顕微鏡及び半導体検査システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1次電子ビーム108を試料ウェハ106に照射する電子源101、加速電極102、集束レンズ103、偏向器104、対物レンズ105等と、試料ウェハ106から発生する放出電子信号109をサンプリングしてデジタル画像を取得する検出器110、デジタル化手段111等と、取得した前記デジタル画像の記憶、表示もしくは処理を行う画像メモリ116、入出力部118、画像生成部115、画像処理部114等とを備えた走査型電子顕微鏡に、前記記憶、表示もしくは処理されるデジタル画像の画素サイズよりも細かい間隔で放出電子信号109をサンプリングするサンプリング手段と、サンプリングされた放出電子信号109を元に画素サイズを大きくしてデジタル画像を生成する画像生成処理手段とを設ける。
【選択図】 図1
Description
Claims (9)
- 電子ビームを試料に照射する手段と、
前記試料から発生する電子線信号をサンプリングしてデジタル画像を取得する手段と、
取得した前記デジタル画像の記憶、表示、処理のいずれか1以上を行う手段とを有する走査型電子顕微鏡であって、
前記記憶、表示もしくは処理されるデジタル画像の画素サイズよりも細かい間隔で前記電子線信号をサンプリングするサンプリング手段と、
サンプリングされた前記電子線信号を元に画素サイズを大きくしてデジタル画像を生成する画像生成処理手段とを有することを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項1記載の走査型電子顕微鏡において、
前記サンプリング手段におけるサンプリングは、前記記憶、表示もしくは処理されるデジタル画像の画素間隔に対し、前記画素間隔より小さい所定量だけ、前記デジタル画像の縦、横もしくは斜め方向にずれた箇所で行われることを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項1又は2記載の走査型電子顕微鏡において、
前記画像生成処理手段は、デコンボリューション処理を行う機能を含むことを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の走査型電子顕微鏡において、
前記画像生成処理手段は、画像間引き処理を行う機能を含むことを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の走査型電子顕微鏡において、
撮像時の加速電圧、プローブ電流、撮像倍率のいずれか1以上の条件に応じて、前記記憶、表示もしくは処理される前記デジタル画像の画素サイズ、又は前記サンプリング手段におけるサンプリング条件を変更する機能を有することを特徴とする走査型電子顕微鏡。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の走査型電子顕微鏡を用いた半導体検査システムであって、
前記画像生成処理手段により生成された前記デジタル画像を用いて、前記デジタル画像に撮像された半導体パターンの寸法を測定する機能を有することを特徴とする半導体検査システム。 - 請求項6記載の半導体検査システムであって、
検査パターンを探索するために画像を撮像するステップと、検査パターンを計測するために画像を撮像するステップとの間において、取得する前記デジタル画像の画素サイズ、又は前記サンプリング手段におけるサンプリング条件を変更する機能を有することを特徴とする半導体検査システム。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の走査型電子顕微鏡を用いた半導体検査システムであって、
前記画像生成処理手段により生成された前記デジタル画像を用いて、半導体ウェハ上の欠陥画像を収集もしくは分類する機能を有することを特徴とする半導体検査システム。 - 請求項8記載の半導体検査システムであって、
欠陥パターンを探索するために画像を撮像するステップと、欠陥パターンを計測するために画像を撮像するステップとの間において、取得する前記デジタル画像の画素サイズ、又は前記サンプリング手段におけるサンプリング条件を変更する機能を有することを特徴とする半導体検査システム。
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