JP2006139092A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
所定間隔で相対向すると共に平面的に見て少なくとも一辺において一方の基板(10)が他方の基板(20)より張り出している一対の基板を備える。一方の基板には、表示用電極を駆動する回路部が設けられ、前記一辺において張り出してなる張り出し部(201)における他方の基板と対向する側の面には、回路部と引出し配線(103a)によって電気的に接続された複数の外部接続端子(102a)が設けられている。外部接続端子は、平面的に見て、引き出し配線と少なくとも部分的に重畳するように設けられる。
【選択図】 図1
Description
図1から図13を参照して、本発明の電気光学装置に係る実施形態について説明する。尚、以下の実施形態は、本発明の電気光学装置を液晶装置に適用したものである。
図1から図7を参照して、本発明の第1実施形態に係る液晶装置について説明する。
先ず、図1から図3を参照して、この液晶装置の概略構成について説明する。図1は、本実施形態に係る液晶装置の構成を示す平面図であり、図2は、図1のI−I’線断面を示している。図3は、本実施形態に係る液晶装置の比較例を示している。
次に、図4から図7を参照して、液晶装置100における張り出し部201の具体的構成について、詳細に説明する。図4は、本実施形態に係る液晶装置の張り出し部における主要部分を拡大して表しており、図5は、図4のA−A’線断面を表している。図6は、本実施形態に係る液晶装置の画像表示領域において、画素部が構成する等価回路を表している。図7及び図8は、画素部の構造を表す平面図と断面図である。尚、図8の(a)は、図7のII−II’線断面を表しており、(b)は、図7のIII−III’線断面を表している。また、図8においては、各層・各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、該各層・各部材の縮尺比率を適宜に変えてある。
図6において、画像表示領域10aには、複数の走査線11a及び複数のデータ線6aが相交差して配列しており、その線間に、走査線11a,データ線6aの各一によって選択される画素部が構成されている。各画素部は、TFT30、画素電極9a及び蓄積容量70を含む。TFT30は、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、…、Snを選択画素に印加するために設けられ、ゲートが走査線11aに接続され、ソースがデータ線6aに接続され、ドレインが画素電極9aに接続されている。画素電極9aは、後述の対向電極21との間で液晶容量を形成し、入力される画像信号S1、S2、…、Snを一定期間保持するようになっている。即ち、画素電極9aによって画素部毎の開口領域が画定される。蓄積容量70の一方の電極は、画素電極9aと並列にTFT30のドレインと接続され、他方の電極は、定電位となるように電位固定の容量配線400に接続されている。
第1層は、走査線11aで構成される。走査線11aは、図7のX方向に沿って延びる本線部と、データ線6a或いは容量配線400が延在する図7のY方向に延びる突出部とからなる形状にパターニングされている。このような走査線11aは、例えば導電性ポリシリコンからなり、その他にもチタン(Ti)、クロム(Cr)、タングステン(W)、タンタル(Ta)、モリブデン(Mo)等の高融点金属のうちの少なくとも一つを含む金属単体、合金、金属シリサイド、ポリシリサイド又はこれらの積層体等により形成することができる。即ち、本実施形態における走査線11aは、できるだけ開口領域の間の領域を覆うことで、TFT30を下側から遮光する遮光膜としても機能する。
第2層は、TFT30及び中継電極719で構成されている。TFT30は、例えばLDD(Lightly Doped Drain)構造とされ、ゲート電極3a、半導体層1a、ゲート電極3aと半導体層1aを絶縁するゲート絶縁膜2を備えている。ゲート絶縁膜2は、例えば、HTO(High Temperature Oxide)や熱酸化されたシリコン酸化膜からなる。ゲート電極3aは、例えば導電性ポリシリコンで形成される。半導体層1aは、例えばポリシリコンからなり、チャネル領域1a’、低濃度ソース領域1b及び低濃度ドレイン領域1c、並びに高濃度ソース領域1d及び高濃度ドレイン領域1eからなる。中継電極719は、例えばゲート電極3aと同一膜として形成される。
第3層は、蓄積容量70で構成されている。蓄積容量70は、容量電極300と下部電極71とが誘電体膜75を介して対向配置された構成となっている。このうち、容量電極300は、コンタクトホール801、803及び容量配線用中継層6a1を介して容量配線400と電気的に接続されている。下部電極71と高濃度ドレイン領域1eとは、第1層間絶縁膜41に開孔されたコンタクトホール83を介して接続されている。また、下部電極71と画素電極9aとは、コンタクトホール881、882、804及び中継電極719、第2中継電極6a2、第3中継電極402により各層を中継し、コンタクトホール89において電気的に接続されている。
第4層は、データ線6a、容量配線用中継層6a1及び第2中継電極6a2で構成されている。データ線6aは、アルミニウム膜、窒化チタン膜の2層からなり、窒化シリコン膜によって表面を被覆されている。データ線6aは、第1層間絶縁膜41及び第2層間絶縁膜42を貫通するコンタクトホール81を介して、TFT30の高濃度ソース領域1dと電気的に接続されている。更に、データ線6aと同一膜として、容量配線用中継層6a1及び第2中継電極6a2が形成されている。
第5層は、容量配線400及び第3中継電極402により構成されている。容量配線400は、画像表示領域10aの周囲にまで延設され、周辺駆動回路に供給される電源や上下導通端子を介して対向基板に供給される対向電極電位等の定電位源と電気的に接続されることで、固定電位とされている。また、容量配線400は、第3層間絶縁膜43に開孔されたコンタクトホール803を介して、容量配線用中継層6a1と電気的に接続されている。このような容量配線400は、例えばアルミニウム膜、窒化チタン膜を積層した二層構造となっている。
第5層の全面には第4層間絶縁膜44が形成され、更にその上に、第6層として画素電極9aが形成されている。第4層間絶縁膜44には、画素電極9a−第3中継電極402間を電気的に接続するためのコンタクトホール89が開孔されている。このような第4層間絶縁膜44は、例えばNSG、PSG、BSG、BPSG等のシリケートガラス、窒化シリコンや酸化シリコン等によって形成することができる。また、第4層間絶縁膜44の表面を平坦化するためにCMP等により研磨しても良いし、SOG等により平坦化膜を形成しても良い。平坦化により、配線間の段差等によるクラック発生を防止する事ができる。
次に、図9及び図10を参照して、第1実施形態の変形例に係る液晶装置について説明する。図9は、第1実施形態の変形例に係る液晶装置のうち、張り出し部における主要部分を拡大して表しており、図10は、図9のB−B’線断面を表している。
次に、図11から図13を参照して、第2実施形態に係る液晶装置について説明する。ここに、図11は、本実施形態に係る液晶装置の概略構成を表している。図12は、第2実施形態に係る液晶装置のうち、張り出し部における主要部分を拡大して表しており、図13は、図12のC−C’線断面を表している。尚、本実施形態の液晶装置100Aは、張り出し部内のレイアウトが異なることを除けば、液晶装置100と同様に構成されていることから、液晶装置100と同様の構成要素については、同一の符号を付して、その説明を適宜省略する。
次に、図15を参照して、以上に説明した液晶装置を電子機器に適用する場合について説明する。ここでは、本発明に係る電子機器の一例として、上述の液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクタについて説明する。図15は、このプロジェクタの構成例を示している。
Claims (9)
- 所定間隔で相対向すると共に平面的に見て少なくとも一辺において一方の基板が他方の基板より張り出している一対の基板と、
前記一方の基板に設けられた表示用電極と、
前記表示用電極を駆動するために前記一方の基板に設けられた回路部と、
前記回路部及び前記表示用電極を駆動するための配線のうち少なくとも一方から、前記一方の基板のうち前記一辺において張り出してなる張り出し部に夫々引き出された複数の引出し配線と、
該複数の引き出し配線に夫々接続され、平面的に見て前記複数の引き出し配線と少なくとも部分的に重畳するように、前記張り出し部における前記他方の基板と対向する側の面に設けられた複数の外部接続端子と
を備えたことを特徴とする電気光学装置。 - 前記外部接続端子及び前記引出し配線は、層間絶縁膜を介して積層され、
前記外部接続端子は、前記回路部を構成する第1導電膜と同一膜を含み、
前記引き出し配線は、前記回路部を構成する第2導電膜と同一膜を含むことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 - 前記複数の外部接続端子は、前記一辺に沿った方向に配列され、前記複数の引出し配線は夫々、前記一辺に沿った方向に延びると共に前記外部接続端子のうち前記一辺に沿った方向と交差する方向における縁部と接続されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。
- 前記複数の外部接続端子は、前記一辺に沿った方向に配列され、前記複数の引出し配線は夫々、前記一辺に沿った方向に延びると共に平面的に見て前記外部接続端子と交差する領域において前記外部接続端子と接続されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。
- 所定間隔で相対向すると共に平面的に見て少なくとも一辺において一方の基板が他方の基板より張り出している一対の基板と、
前記一方の基板に設けられた表示用電極と、
前記表示用電極を駆動するために前記一方の基板に設けられた回路部と、
前記回路部及び前記表示用電極を駆動するための配線のうち少なくとも一方から、前記一方の基板のうち前記一辺において張り出してなる張り出し部に夫々引き出された複数の引出し配線と、
該複数の引き出し配線に夫々接続され、平面的に見て前記回路部と少なくとも部分的に重畳するように、前記張り出し部における前記他方の基板と対向する側の面に設けられた複数の外部接続端子と
を備えたことを特徴とする電気光学装置。 - 前記回路部は、前記複数の外部接続端子のうち画像信号を供給する端子と電気的に接続されると共に前記画像信号の供給を受けて駆動される駆動回路を含んでおり、該駆動回路の少なくとも一部は平面的に見て前記外部接続端子と重畳するように設けられていることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
- 前記外部接続端子と前記回路部の一部とは層間絶縁膜を介して積層され、前記外部接続端子は、前記回路部を構成する第1導電膜と同一膜を含むことを特徴とする請求項5又は6に記載の電気光学装置。
- 前記一対の基板間に内部空間を形成するように前記一対の基板における相対向する面の周縁を貼り合わせるシール材と、前記内部空間に収容された電気光学物質とを更に備え、前記表示用電極及び前記回路部の一部は、前記内部空間に面して配置されることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 請求項1から8のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備することを特徴とする電子機器。
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