JP2006135377A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 本発明は、スイッチトキャパシタ回路等のキャパシタの充放電を伴う回路において、クロック周期の変化やキャパシタ容量値の製造ばらつき等に依存することなく、セトリング特性を一定に保つため、基準電流源の電流値をクロック、基準電圧、基準キャパシタを用いてフィードバック制御することを目的とする。
【解決手段】 半導体装置において、電流制御回路として、電流源11と、電流源11の出力側に接続し、電流源11から出力される電流を充電するキャパシタ12と、前記キャパシタ12の充放電を制御するスイッチ回路13と、充電された電圧と基準電圧を比較する電圧比較器14と、その比較結果をもとに、充電された電圧を基準電圧に近づけるように制御信号を生成し、電流源へ制御信号をフィードバックすると共に、電流制御回路の外部に出力する基準電流を制御信号によって制御する制御回路15とを有することを特徴とする。
【選択図】 図1

Description

本発明は、基準電流源の電流制御回路を含む半導体装置に関する。
従来、スイッチトキャパシタ回路等のキャパシタの充放電を伴う回路を含むアナログ回路全般において、回路全体の動作電流を決める基準電流源は、一定の電流値になるように設計されてきた。この場合、スイッチトキャパシタ回路のセトリング特性は、クロック周期の変化、キャパシタ容量値の製造ばらつき、基準電流源の温度・電源電圧依存性等により変動する要素をもつ。そのため、すべての条件でセトリング特性が仕様を満たすことができるよう、基準となる電流値を大きめに設計する等、回路マージンを大きく設定する必要があるという問題があった。
それを回避する方法として、これまでにも、例えばクロック信号を基準としたフィードバック方法により、絶対温度、容量、クロック信号周波数に比例する基準電流信号を発生する回路が提案されている。(例えば、特許文献1参照。)。 しかし、この種の回路は、一般に系の安定性を考慮しなければならないため、トランジスタのサイズやキャパシタ容量値の選択など、設計上考慮するパラメータが多く、回路の合わせ込みが難しい。
特開2000−295047号公報(第10ページ、第5図)
本発明は、スイッチトキャパシタ回路等のキャパシタの充放電を伴う回路において、クロック周期の変化やキャパシタ容量値の製造ばらつき等に依存することなく、セトリング特性を一定に保つため、基準電流源の電流値をクロック、基準電圧、基準キャパシタを用いてフィードバック制御することを目的とする。また、制御回路は、制御の容易性、柔軟性を考慮し、デジタル回路で構成する。
本発明の第1の態様は、半導体装置として、電流源と、前記電流源から出力される電流によって充電されるキャパシタと、前記キャパシタの充放電を制御するスイッチ回路と、充電された前記キャパシタの電圧と基準電圧とを比較する電圧比較器と、前記比較結果をもとに制御信号を生成し、前記キャパシタの電圧を前記基準電圧に近づけるように、前記電流源へ前記制御信号をフィードバックすると共に、外部へ出力する基準電流を前記制御信号によって制御する制御回路とを含む電流制御回路を有することを特徴とする。
本発明によれば、基準クロック及び基準電圧を利用した電流制御回路を用いることにより、スイッチトキャパシタ回路等のキャパシタの充放電を伴う回路において、キャパシタ容量値の製造ばらつきに依らず、クロック周期に従ってセトリング特性が一定となるように基準電流値をフィードバック制御することが可能となる。
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。
本実施例の半導体装置には、電流制御回路及び電流制御回路から基準電流が供給される回路を含む。以下、電流制御回路について詳しく述べる。
図1は、本発明による半導体装置の第1の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図である。
電流制御回路10は、電流源11と、電流源11からの電流を蓄積するキャパシタ12と、キャパシタ12の充放電を操作するスイッチ回路13と、ノード16におけるキャパシタ12の電圧と、基準電圧源(図示せず)からの基準電圧とを比較し、その比較結果を制御回路15へ出力する電圧比較器14、並びに基準電流源11及びスイッチ回路13を制御する制御回路15を有する。制御回路15は、電圧比較器14からの出力信号を受けて、基準クロックによる制御サイクルに沿ったタイミングで、スイッチ回路13へスイッチ制御信号19を出力し、また、半導体装置内にあって電流制御回路の外部にある回路及び電流源11へ、電流制御信号18を出力する。
次に電流制御回路10の動作について説明する。キャパシタ12は電荷が完全に放電されており、電荷が零の状態からスタートする。また、制御回路15は基準クロックの周期TCLKの期間、スイッチ回路13をオフにする。
先ず、電流源11に電流I1を流す。このとき、キャパシタ12(容量値CREF)は、(1)式による電圧により充電される。
1=I1CLK/CREF・・・(1)
この時点で、電圧比較器14は、ノード16の電圧V1と基準電圧VREFとの比較を行い、大小判定結果である比較器出力信号17を制御回路15へ送信する。制御回路15は、電圧V1が基準電圧VREFより大きい場合、電流源11の電流値を電流値I1よりも小さくなる電流値I2に変更して設定する。一方、V1がVREFより小さい場合、電流源11の電流値を電流値I1よりも大きくなる電流値I2に変更して設定する。
続いて、制御回路15は、次に送られてくるクロック周期TCLKの期間、スイッチ回路13をオンするようにスイッチ制御信号19を送信する。この信号を受けて、スイッチ回路13はオン状態となり、キャパシタ12に蓄積された電荷は放電する。以上の動作を繰り返すことで、キャパシタ12の充電電圧Vnは、基準電圧VREFにフィードバックされていき、最終的に、その電圧値VREFに収束する。このとき、電流源11の電流Ioは、次の(2)式の関係を満たすように収束する。
CREF・VREF=Io・TCLK・・・(2)
ここで、電流制御回路のセトリング特性は、使用されるアンプの帯域(ユニティーゲイン周波数ω)、およびスルーレートSrにより決まる。また、これらは、一般に、キャパシタCとアンプのバイアス電流I、トランジスタの電流増幅率gmとの関係により以下の(3)、(4)式のように表される。
ω∝gm/C・・・(3)
Sr∝I/C・・・(4)
ここで、電流増幅率gmはバイアス電流I或いはバイアス電流Iの平方根に比例する。従って、CREF・VREF=Io・TCLKの関係が常に一定であれば、ほぼ一定のセトリング特性が満足される。
以上に述べたようなフィードバックが働く状態を信号波形として図2に示す。制御回路15は、クロック信号の立ち上がりエッジで、スイッチ制御信号をオフにする。ここからキャパシタ12の充電が開始される。
先ず、電圧比較器14には、キャパシタ12の充電電圧と基準電圧が入力されており、その大小判定結果を出力する。状態1では基準電圧が充電電圧を上回る。一方、状態2では充電電圧が基準電圧を上回る。
制御回路15は、クロック信号の次の立ち上がりエッジで、比較器出力電圧を参照し、比較器の結果を基にして、クロック信号の次の立ち下りエッジ時に、電流制御信号を増加或いは減少させて制御する。また、同時にキャパシタ12を放電させるため、スイッチ制御信号をオンにする。
以上に述べたように、基準電圧、基準クロックを参照してフィードバック機構を働かせることにより、本実施例で示した電流制御回路で生成された基準電流を使用し、スイッチトキャパシタ回路のセトリング特性を常にほぼ一定に保持することが可能になる。これにより、セトリング特性のバラツキを小さく見積ることができ、回路マージンを小さく設計できる。
本実施例の半導体装置には、電流制御回路及び電流制御回路から基準電流が供給される回路を含む。以下、電流制御回路について詳しく述べる。
図3は、本発明による半導体装置の第2の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図である。本実施例の電流制御回路は、第1の実施例とほぼ基本構成は同じである。異なる点は、電流源にMOSトランジスタを用いた点である。
電流制御回路10aは、電流源である第1のMOSトランジスタ21と、第1のMOSトランジスタ21からの電流を蓄積するキャパシタ12と、キャパシタ12の充放電を操作するスイッチ回路13と、ノード16におけるキャパシタ12の電圧と、基準電源(図示せず)からの基準電圧とを比較し、その比較結果を制御回路15へ出力する電圧比較器14、第1のMOSトランジスタ21と同じゲート電圧を印加されて、電流制御回路10aの外部へ基準電流であるミラー電流を流す第2のMOSトランジスタ22、並びに第1のMOSトランジスタ21、第2のMOSトランジスタ22及びスイッチ回路13を制御する制御回路15を有する。
制御回路15は、電圧比較器14からの出力信号を受けて、基準クロックによる制御サイクルに沿ったタイミングで、スイッチ回路13へスイッチ制御信号19を出力し、また、電流制御信号18を第1のMOSトランジスタ21及び第2のMOSトランジスタ22のゲートへ印加することにより、半導体装置内にあって電流制御回路の外部にある回路へ出力する基準電流を制御する電流制御信号18を出力する。
電流制御回路10aの動作については基本的に第1の実施例と同じであるので簡潔に説明する。
キャパシタ12は電荷が完全に放電されており、電荷が零の状態からスタートする。また、制御回路15は基準クロックの周期TCLKの期間、スイッチ回路13をオフにする。
先ず、第1のMOSトランジスタ21に電流I1を流す。これにより、キャパシタ12は充電される。
この時点で、電圧比較器14は、ノード16の電圧V1と基準電圧VREFとの比較を行い、大小判定結果である比較器出力信号17を制御回路15へ送信する。制御回路15は、V1がVREFより大きい場合、電流源である第1のMOSトランジスタ21の電流値をI1よりも小さくなる電流値I2に変更して設定する。一方、V1がVREFより小さい場合、電流源である第1のMOSトランジスタ21の電流値をI1よりも大きくなる電流値I2に変更して設定する。
続いて、制御回路15は、次に送られてくるクロック周期TCLKの期間、スイッチ回路13をオンするようにスイッチ制御信号19を送信する。この信号を受けて、スイッチ回路13はオン状態となり、キャパシタ12に蓄積された電荷は放電される。以上の動作を繰り返すことで、キャパシタ12の充電電圧Vnは、基準電圧VREFにフィードバックされていき、最終的に、その電圧値VREFに収束する。このとき、第1のMOSトランジスタ21の電流も収束する。
第1のMOSトランジスタ21のゲートに印加される電流制御信号と同じ信号が第2のMOSトランジスタ22のゲートに印加されるため、第2のMOSトランジスタ22には、第1のMOSトランジスタ21とのミラー電流が流れる。これが基準電流として電流制御回路10aの外部へ出力される。
以上に述べたように、基準電圧、基準クロックを参照してフィードバック機構を働かせることにより、本実施例による電流制御回路で生成した基準電流を使用し、スイッチトキャパシタ回路のセトリング特性を常にほぼ一定に保つことが可能になる。これにより、セトリング特性のバラツキを小さく見積もことができ、回路マージンを小さく設計できる。
本実施例の半導体装置には、電流制御回路及び電流制御回路から基準電流が供給される回路を含む。以下、電流制御回路について詳しく述べる。
図4は、本発明による半導体装置の第3の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図である。本実施例の電流制御回路は、第2の実施例と基本構成はほぼ同じである。異なる点は、制御回路の後段に電圧DAコンバータを設置した点である。
電流制御回路10bは、電流源である第1のMOSトランジスタ21と、第1のMOSトランジスタ21からの電流を蓄積するキャパシタ12と、キャパシタ12の充放電を操作するスイッチ回路13と、ノード16におけるキャパシタ12の電圧と、基準電圧源(図示せず)からの基準電圧とを比較し、その比較結果を制御回路15へ出力する電圧比較器14、第1のMOS素子21と同じゲート電圧を印加されて、電流制御回路10bの外部へ基準電流であるミラー電流を流す第2のMOS素子22、制御回路15の後段に設置された電圧DAコンバータ31、並びに電圧DAコンバータを介して第1のMOSトランジスタ21、第2のMOSトランジスタ22及びスイッチ回路13を制御する制御回路15を有する。
制御回路15は、電圧比較器14からの出力信号を受けて、基準クロックによる制御サイクルに沿ったタイミングで、スイッチ回路13へスイッチ制御信号19を出力し、また、デジタル制御信号32を電圧DAC31へ印加し、電圧DAC31はアナログ制御電圧信号18を第1のMOSトランジスタ21及び第2のMOSトランジスタ22のゲートへ印加する。第2のMOSトランジスタ22から、半導体装置内にあって電流制御回路の外部にある回路へアナログ制御電圧信号18に基づく基準電流を出力する。
電流制御回路10bの動作については基本的に第1の実施例と同じであるので簡潔に説明する。
キャパシタ12は電荷が完全に放電されており、電荷が零の状態からスタートする。また、制御回路15は基準クロックの周期TCLKの期間、スイッチ回路13をオフにする。
先ず、第1のMOSトランジスタ21に電流I1を流す。これにより、キャパシタ12は充電される。
この時点で、電圧比較器14は、ノード16の電圧V1と基準電圧VREFとの比較を行い、大小判定結果である比較器出力信号17を制御回路15へ送信する。制御回路15は、V1がVREFより大きい場合、電流源である第1のMOSトランジスタ21の電流値をI1よりも小さくなる電流値I2に変更して設定する。一方、V1がVREFより小さい場合、電流源である第1のMOSトランジスタ21の電流値をI1よりも大きくなる電流値I2に変更して設定する。この時、制御回路15が出力する制御信号32はデジタル信号であり、これを受けた電圧DACがアナログ制御電圧信号18を、第1のMOSトランジスタ21及び第2のMOSトランジスタ22のゲートへ印加する。
また、制御回路15は、次に送られてくるクロック周期TCLKの期間、スイッチ回路13をオンするようにスイッチ制御信号19を送信する。この信号を受けて、スイッチ回路13はオン状態となり、キャパシタ12に蓄積された電荷は放電される。以上の動作を繰り返すことで、キャパシタ12の充電電圧Vnは、基準電圧VREFにフィードバックされていき、最終的に、その電圧値VREFに収束する。このとき、第1のMOSトランジスタ21の電流も収束する。
第1のMOSトランジスタ21のゲートに印加される電流制御信号と同じ信号が第2のMOSトランジスタ22のゲートに印加されるため、第2のMOS素子22には、第1のMOSトランジスタ21とのミラー電流が流れる。
以上に述べたように、基準電圧、基準クロックを参照してフィードバック機構を働かせることにより、本実施例による電流制御回路で生成した基準電流を使用し、スイッチトキャパシタ回路のセトリング特性を常にほぼ一定に保つことが可能になる。これにより、セトリング特性のバラツキを小さく見積もことができ、回路マージンを小さく設計できる。
本実施例の半導体装置には、電流制御回路及び電流制御回路から基準電流が供給される回路を含む。以下、電流制御回路について詳しく述べる。
図5は、本発明による半導体装置の第4の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図である。本実施例の電流制御回路は、第3の実施例と基本構成はほぼ同じである。異なる点は、電圧DAコンバータ31と第2のMOSトランジスタ22との間にゲート電圧の高調波成分を抑えるローパスフィルタ41を設置した点である。
電流制御回路10cは、電流源である第1のMOSトランジスタ21、第1のMOSトランジスタ21からの電流を蓄積するキャパシタ12、キャパシタ12の充放電を操作するスイッチ回路13、ノード16におけるキャパシタ12の電圧と基準電圧源(図示せず)からの基準電圧とを比較し、その比較結果を制御回路15へ出力する電圧比較器14、第1のMOS素子21と同じゲート電圧を印加されて、電流制御回路10cの外部へ基準電流であるミラー電流を流す第2のMOS素子22、制御回路15の後段に設置された電圧DAコンバータ31、第2のMOS素子22のゲートに与えられる電圧の高調波成分を抑えるローパスフィルタ41、電圧DAコンバータ31を介して第1のMOS素子21及び第2のMOS素子22並びにスイッチ回路13を制御する制御回路15を有する。
制御回路15は、電圧比較器14からの出力信号を受けて、基準クロックによる制御サイクルに沿ったタイミングで、スイッチ回路13へスイッチ制御信号19を出力し、また、デジタル制御信号32を電圧DAC31へ印加し、電圧DAC31はアナログ制御電圧信号18を第1のMOSトランジスタ21及び第2のMOSトランジスタ22のゲートへ印加する。第2のMOSトランジスタ22から、半導体装置内にあって電流制御回路の外部にある回路へ出力用MOSトランジスタ制御信号42に基づく基準電流を出力する。
電流制御回路10cの動作については基本的に第1の実施例と同じであるので簡潔に説明する。
キャパシタ12は電荷が完全に放電されており、電荷が零の状態からスタートする。また、制御回路15は基準クロックの周期TCLKの期間、スイッチ回路13をオフにする。
先ず、第1のMOSトランジスタ21に電流I1を流す。これにより、キャパシタ12は充電される。
この時点で、電圧比較器14は、ノード16の電圧V1と基準電圧VREFとの比較を行い、大小判定結果である比較器出力信号17を制御回路15へ送信する。制御回路15は、V1がVREFより大きい場合、電流源である第1のMOSトランジスタ21の電流値をI1よりも小さくなる電流値I2に変更して設定する。一方、V1がVREFより小さい場合、電流源である第1のMOSトランジスタ21の電流値をI1よりも大きくなる電流値I2に変更して設定する。この時、制御回路15が出力する制御信号32はデジタル信号であり、これを受けた電圧DACがアナログ制御電圧信号18を、第1のMOSトランジスタ21及びLPF(ローパスフィルタ)41を介して第2のMOSトランジスタ22のゲートへ印加する。
また、制御回路15は、次に送られてくるクロック周期TCLKの期間、スイッチ回路13をオンするようにスイッチ制御信号19を送信する。この信号を受けて、スイッチ回路13はオン状態となり、キャパシタ12に蓄積された電荷は放電される。以上の動作を繰り返すことで、キャパシタ12の充電電圧Vnは、基準電圧VREFにフィードバックされていき、最終的に、その電圧値VREFに収束する。このとき、第1のMOSトランジスタ21の電流も収束する。
第1のMOSトランジスタ21のゲートに印加される電流制御信号と同じ信号が第2のMOSトランジスタ22のゲートに印加されるため、第2のMOS素子トランジスタ22には、第1のMOSトランジスタ21とのミラー電流が流れる。この時、第2のMOSトランジスタ22のゲートにLPF41を接続することにより、電圧DAC31から送られるアナログ信号の雑音(クロックに同期した高周波成分)をカットし、第2のMOS素子トランジスタ22の雑音を抑えることが可能になる。
以上に述べたように、基準電圧、基準クロックを参照してフィードバック機構を働かせることにより、本実施例による電流制御回路で生成した基準電流を使用し、スイッチトキャパシタ回路のセトリング特性を常にほぼ一定に保つことが可能になる。これにより、セトリング特性のバラツキを小さく見積もことができ、回路マージンを小さく設計できる。
更に、LPFを用いることにより、本来伝わるべきではない、クロックに同期した高周波成分を除去することができる。
本実施例の半導体装置には、電流制御回路及び電流制御回路から基準電流が供給される回路を含む。以下、電流制御回路について詳しく述べる。
図6は、本発明による半導体装置の第5の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図である。本実施例の電流制御回路は、第3の実施例と基本構成はほぼ同じである。異なる点は、電圧DACではなく、電流DAC51を制御回路の後段に設け、制御回路15からの電流DAコンバータ制御信号52をアナログ信号に変換し、更に第3のMOSトランジスタ23を電流DAC51の後段に設置し、電流DAC51からの出力電流を第3のMOSトランジスタ23を用いたカレントミラー構成により電流電圧変換し、第1のMOSトランジスタ21及び第2のMOSトランジスタ22に与える点である。
電流制御回路10dは、電流源である第1のMOSトランジスタ21、第1のMOSトランジスタ21からの電流を蓄積するキャパシタ12、キャパシタ12の充放電を操作するスイッチ回路13、ノード16におけるキャパシタ12の電圧と、基準電圧源(図示せず)からの基準電圧を比較し、その比較結果を制御回路15へ出力する電圧比較器14、第1のMOSトランジスタ21と同じゲート電圧を印加されて、電流制御回路10dの外部へ基準電流であるミラー電流を流す第2のMOSトランジスタ22、制御回路15の後段に設置された電流DAコンバータ51、電流DAC51の出力電流を受けカレントミラーを構成する電流電圧変換素子として、第1のMOSトランジスタ21及び第2のMOS素子22のゲートへ電圧を供給する第3のMOS素子23、電流DAC51と第3のMOS素子23を介して第1のMOSトランジスタ21及び第2のMOSトランジスタ22並びにスイッチ回路13を制御する制御回路15とを有する。
制御回路15は、電圧比較器14からの出力信号を受けて、基準クロックによる制御サイクルに沿ったタイミングで、スイッチ回路13へスイッチ制御信号19を出力し、また、電流DAコンバータ制御信号52を電圧DAC51へ印加し、電圧DAC51からアナログ信号である電流制御信号18が第3のMOS素子23で電流―電圧変換され、第1のMOSトランジスタ21及び第2のMOSトランジスタ22のゲートへ印加される。第2のMOSトランジスタ22から、半導体装置内にあって電流制御回路の外部にある回路へ電流制御信号18に基づく基準電流を出力する。
電流制御回路10dの動作については第1乃至第4の実施例とほぼ同じであるからここでは省略する。
以上に述べたように、基準電圧、基準クロックを参照してフィードバック機構を働かせることにより、本実施例による電流制御回路で生成した基準電流を使用し、スイッチトキャパシタ回路のセトリング特性を常にほぼ一定に保つことが可能になる。これにより、セトリング特性のバラツキを小さく見積もことができ、回路マージンを小さく設計できる。
本実施例の半導体装置には、電流制御回路及び電流制御回路から基準となる電流を供給される回路を含む。以下の説明では、電流制御回路について詳しく述べる。
図7は、本発明による半導体装置の第6の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図である。本実施例の電流制御回路10eは、第5の実施例と基本構成は同じである。異なる点は、電流DAC51と第2のMOSトランジスタ22との間にLPF61を設置した点である。即ち、電流DAC51から出力されるアナログ電流を第3のMOSトランジスタ23によりゲート電圧に変換する。LPF61はそのゲート電圧に対して雑音を抑えるように働く。
なお、本実施例は基本的に実施例5及び実施例4を合わせたものであり、詳しい説明は省略する。
以上に述べたように、基準電圧、基準クロックを参照してフィードバック機構を働かせることにより、基準電流源で生成した電流を使用したスイッチトキャパシタ回路のセトリング特性を常にほぼ一定に保つことが可能になる。これにより、セトリング特性のバラツキを小さく見積もことができ、回路マージンを小さく設計できる。
更に、LPFを用いることにより、ゲート電圧に対して雑音を抑えることができる。
なお、本発明は上述した実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することができる。
電流源としてMOSトランジスタだけでなく、バイポーラトランジスタを用いても良い。
また、スイッチ回路に、例えばMOSトランジスタ、バイポーラトランジスタを用いても良い。
更に、本発明は上述した実施形態を例にした電流制御回路を含む半導体装置であり、この半導体装置に含まれるその他の回路は論理回路、メモリ回路等種々のものがあることは勿論である。
本発明による半導体装置の第1の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図。 本発明による半導体装置の第1の実施例における電流制御回路の動作特性を示す信号波形図。 本発明による半導体装置の第2の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図。 本発明による半導体装置の第3の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図。 本発明による半導体装置の第4の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図。 本発明による半導体装置の第5の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図。 本発明による半導体装置の第6の実施例における電流制御回路を示す回路ブロック図。
符号の説明
10、10a、10b、10c、10d、10e 電流制御回路
11 電流源
12 キャパシタ
13 スイッチ回路
14 電圧比較器
15 制御回路
16 ノード
17 比較器出力信号
18 アナログ制御電圧信号
19 スイッチ制御信号
21 第1のMOSトランジスタ
22 第2のMOSトランジスタ
23 第3のMOSトランジスタ
31 電圧DAC
32 デジタル制御信号
41、61 ローパスフィルタ
42、62 出力用MOSトランジスタ制御信号
51 電流DAC
52 電流DAコンバータ制御信号

Claims (5)

  1. 電流源と、
    前記電流源から出力される電流によって充電されるキャパシタと、
    前記キャパシタの充放電を制御するスイッチ回路と、
    充電された前記キャパシタの電圧と基準電圧とを比較する電圧比較器と、
    前記比較結果をもとに制御信号を生成し、前記キャパシタの電圧を前記基準電圧に近づけるように、前記電流源へ前記制御信号をフィードバックすると共に、外部へ出力する基準電流を前記制御信号によって制御する制御回路と
    を含む電流制御回路を有することを特徴とする半導体装置。
  2. 前記電流源が第1の絶縁ゲート型電界効果トランジスタであることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記電流制御回路が更に第2の絶縁ゲート型電界効果トランジスタを含み、前記制御回路の出力側が前記第1の絶縁ゲート型電界効果トランジスタのゲート及び第2の絶縁ゲート型電界効果トランジスタのゲートに接続し、前記第2の絶縁ゲート型電界効果トランジスタから前記電流制御回路の外部へ基準電流を出力することを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
  4. 前記制御回路の出力側に、更に電圧DAコンバータを接続していることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の半導体装置。
  5. 前記制御回路の出力側に、更に電流DAコンバータが接続され、かつ、ゲート及びドレインが前記電流コンバータと接続する第3の絶縁ゲート型電界効果トランジスタを更に含むことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の半導体装置。
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