JP2006113018A - 放射線画像変換パネル - Google Patents

放射線画像変換パネル Download PDF

Info

Publication number
JP2006113018A
JP2006113018A JP2004303139A JP2004303139A JP2006113018A JP 2006113018 A JP2006113018 A JP 2006113018A JP 2004303139 A JP2004303139 A JP 2004303139A JP 2004303139 A JP2004303139 A JP 2004303139A JP 2006113018 A JP2006113018 A JP 2006113018A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phosphor
support
conversion panel
radiation image
image conversion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004303139A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4492288B2 (ja
Inventor
Takafumi Yanagida
貴文 柳多
Sunao Arimoto
直 有本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical and Graphic Inc filed Critical Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority to JP2004303139A priority Critical patent/JP4492288B2/ja
Publication of JP2006113018A publication Critical patent/JP2006113018A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4492288B2 publication Critical patent/JP4492288B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

【課題】耐湿性に優れた放射線画像変換パネルを提供すること。
【解決手段】支持体2上にアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層3が気層成長法により柱状に形成された放射線画像変換パネル1であって、輝尽性蛍光体層3に含まれる蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上100ppm以下である。
【選択図】図1

Description

本発明は、放射線画像変換パネルに係り、特に、アルカリハライド系の輝尽性蛍光体を用いて形成される輝尽性蛍光体層を備えた放射線画像変換パネルに関する。
従来より、病気診断等を目的として、X線画像に代表される放射線画像が用いられている。このような放射線画像を得るための方式として、近年においては、輝尽性蛍光体を採用した放射線画像読取方式が提案され、実用化されている。この方式においては、被写体を透過させた放射線を放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層に照射して、被写体各部の放射線透過度に対応する放射線エネルギーを蓄積させる。そして、この輝尽性蛍光体層を輝尽励起光で走査することによって蓄積させた放射線エネルギーを輝尽発光光として放出させ、光電変換手段を用いてこの輝尽発光光を画像信号に変換して、デジタル画像データとして放射線画像を得ている。
このような放射線画像読取方式に用いられる放射線画像変換パネルとして、輝尽性蛍光体層が支持体上に形成された放射線画像変換パネルが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
一般的に輝尽性蛍光体は湿度に弱く、吸湿により特性が劣化する。そのため、輝尽性蛍光体は外気からの保護が必須となり、この放射線画像変換パネルでは、支持体上に輝尽性蛍光体層が形成された蛍光体プレートを保護フィルムにより被覆された構造を有して輝尽性蛍光体層を外気から遮断し、耐湿性の向上を図っていた。
あるいは、真空蒸着法にて放射線画像変換パネルを製造する際に、真空蒸着を行う以前の段階において放射線画像変換パネルを製造する際に用いる材料の保管及び取り扱いを露点0℃以下に規定して、耐湿性の向上を図っていた(例えば、特許文献2参照。)。
特開2002−277598号公報 特開2004−93243号公報
しかしながら、特許文献1及び特許文献2のいずれの場合においても、輝尽性蛍光体自体の発光輝度を向上させていないため、輝尽性蛍光体が経時的に吸湿することにより変質し、放射線画像変換パネルとしての機能、性能を低下させてしまうのを根本的に防ぐには不十分であった。
そこで、本発明は前記した点に鑑みてなされたもので、耐湿性に優れた放射線画像変換パネルを提供することを目的とする。
前記課題を解決するため、請求項1に記載の発明に係る放射線画像変換パネルは、
支持体上にアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層が気層成長法により柱状に形成された放射線画像変換パネルであって、前記輝尽性蛍光体層に含まれる蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上100ppm以下であることを特徴とする。
請求項1に記載の発明によれば、支持体上にアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層が気層成長法により柱状に形成された放射線画像変換パネルであって、前記輝尽性蛍光体層に含まれる蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上100ppm以下であるので、輝尽性蛍光体パネルは、輝尽性蛍光体層に含まれるアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度をこのような一定範囲内に抑えることができる。
請求項2に記載の発明は、
請求項1に記載の放射線画像変換パネルにおいて、前記蛍光体母体がCsBrであり、前記蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物がNaであり、蛍光体母体以外のアルカリ土類金属不純物がCaであることを特徴とする。
請求項2に記載の発明によれば、前記蛍光体母体がCsBrであり、前記蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物がNaであり、蛍光体母体以外のアルカリ土類金属不純物がCaであるので、特にCsBrからなる蛍光体母体において、輝尽性蛍光体層に含まれるNa及びCaの濃度をこのような一定範囲内に抑えることができる。
ことができる。
請求項3に記載の発明は、
請求項1又は請求項2に記載の放射線画像変換パネルにおいて、前記輝尽性蛍光体層に含まれる蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上30ppm以下であることを特徴とする。
請求項3に記載の発明によれば、前記輝尽性蛍光体層に含まれる蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上30ppm以下であるので、請求項1に記載の発明と比べて、輝尽性蛍光体パネルは、アルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度をさらに一定範囲内に抑えることができる。
請求項4に記載の発明に係る放射線画像変換パネルは、
支持体上にアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層が気層成長法により柱状に形成された放射線画像変換パネルであって、前記支持体に含まれ、かつ、水に溶出する蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上50ppm以下であることを特徴とする。
請求項4に記載の発明によれば、
支持体上にアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層が気層成長法により柱状に形成された放射線画像変換パネルであって、前記支持体に含まれ、かつ、水に溶出する蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上50ppm以下であるので、輝尽性蛍光体パネルは、支持体層に含まれるアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度を一定範囲内に抑えることができる。
請求項5に記載の発明は、
請求項4に記載の放射線画像変換パネルにおいて、前記蛍光体母体がCsBrであり、前記蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物がNaであり、蛍光体母体以外のアルカリ土類金属不純物がCaであることを特徴とする。
請求項5に記載の発明によれば、前記蛍光体母体がCsBrであり、前記蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物がNaであり、蛍光体母体以外のアルカリ土類金属不純物がCaであるので、特にCsBrからなる蛍光体母体において、支持体に含まれるNa及びCaの濃度を一定範囲内に抑えることができる。
請求項6に記載の発明は、
請求項4又は請求項5に記載の放射線画像変換パネルにおいて、前記支持体に含まれ、かつ、水に溶出する蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上20ppm以下であることを特徴とする。
請求項6に記載の発明によれば、
前記支持体に含まれ、かつ、水に溶出する蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上20ppm以下であるので、請求項4に記載の発明と比べて、輝尽性蛍光体パネルは、アルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度をさらに一定範囲内に抑えることができる。
請求項1に記載の発明によれば、輝尽性蛍光体パネルは、輝尽性蛍光体層に含まれるアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度をこのような一定範囲内に抑えることができるので、吸湿することにより蛍光体が失活するのを防止して、耐湿性を向上させることができる。
請求項2に記載の発明によれば、特にCsBrからなる蛍光体母体において、輝尽性蛍光体層に含まれるNa及びCaの濃度をこのような一定範囲内に抑えることができるので、このような組成からなる輝尽性蛍光体パネルは、吸湿することにより蛍光体が失活するのを防止して、耐湿性を向上させることができる。
請求項3に記載の発明によれば、請求項1に記載の発明と比べて、輝尽性蛍光体パネルは、アルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度をさらに一定範囲内に抑えることができるので、吸湿することにより蛍光体が失活するのを防止して、耐湿性を向上させることができる。
請求項4に記載の発明によれば、輝尽性蛍光体パネルは、支持体層に含まれるアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度をこのような一定範囲内に抑えることができるので、支持体に溶出してくるアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物を減らして、吸湿することにより蛍光体が失活するのを防止して、耐湿性を向上させることができる。
請求項5に記載の発明によれば、特にCsBrからなる蛍光体母体において、支持体に含まれるNa及びCaの濃度をこのような一定範囲内に抑えることができるので、このような組成からなる輝尽性蛍光体パネルは、吸湿することにより蛍光体が失活するのを防止して、耐湿性を向上させることができる。
請求項6に記載の発明によれば、請求項4に記載の発明と比べて、輝尽性蛍光体パネルは、アルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度をさらに一定範囲内に抑えることができるので、吸湿することにより蛍光体が失活するのを防止して、耐湿性を向上させることができる。
以下、本発明の具体的な実施形態である放射線画像変換パネルを図1〜図4を参照して説明する。ただし、本発明の範囲は図示例に限定されるものではない。
図1に示すように、本発明の放射線画像変換パネル1は、所定の支持体2上に輝尽性蛍光体層3が形成された蛍光体パネル4を有しており、当該蛍光体パネル4を2枚の保護フィルム5,5で完全に封止した構成を有している。
本実施形態で用いられる支持体2としては、輝尽性蛍光体層3を構成する輝尽性蛍光体母体以外に含まれるアルカリ金属系不純物の合計濃度が0.01以上50ppm以下、好ましくは0.01以上20ppm以下となるように、支持体2に存在するアルカリ金属系不純物の合計濃度が規定されたものが用いられている。
ここで、アルカリ金属系不純物とは、アルカリ金属、又はアルカリ土類金属若しくは、これら両方からなる化合物を指しており、元素周期表Ia族(水素を除く)又は、IIa族若しくはこれら両方からなる化合物を指している。例えば、CsBr:Euからなる輝尽性蛍光体である場合には、アルカリ金属系不純物として、Na又はCa若しくはこれら両方が含まれていることが好ましい。
また、この支持体2に存在するアルカリ金属系不純物の合計濃度は、水に溶出するアルカリ金属系不純物の合計濃度(溶出量)として規定することができる。具体的には、溶出量は、支持体を純水を入れたビーカー中に支持体2を浸漬し、10分経過した後、純水中に溶出されるアルカリ金属系不純物の合計濃度を測定し、支持体は100cm2(10cm×10cm)単位とした。
このように、支持体2に存在するアルカリ金属系不純物の合計濃度を規定するのは、放射線画像変換パネルを製造する際に、支持体2が加熱されることにより支持体2に含まれるアルカリ金属系不純物が支持体2の表面に溶出されるのを一定範囲内に抑え、支持体2と輝尽性蛍光体層3との間において、輝尽性蛍光体の結晶構造を乱して輝尽性蛍光体が失活してしまうのを防止するためである。
また、支持体2は、前記のようにアルカリ金属系不純物の合計濃度が規定されたもののうち、好ましくは水分の透過性が低いものを使用するのが好ましく、高分子材料,ガラス,金属等で構成され、特に、セルロースアセテートフィルム,ポリエステルフィルム,ポリエチレンテレフタレート,ポリアミドフィルム,ポリイミドフィルム,トリアセテートフィルム,ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム、石英,ホウ珪酸ガラス,化学的強化ガラス等の板ガラス、又はアルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シート若しくはそれら金属酸化物の被覆層を有する金属シートで構成されているのを用いるのがよい。
支持体2の表面2a(図1中上面)は滑面であってもよいし、輝尽性蛍光体層3との接着性を向上させる目的でマット面であってもよく、その表面2a上には輝尽性蛍光体層3との接着性を向上させる目的で下引層が設けられてもよいし、その表面2a上には支持体2を透過して輝尽性蛍光体層3に励起光が入射するのを防止する目的で光反射層が設けられてもよい。
また、これら支持体2の層厚は用いる支持体2の厚さによって異なるが、一般的には80μm〜5000μmであり、取り扱い上の点から、さらに好ましくは80μm〜3000μmである。
輝尽性蛍光体層3は、放射線画像変換パネル1の使用目的や、輝尽性蛍光体の種類に応じて、50μm以上、好ましくは300〜500μmの層厚である
図2は蛍光体パネル4の拡大断面図である。
図2に示す通り、輝尽性蛍光体層3は、輝尽性蛍光体から構成された多数の柱状結晶3a,3a,…が並んだ柱状構造を有している。なお、各柱状結晶3aは、支持体2の表面2aの法線Rに対し所定角度で傾斜していてもよい。
このような輝尽性蛍光体層3に用いる輝尽性蛍光体としては、一般式(1)で表されるアルカリハライド系の輝尽性蛍光体を使用することができる。
1X・aM2X’2・bM3X’’3:eA ・・・(1)
ここで、M1はLi、Na、K、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも一種
のアルカリ金属であり、特にK、Rb及びCsからなる群から選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であることが好ましい。
2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiからなる群から選ば
れる少なくとも一種の二価金属であり、特に、Be、Mg、Ca、Sr、及びBaから選ばれる少なくとも一種の二価金属であることが好ましい。
3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、H
o、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、特に、Y、La、Ce、Sm、Eu、Gd、Lu、Al、Ga及びInからなる群から選ばれる少なくとも一種の三価金属であることが好ましい。
X、X’及びX’’はF、Cl、Br及びIからなる群から選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、特にXはBr及びIからなる群から選ばれる少なくとも一種のハロゲンであることが好ましい。
AはEu、Tb、In、Ga、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属であり、特にEu、Cs、Sm、Tl及びNaからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属であることが好ましい。
a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦1.0の範囲の数値
を示し、特にbは0≦b≦10-2 の範囲の数値を示すことが好ましい。
この中でも特に、下記一般式(2)で表される輝尽性蛍光体を有することが好ましい。
CsBr:eEu ・・・(2)
ここで、eは0.0001<e≦1.0の範囲の数値を示す。
なお、前記の輝尽性蛍光体には、当該輝尽性蛍光体を構成する母体以外に含まれるアルカリ金属系不純物が、その合計濃度が0.01以上100ppm以下、好ましくは0.01以上30ppm以下となるように含まれている。
このように、輝尽性蛍光体に不純物として母体以外のアルカリ金属系不純物が含まれているのは、不純物を加えることで形成しようとする輝尽性蛍光体層3の初期輝度を低減させてしまったとしても、輝尽性蛍光体層3に含まれるアルカリ金属系不純物が吸湿することにより輝尽性蛍光体の結晶構造が乱れて輝尽性蛍光体が失活してしまうのを防止するためである。
上記の輝尽性蛍光体は、例えば下記(a)〜(d)の蛍光体原料を用いて以下に述べる製造方法により製造される。
(a)LiF、LiCl、LiBr、LiI、NaF、NaCl、NaBr、NaI、KF、KCl、KBr、KI、RbF、RbCl、RbBr、RbI、CsF、CsCl、CSBr及びCsIからなる群から選ばれる少なくとも1種もしくは2種以上の化合物。
(b)BeF2、BeCl2、BeBr2、BeI2、MgF2、MgCl2、MgBr2
MgI2、CaF2、CaCl2、CaBr2、CaI2、SrF2、SrCl2、SrBr2、SrI2、BaF2、BaCl2、BaBr2、BaI2、ZnF2、ZnCl2、ZnBr2、ZnI2、CdF2、CdCl2、CdBr2、CdI2、CuF2、CuCl2、CuBr2、CuI2、NiF2、NiCl2、NiBr2及びNiI2からなる群から選ばれる少なくと
も1種もしくは2種以上の化合物。
(c)ScF3、ScCl3、ScBr3、ScI3、YF3、YCl3、YBr3、YI3、LaF3、LaCl3、LaBr3、LaI3、CeF3、CeCl3、CeBr3、CeI3、PrF3、PrCl3、PrBr3、PrI3、NdF3、NdCl3、NdBr3、NdI3、PmF3、PmCl3、PmBr3、PmI3、SmF3、SmCl3、SmBr3、SmI3、EuF3、EuCl3、EuBr3、EuI3、GdF3、GdCl3、GdBr3、GdI3、TbF3、TbCl3、TbBr3、TbI3、DyF3、DyCl3、DyBr3、DyI3、HoF3、HoCl3、HoBr3、HoI3、ErF3、ErCl3、ErBr3、ErI3、TmF3、TmCl3、TmBr3、TmI3、YbF3、YbCl3、YbBr3、YbI3、LuF3、LuCl3、LuBr3、LuI3、AlF3、AlCl3、AlBr3、AlI3、GaF3、GaCl3、GaBr3、GaI3、InF3、InCl3、InBr3、及びIn
3からなる群から選ばれる少なくとも1種もしくは2種以上の化合物。
(d)Eu、Tb、In、Ga、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgからなる群から選ばれる少なくとも1種もしくは2種以上の金属。
上記(a)〜(d)の蛍光体原料を一般式(1)のa、b、eの範囲を満たすように秤量し、純水にて混合する。混合するにあたり、乳鉢、ボールミル、ミキサーミル等を用いて十分に混合するのが好ましい。
アルカリ金属系不純物の合計濃度の調整方法としては、精製の精度を調整してもよいし、純度の高い蛍光体原料に、微量添加してもよい。微量添加する場合には、当該輝尽性蛍光体を構成する母体以外に含まれるアルカリ金属系不純物の合計濃度が0.01以上100ppm以下、好ましくは0.01以上30ppm以下となるようにアルカリ金属系不純物の合計濃度を考慮して蛍光体原料を秤量し、混合する。例えば、CsBr:Euからなる輝尽性蛍光体を作製する場合、アルカリ金属系不純物として、NaBr又はCaBr2若しくはこれら両方を混合させるのがよい。
このように、蛍光体原料に含まれるアルカリ金属系不純物の合計濃度を規定し、アルカリ金属系不純物を一定範囲内に制御することにより、輝尽性蛍光体層3に含まれているアルカリ金属系不純物が吸湿するのを抑え、輝尽性蛍光体の結晶構造が乱れて輝尽性蛍光体が失活してしまうのを防止させる。
次に、蛍光体原料を混合して得られた原料混合液のpH値Cを0<C<7に調整するように所定の酸を加えた後、水分を蒸発気化させる。
次に、原料混合液から水分を蒸発気化させて得られた原料混合物を石英ルツボあるいはアルミナルツボ等の耐熱性容器に充填して電気炉内で焼成を行う。
次に、得られた原料混合物を石英ルツボあるいはアルミナルツボ等の耐熱性容器に充填して電気炉内で焼成を行う。焼成温度は500〜1000℃が好ましい。焼成時間は原料混合物の充填量、焼成温度等によって異なるが、0.5〜6時間が好ましい。
焼成雰囲気としては少量の水素ガスを含む窒素ガス雰囲気、少量の一酸化炭素を含む炭酸ガス雰囲気等の弱還元性雰囲気、窒素ガス雰囲気、希ガス雰囲気等の中性雰囲気あるいは少量の酸素ガスを含む弱酸化性雰囲気が好ましい。
なお、前記の焼成条件で一度焼成した後、得られた焼成物を電気炉から取り出して粉砕し、しかる後、焼成物粉末を再び耐熱性容器に充填して電気炉に入れ、前記と同じ焼成条件で再焼成を行えば輝尽性蛍光体の発光輝度を更に高めることができ、また、焼成物を焼成温度より室温に冷却する際、焼成物を電気炉から取り出して空気中で放冷することによっても所望の輝尽性蛍光体を得ることができるが、焼成時と同じ、弱還元性雰囲気、中性雰囲気あるいは弱酸化性雰囲気のままで冷却してもよい。
また、焼成物を電気炉内で加熱部より冷却部へ移動させて、弱還元性雰囲気、中性雰囲気あるいは弱酸化性雰囲気で急冷することにより、得られた輝尽性蛍光体の輝尽による発光輝度をより一層高めることができる。
本発明に係る放射線画像変換パネルは、このように作製された輝尽性蛍光体を用いて、気相堆積法により前述した支持体2の一方の面に輝尽性蛍光体層3を形成させることにより製造される。気相堆積法としては、真空蒸着法を用いることができる。
真空蒸着法では、例えば、支持体2を従来公知の蒸着装置内に設置し、前記輝尽性蛍光体を従来公知の蒸着源に設置した後、蒸着装置内を排気し、真空にした状態で前記輝尽性蛍光体を加熱蒸発させて、その蒸気を支持体2の表面に薄膜状に付着させ、これが層状を呈すことにより形成される輝尽性蛍光体層3を所望の厚さにまで成長させる。
この際、蒸着する方法や蒸着条件に特に限定はなく、目的とする輝尽性蛍光体層3の層厚や輝尽性蛍光体層3を形成する速度に応じて適宜選択すれがよい。
したがって、蒸着源やその加熱手段も、特に限定はなく、電子銃等を用いる電子線(EB)加熱でも、抵抗加熱でも、誘導加熱でもよい。また、蒸着源を複数備えて蒸着させてもよい。
また、加熱手段の出力にも、特に限定はなく、輝尽性蛍光体層3を形成する速度等に応じて、適宜選択すればよい。
また、蒸着する方法や蒸着条件の好ましい一例として、支持体2を加熱しながら蒸着することがあげられる。この際、支持体2の温度を、50℃〜400℃に設定してもよく、輝尽性蛍光体の特性上は100℃〜250℃が好ましく、支持体2に樹脂を用いる場合には樹脂の耐熱性を考慮して50℃〜150℃、さらに好ましくは50℃〜100℃が好ましい。
また、蒸着装置内を1.0×10-5Pa〜1.0×10-2Paの真空度に保ちながら、支持体2の表面に0.05μm/min〜300μm/min程度の速度で輝尽性蛍光体層3を成長させることがあげられる。
図2は、支持体2上に輝尽性蛍光体層3が蒸着により形成される様子を示す図である。
支持体2を支持する支持体ホルダ6に固定された支持体2表面の法線方向(R)に対する輝尽性蛍光体の蒸気流の入射角度をθ2(図では60°)とし、形成される柱状結晶3aの支持体面の法線方向(R)に対する角度をθ1(図では30°)とすると、経験的にはθ1はθ2の約半分となり、この角度で柱状結晶3aが形成される。なお、θ1は0°以上60°以下が好ましく、0°以上30°以下がさらに好ましい。
また、柱状結晶3aの間に形成された間隙に結着剤等の充填物を充填してもよく、輝尽性蛍光体層3の補強となるほか、高光吸収の物質、高光反射の物質を充填してもよい。これにより前記補強効果をもたせるほか、輝尽性蛍光体層3に入射した輝尽励起光の横方向への光拡散の低減に有効である。
このとき、輝尽性蛍光体層3が形成される支持体2の表面2aでは、支持体2に含まれるアルカリ金属系不純物の濃度を規定することにより、支持体2に含まれているアルカリ金属系不純物が支持体2が加熱されることで支持体2の表面2aに溶出するのを一定範囲内に抑え、輝尽性蛍光体の結晶構造が乱れて輝尽性蛍光体が失活してしまうことがない。
また、輝尽性蛍光体層3では、輝尽性蛍光体に含まれるアルカリ金属系不純物の濃度が規定されることにより、輝尽性蛍光体層3に含まれているアルカリ金属系不純物が吸湿するのを一定範囲内に抑え、輝尽性蛍光体の結晶構造が乱れて輝尽性蛍光体が失活してしまうことがない。
このような過程を経て、所望の厚さの輝尽性蛍光体層3を設けたら、蛍光体パネル4を蒸着装置6から取り出し、取り出した蛍光体パネル4を2枚の保護フィルム5に挟んでその周縁部をインパルスシーラで加熱・融着し、封止する。これにより、放射線画像変換パネル1の製造が完了する。
なお、封止する際には、輝尽性蛍光体層3を被覆するように保護フィルム5を単に支持体2に貼り付けて放射線画像変換パネル1の製造を完了してもよい。
このようにして放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層と支持体とにおいて、前述したような一定の濃度に規定されたアルカリ金属系不純物を含む放射線画像変換パネルが製造され、輝尽性蛍光体の結晶構造の乱れにより輝尽性蛍光体が失活してしまうのを防止させる。
以上のように、本発明の放射線画像変換パネルでは、支持体2に含まれる蛍光体母体以外のアルカリ金属系不純物の合計濃度と、支持体2上に形成される輝尽性蛍光体層3に含まれる蛍光体母体以外のアルカリ金属系不純物の合計濃度とが規定されることにより、輝尽性蛍光体が吸湿することにより輝尽性蛍光体が失活してしまうのを防止させることができるので、高湿度の環境下においても発光輝度の低下を抑える等、優れた耐湿性をもつことができる。
以下、本発明を実施例により説明する。なお、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。実施例では以下に記載の方法に従って、放射線画像変換パネルを想定したサンプルNo.1〜サンプルNo.3、及びサンプルNo.5〜サンプルNo.7を作製するとともに、比較例として放射線画像変換パネルを想定したサンプルNo.4及びサンプルNo.8を作製し、各サンプルの相対輝度劣化率を測定し評価した。
<サンプルの作製>
(1)サンプルNo.1の作製
大きさが10cm×10cmであり、正方形状で厚さ2mmのガラス基板を用いて、支持体に含まれるNa濃度が1ppmの支持体を以下のように準備した。
まず、このガラス基板上の一方の面に光反射層を設ける。その後、Naの溶出量が1ppmとなるように、NaBrを添加したシリコーン樹脂を厚み1μmとなるように周知のバーコーターで光反射層上への塗布を行い、下引層を設ける。以下の記載において、ガラス基板上に光反射層及び下引層を設けたガラス基板を支持体といい、本実施例においては、Naは下引層より溶出するが、支持体自体から溶出する場合も想定される。
その後、従来公知の蒸着装置を用いて支持体の光反射層上にCsBrを母体とする輝尽性蛍光体を蒸着し、支持体の光反射層上に輝尽性蛍光体層を形成した蛍光体プレートを形成した。
具体的には、始めに、輝尽性蛍光体の原料であるCsBr(関東化学社製)とNaBr(関東化学社製)とを、支持体上に形成させる輝尽性蛍光体層に含まれるNa濃度が1ppmとなるようにNaBrを添加して混合し、純水に溶解させて原料混合液を得る。次に、この原料混合物の水分を蒸発させて原料混合物を得て、その後、この原料混合物を800℃60分焼成して焼成物を得る。これにより、焼成物中のNa濃度が調整されており、次にこの焼成物を用いて蒸着を行う。まず、焼成物を蒸着装置の真空チャンバー内の蒸着源に充填する。
その後、真空チャンバー内に支持体の光反射層を形成した面を蒸着源に向けた状態で支持体を固定し、真空チャンバー内を1×10-5Paまで真空にした後、Arガスを導入して真空チャンバー内の真空度を1×10-2Paに調節した。
その後、支持体を100℃まで加熱し、これを保持した状態で蒸着源を加熱して支持体にCsBrを蒸着し、1mm厚の柱状構造を有する輝尽性蛍光体層を各支持体の光反射層上に形成したところで蒸着を終了し、冷却させた後に蛍光体プレートを取り出し、これをサンプル1とした。
(2)サンプルNo.2の作製
サンプルNo.1の作製において、輝尽性蛍光体の原料を混合する際に、支持体上に形成させる輝尽性蛍光体層に含まれるNa濃度が30ppmとなるようにNaBrを添加して混合した以外は、前記(1)と同様の方法で行い、作製された蛍光体プレートをサンプルNo.2とした。
(3)サンプルNo.3の作製
サンプルNo.1の作製において、輝尽性蛍光体の原料を混合する際に、支持体上に形成させる輝尽性蛍光体層に含まれるNa濃度が80ppmとなるようにNaBrを添加して混合した以外は、前記(1)と同様の方法で行い、作製された蛍光体プレートをサンプルNo.3とした。
(4)サンプルNo.4の作製
比較例として、サンプルNo.1の作製において、輝尽性蛍光体の原料を混合する際に、支持体上に形成させる輝尽性蛍光体層に含まれるNa濃度が200ppmとなるようにNaBrを添加して混合した以外は、前記(1)と同様の方法で行い、作製された蛍光体プレートをサンプルNo.4とした。
(5)サンプルNo.5の作製
サンプルNo.2の作製において、支持体に含まれるNa濃度が5ppmの支持体を用いて蒸着を行い、使用する支持体を変更した以外は前記(2)と同様の方法で行い、作製された蛍光体プレートをサンプルNo.5とした。
なお、使用する支持体の準備方法は、サンプルNo.1の作製において、Naの溶出量が5ppmとなるように、NaBrを添加してシリコーン樹脂の光反射層上への塗布を行う以外は前記(1)と同様の方法で行った。
(6)サンプルNo.6の作製
サンプルNo.2の作製において、支持体に含まれるNa濃度が30ppmの支持体を用いて蒸着を行い、使用する支持体を変更した以外は前記(2)と同様の方法で行い、作製された蛍光体プレートをサンプルNo.6とした。
なお、使用する支持体の準備方法は、サンプルNo.1の作製において、Naの溶出量が30ppmとなるように、NaBrを添加してシリコーン樹脂の光反射層上への塗布を行う以外は前記(1)と同様の方法で行った。
(7)サンプルNo.7の作製
サンプルNo.2の作製において、支持体に含まれるNa濃度が45ppmの支持体を用いて蒸着を行い、使用する支持体を変更した以外は前記(2)と同様の方法で行い、作製された蛍光体プレートをサンプルNo.7とした。
なお、使用する支持体の準備方法は、サンプルNo.1の作製において、Naの溶出量が45ppmとなるように、NaBrを添加してシリコーン樹脂の光反射層上への塗布を行う以外は前記(1)と同様の方法で行った。
(8)サンプルNo.8の作製
比較例として、サンプルNo.2の作製において、支持体に含まれるNa濃度が100ppmの支持体を用いて蒸着を行い、使用する支持体を変更した以外は前記(2)と同様の方法で行い、作製された蛍光体プレートをサンプルNo.8とした。
なお、使用する支持体の準備方法は、サンプルNo.1の作製において、Naの溶出量が100ppmとなるように、NaBrを添加してシリコーン樹脂の光反射層上への塗布を行う以外は前記(1)と同様の方法で行った。
<サンプルの評価>
(1)高湿度の環境下における相対輝度劣化率の測定
前述した方法で作製されたサンプルNo.1〜サンプルNo.8ついて、管電圧80kVpのX線を各サンプルの輝尽性蛍光体層が形成された側から照射した後、パネルをHe−Neレーザ光(633nm)を走査させて励起させ、蛍光体層から放射される輝尽発光を受光器(分光感度S−5の光電子像倍管)で受光し、その発光強度を測定する。なお。このときの発光強度を初期輝度という。その後、各サンプルを40℃、80%の湿度が保たれた部屋に1時間放置し、湿度による劣化を生じさせる。その後、再び発光強度(劣化後輝度)を測定し、各サンプルについて初期輝度に対する劣化後の輝度である相対輝度劣化率(%)を求めて下記表1に記載した。
Figure 2006113018
表1からもわかるように、蛍光体層に含まれるNa濃度が上昇するにつれ、相対輝度劣化率が上昇するが、特に、蛍光体層に含まれるNa濃度が1,30,80ppmであるサンプルNo.1〜サンプルNo.3では、相対輝度劣化率が0〜8%以内に収まり、高湿度の環境下でも相対輝度劣化率をほとんど低下させることがなく、優れた耐湿性を示すことがわかる。
また、支持体に含まれるNa濃度も上昇すると、輝度劣化率が上昇することがわかり、特に、支持体から溶出するNa濃度が1,5,30,45ppmであるサンプルNo.2及びサンプルNo.5〜サンプルNo.7では、輝度劣化率が3〜9%以内に収まり、高湿度の環境下でも相対輝度劣化率をほとんど低下させることがなく、優れた耐湿性を示すことがわかる。
本発明を適用した放射線画像変換パネルの模式的断面図である。 本発明を適用した放射線画像変換パネルの蛍光体層の模式的断面図である。
符号の説明
1 放射線画像変換パネル
2 支持体
3 輝尽性蛍光体層
4 蛍光体パネル
5 保護フィルム

Claims (6)

  1. 支持体上にアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層が気層成長法により柱状に形成された放射線画像変換パネルであって、前記輝尽性蛍光体層に含まれる蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上100ppm以下であることを特徴とする放射線画像変換パネル。
  2. 前記蛍光体母体がCsBrであり、前記蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物がNaであり、蛍光体母体以外のアルカリ土類金属不純物がCaであることを特徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネル。
  3. 前記輝尽性蛍光体層に含まれる蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上30ppm以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の放射線画像変換パネル。
  4. 支持体上にアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層が気層成長法により柱状に形成された放射線画像変換パネルであって、前記支持体に含まれ、かつ、水に溶出する蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上50ppm以下であることを特徴とする放射線画像変換パネル。
  5. 前記蛍光体母体がCsBrであり、前記蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物がNaであり、蛍光体母体以外のアルカリ土類金属不純物がCaであることを特徴とする請求項4に記載の放射線画像変換パネル。
  6. 前記支持体に含まれ、かつ、水に溶出する蛍光体母体以外のアルカリ金属不純物及びアルカリ土類金属不純物の合計濃度が0.01以上20ppm以下であることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の放射線画像変換パネル。
JP2004303139A 2004-10-18 2004-10-18 放射線画像変換パネル Expired - Fee Related JP4492288B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004303139A JP4492288B2 (ja) 2004-10-18 2004-10-18 放射線画像変換パネル

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004303139A JP4492288B2 (ja) 2004-10-18 2004-10-18 放射線画像変換パネル

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006113018A true JP2006113018A (ja) 2006-04-27
JP4492288B2 JP4492288B2 (ja) 2010-06-30

Family

ID=36381633

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004303139A Expired - Fee Related JP4492288B2 (ja) 2004-10-18 2004-10-18 放射線画像変換パネル

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4492288B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008111790A (ja) * 2006-10-31 2008-05-15 Fujifilm Corp 平面放射線画像検出器の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04127099A (ja) * 1990-09-18 1992-04-28 Konica Corp 放射線画像変換パネルの製造方法
JP2003043195A (ja) * 2001-07-30 2003-02-13 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線像変換パネルの製造方法
JP2003156597A (ja) * 2001-07-30 2003-05-30 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線像変換パネルの製造方法
JP2003262671A (ja) * 2002-03-07 2003-09-19 Hamamatsu Photonics Kk シンチレータパネルおよびその製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04127099A (ja) * 1990-09-18 1992-04-28 Konica Corp 放射線画像変換パネルの製造方法
JP2003043195A (ja) * 2001-07-30 2003-02-13 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線像変換パネルの製造方法
JP2003156597A (ja) * 2001-07-30 2003-05-30 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線像変換パネルの製造方法
JP2003262671A (ja) * 2002-03-07 2003-09-19 Hamamatsu Photonics Kk シンチレータパネルおよびその製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008111790A (ja) * 2006-10-31 2008-05-15 Fujifilm Corp 平面放射線画像検出器の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4492288B2 (ja) 2010-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4665968B2 (ja) 放射線画像変換パネル
EP1566813A2 (en) Radiation image conversion panel
JP4985379B2 (ja) 放射線画像変換パネル
EP1635358A2 (en) Method for producing radiation image conversion panel
US20040183029A1 (en) Radiographic image conversion panel
US8063387B2 (en) Radiation image conversion panel
JP4492288B2 (ja) 放射線画像変換パネル
JP4378959B2 (ja) 放射線画像変換パネルの製造方法
JP4333304B2 (ja) 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法
JP2004205354A (ja) 放射線画像変換パネルの製造方法及び放射線画像変換パネル
JP2005091146A (ja) 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法
JP2007161952A (ja) 放射線画像変換パネルとその製造方法
JP4281524B2 (ja) 放射線画像変換パネル
JP3228527B2 (ja) 放射線画像変換パネルの製造方法
EP1526554A2 (en) Radiation image conversion panel
JP2006125932A (ja) 放射線画像変換パネルの製造方法
JP2005091148A (ja) 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法
JP2006084213A (ja) 放射線画像変換パネルの製造方法
JP3307407B2 (ja) 放射線画像変換パネルの製造方法
JP2005106544A (ja) 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法
JP2005091188A (ja) 放射線画像変換パネル
JP2006078324A (ja) 放射線画像変換パネルの製造方法
JP2005156411A (ja) 放射線画像変換パネル
JP2004205355A (ja) 放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法
JP2005156224A (ja) 放射線画像変換パネルの製造方法及び放射線画像変換パネルの製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070906

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090929

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091120

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091215

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100210

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100316

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100329

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140416

Year of fee payment: 4

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees