JP2006114852A - 基板保持装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】モータ11を包囲するカバー部材24の上端部には、複数本のばね31を介して円環状の固定環32が支持されている。一方、スピンベース10の下カバー13の下面には、円環状の回転環34が固定環32と対向配置されている。回転環34の下面には、ガス供給源からのクリーンガスが導入されるガス導入溝と、このガス導入溝に連続し、回転環34の回転時に、固定環32と回転環34との間に気体(クリーンガス)の動圧を発生させる動圧発生用溝とが形成されている。モータ11が駆動され、回転軸9およびスピンベース10が回転している状態では、ガス導入溝に導入されるクリーンガスの静圧と、動圧発生用溝の作用によるクリーンエアの動圧が発生する。
【選択図】 図2
Description
そこで、この発明の目的は、非接触式シールを用いた構成において、クリーンガスの供給流量が減少したときにも、固定環と回転環との非接触状態を維持し続けることができ、固定環および回転環の破損や摩耗粉による雰囲気汚染を防止することができる基板保持装置を提供することである。
このような構成によれば、モータの駆動が停止され、回転軸およびスピンベースが静止した状態には、クリーンガス供給手段によってガス導入凹部にクリーンガスを導入すれば、そのガス導入凹部内に導入されるクリーンガスの静圧によって、固定環がばねの付勢力に抗して回転環から離間した非接触状態を維持することができる。このとき、固定環と回転環との間は、ガス導入凹部から回転環の径方向外側および内側に分かれて流れるクリーンガスによってシールすることができる。そのため、回転軸およびスピンベースの静止時において、カバー部材内の空間とその外部の空間とを確実に遮断することができ、外部雰囲気がカバー部材内に配置されたモータなどに至ったり、カバー部材内のパーティクルを含む雰囲気が基板に至ったりすることを防止することができる。
このような構成によれば、モータの回転速度に応じて、流量調整バルブの開度を調整することによって、クリーンガス供給手段によってガス導入凹部に供給されるクリーンガスの流量を調整することができる。
回転軸およびスピンベースの回転中(モータの駆動中)は、固定環と回転環との間に動圧が発生するので、ガス供給手段によるクリーンガスの供給流量を減らしても、クリーンガスの動圧および静圧によって、固定環が回転環から離間した状態を維持することができる。そのため、回転軸およびスピンベースの回転中は、ガス供給手段によるクリーンガスの供給流量を積極的に減らすことによって、クリーンガスの消費量を低減することができ、装置のランニングコストを低減することができる。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板保持装置が備えられた基板処理装置の構成を示す図解図である。この基板処理装置は、基板の一例としての半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という。)Wをほぼ水平に保持し、そのウエハWのほぼ中心を通る鉛直軸線まわりに回転する基板保持装置としてのスピンチャック1を備えている。
図2は、スピンチャック1の内部構成を示す縦断面図である。スピンチャック1は、鉛直方向に沿って配置された回転軸9と、この回転軸9の上端に固定された円盤状のスピンベース10と、スピンベース10の下方に配置されたモータ11とを備えている。
スピンベース10は、円板状の上カバー12と、同じく円板状の下カバー13とを備えている。上カバー12と下カバー13とは、重ね合わせられて、その周縁部において、ボルト14を用いて互いに固定されている。また、上カバー12および下カバー13の各中央部には、挿通孔が形成されており、スピンベース10は、その下カバー13の挿通孔に挿通されて、上カバー12の下面における挿通孔の周囲に接続された回転軸9に対して、ボルト15を用いて固定されている。さらに、上カバー12および下カバー13の各挿通孔には、裏面ノズル16が貫通して設けられている。裏面ノズル16の下端部は、回転軸9内まで延びており、この回転軸9内において、裏面ノズル16の下端部と処理液供給管2の上端部とが連結されている。
動圧/静圧併用型シール機構29は、カバー部材24の段差面25および機構部支持体27の上面に跨って配置された円環状の基部30と、この基部30上に複数本(たとえば、16本)のばね31を介して支持された円環状の固定環32と、固定環32とカバー部材24の内面との間に配置されたスペーサ33と、スピンベース10の下カバー13の下面に取り付けられ、固定環32と対向配置された円環状の回転環34とを備えている。
固定環32は、その下面に複数本のばね31の上端が接続されることによって、基部30上で弾性的に支持されている。固定環32の外周面は、スペーサ33の内周面に接触している。そして、固定環32の外周面には、スペーサ33との間をシールするための2つのOリング38が埋設されている。また、固定環32の内部には、固定環32の外周面から水平方向(ウエハWの回転半径方向)に延びるガス水平路39と、このガス水平路39の先端部に接続されており、その接続部分から固定環32の上面に向けて鉛直に延びるガス鉛直路40とが形成されている。これらのガス水平路39およびガス鉛直路40は、周方向にほぼ等間隔で複数組(たとえば、7組)形成されていて、各ガス鉛直路40の先端(上端)は、固定環32の上面において開口している。
また、ガス導入溝46に対して回転環34の径方向外側の動圧発生用溝47、および、ガス導入溝46に対して回転環34の径方向内側の動圧発生用溝48の一方が省略されてもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
9 回転軸
10 スピンベース
11 モータ
24 カバー部材
26 モータ収容空間
29 動圧/静圧併用型シール機構
31 ばね
32 固定環
34 回転環
39 ガス水平路
40 ガス鉛直路
42 連通路
43 ガス供給路
44 ガス供給配管
45 流量調整バルブ
46 ガス導入溝
47 動圧発生用溝
48 動圧発生用溝
49 制御部
W ウエハ
Claims (3)
- 基板を保持して回転させるための基板保持装置であって、
モータと、
このモータの駆動力によって回転される回転軸と、
この回転軸に結合され、上記回転軸と一体的に回転するスピンベースと、
上記モータを包囲し、一端部が上記スピンベースの近傍に配置されたカバー部材と、
上記スピンベースの上記カバー部材との対向面に固定された回転環と、
この回転環に対して上記回転軸の軸線方向に対向配置された固定環と、
上記カバー部材の一端部に設けられ、上記固定環を上記回転環に向けて弾性付勢するためのばねと、
上記回転環と上記固定環との間にクリーンガスを供給するためのクリーンガス供給手段とを含み、
上記回転環の上記固定環との対向面および上記固定環の上記回転環との対向面のうちのいずれかに、クリーンガス供給手段によってクリーンガスが導入されるガス導入凹部が形成され、さらに、上記回転環の上記固定環との対向面および上記固定環の上記回転環との対向面のうちのいずれかに、上記回転環の回転時に、上記回転環と上記固定環との間に気体の動圧を発生させる動圧発生用凹部とが形成されていることを特徴とする基板保持装置。 - 上記クリーンガス供給手段は、クリーンガスの供給流量を調整するための流量調整バルブを備えており、
上記モータの回転速度に応じて、上記流量調整バルブの開度を制御する制御手段をさらに含むことを特徴とする請求項1記載の基板保持装置。 - 上記制御手段は、上記モータの回転速度が予め定める動圧発生速度よりも低いときには、上記流量調整バルブを相対的大きな開度で開成し、上記モータの回転速度が上記動圧発生速度以上のときには、上記流量調整バルブを相対的に小さな開度で開成することを特徴とする請求項2記載の基板保持装置。
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