JP2006112770A - 真空浸炭炉 - Google Patents

真空浸炭炉 Download PDF

Info

Publication number
JP2006112770A
JP2006112770A JP2005065150A JP2005065150A JP2006112770A JP 2006112770 A JP2006112770 A JP 2006112770A JP 2005065150 A JP2005065150 A JP 2005065150A JP 2005065150 A JP2005065150 A JP 2005065150A JP 2006112770 A JP2006112770 A JP 2006112770A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat insulating
insulating material
layer
space
furnace
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2005065150A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiyuki Iwagami
良行 岩上
Satoru Harai
哲 原井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nachi Fujikoshi Corp
Original Assignee
Nachi Fujikoshi Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nachi Fujikoshi Corp filed Critical Nachi Fujikoshi Corp
Priority to JP2005065150A priority Critical patent/JP2006112770A/ja
Publication of JP2006112770A publication Critical patent/JP2006112770A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)
  • Furnace Housings, Linings, Walls, And Ceilings (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Abstract

【課題】断熱材への重合物・煤等の蓄積抑制と、蓄積した重合物・煤等をバーンアウトにより燃焼させ断熱材の断熱機能を維持させる浸炭室を有する真空浸炭炉を提供。
【解決手段】断熱材枠3の内部には、2層組合せたセラミックスファイバーボード断熱材4、5の中間に空間連結断熱材6を介して空間層9を配置した3層構成にしてなる断熱層を有し、空間層9の内側に配置したセラミックスファイバーボード断熱材5は、炉内内部温度に耐えうる材質のものを使用し、空間層9の温度分布が約 500〜600 ℃となるように空間層9の内側に配置した断熱材5の材質及び層数を選定し、かつ空間層9に外部からの空気導入ノズル13を配置している。
【選択図】図1

Description

本発明は、浸炭室を有する真空浸炭炉に関し、特に真空浸炭炉の浸炭室の断熱材構造に関する。
高温減圧下で炭化水素系ガスによる真空浸炭を行う浸炭室を有する真空浸炭炉は周知であり、この場合、炭化水素系ガスが炭素と水素に分解して炭素分が鋼の表面で反応し浸炭が起きるといわれている。炭化水素系ガスは高温減圧下で炭素と水素の分解のほか、重合反応が起き重合物が発生する可能性があり、又、温度分布状態により分解した炭素が煤化する可能性もある。この重合物や煤といった発生物が断熱材に含浸され断熱機能の劣化につながるため、従来よりバーンアウトによる発生物を燃焼させる方法が知られている。
特許文献1には、図10に示す、浸炭室を有する真空浸炭炉の概略断面ブロック図でみるように、炉殻31と、その内側に配置された断熱枠32と、さらにその内側に配置された厚板状または多層状の断熱材であるアルミナ・シリカ系セラミックファイバーブランケット 33、34と薄板状のアルミナ系セラミック複合材35とによって形成した断熱層と、からなる浸炭室40を有する真空熱処理炉30が記載されている。37はワーク、38は炉床、41は炭化水素系ガスノズル、42は排気口である。図11は図10の断熱材構成と留め方の一例を示す部分拡大説明図である。断熱材33、34、35はスタッド45、ナット44により断熱枠32に溶接46で留められている。
特開2002−357389号公報
かかる従来の浸炭室を有する真空熱処理炉では、断熱材に含浸された炭化水素系ガスの重合物・煤等の発生物は断熱材内部まで拡散し、バーンアウトを実施しても表面近くのものは燃焼するが内部に蓄積されたものは十分酸素がいきわたらないことと断熱材による断熱効果のため、温度分布が発生物の発火点以下であれば燃焼せず蓄積量が次第に増加し、断熱材の蓄熱量が増加し昇温、降温時間が延びサイクルタイムに影響することと消費エネルギーの増大につながる。また断熱材の断熱機能が劣化してきたときには、図10の断熱材構成と留め方の一例を示す図11でみるように、断熱材33、34、35はスタッド45、ナット44により断熱枠32に溶接46で留められているので、断熱材33、34、35一式を交換する必要があり、費用面、時間的な点からも無駄が多かった。
特許文献1に記載の真空熱処理炉の断熱層の断熱材構成では、これを炭化水素系ガスを使用する真空浸炭炉として使用するときは、前述の炭化水素系ガスの重合物・煤等の発生物が断熱材内に含浸される可能性があり、特に内側断熱材であるアルミナ系セラミック複合材35及びアルミナ・シリカ系セラミックファイバーブランケット 33、34は重合物、煤等の発火温度は約500 ℃以下のためバーンアウトしても燃焼せず、次第に重合物・煤等が断熱材内に蓄積されてゆく。また特許文献1の請求項3では、上記断熱層のうち少なくとも一層を炭素繊維のボードまたは炭素繊維のフェルトまたは炭素繊維の板材で構成する浸炭室を提案しているが、かかる真空熱処理炉の断熱層は、バーンアウトすると断熱材自体が燃焼するためバーンアウトできない課題があった。
本発明の課題は、真空浸炭炉の浸炭室において、断熱材への重合物・煤等の蓄積抑制と蓄積した重合物・煤等をバーンアウトにより燃焼させ断熱材の断熱機能を維持させることにある。本発明の別の課題は、断熱性能が劣化したときに最小費用と短時間で断熱材の交換およびメンテナンスを可能にした浸炭室を有する真空浸炭炉を提供することにある。
このため本発明は、真空浸炭炉の浸炭室において、該浸炭室は、断熱枠とその内側に多層組合せて配置された断熱材からなる断熱層を有し、多層組合せた該断熱材の中間に空間連結断熱材を介して空間層を配置し、該空間層の温度分布を約 500〜600 ℃となるように該空間層の内側に配置した該断熱材の材質及び層数を選定し、かつ該空間層に外部からの空気導入ノズルを配置した浸炭室としたことを特徴とする真空浸炭炉を提供することによって上記した従来製品の課題を解決した。
かかる構成により、本発明の真空浸炭炉の浸炭室においては、多層組合せた該断熱材の中間に空間層を配置し、該空間層の温度分布を 500〜600 ℃となるように該空間層の内側に配置した該断熱材の材質を選定し、かつ該空間層に空気導入ノズルを配置した浸炭室としたので、内層部の断熱材へ重合物、煤等の蓄積抑制と蓄積された重合物、煤等を炉の内部からと空間層からと両面からバーンアウトをすることになり断熱材内部の重合物、煤等をほぼ完全に燃焼することができ、断熱材の断熱機能を維持させる断熱層をもつ浸炭室を有する真空浸炭炉を提供するものとなった。
好ましくは、該断熱材はセラミックスファイバーボードとし、及び/又は、該空間連結断熱材の内側に配置した該断熱材を取り囲む鋼材製内側断熱枠を、該内側に配置した該断熱材に固定して配置してもよい。
さらに好ましくは、該空間層の内側に配置した該断熱材を、該空間層の外側に配置した該断熱材とは区別して、個別に分解交換できる構造とすることにより、断熱層の断熱性能が劣化したときに、最小費用と短時間で断熱材の交換およびメンテナンスを可能にしてもよい
本発明を実施するための最良の形態の一例を図面を参照して説明する。図1は本発明の第1の実施形態の、空間連結断熱材6を含む、3層のセラミックスファイバーボード断熱材構成の浸炭室を有する真空浸炭炉の概略断面ブロック図、図2は図1の浸炭室での断熱材の留め方を示す部分拡大説明図、図3は図1の浸炭室での3層組合せた各断熱層の温度分布を示す説明図である。本発明の実施形態では、断熱材はセラミックスファイバーボードを使用したが、他のアルミナ系セラミック複合材を使用してもよい。
図1乃至図3に示すように、本発明の第1の実施形態の真空浸炭炉1の浸炭室兼加熱室10では、炉体2の内部に断熱材枠3が図示しない取付具により炉体2に固定されている。炉体2に取付けられた炉床8上に図示しないトレイ又はバスケットに積載された被処理物であるワーク7が載置されている。炉体2上部に取付けられた熱源ラジアントチューブ16が図1ではワーク7の左右にあって、ワーク7を加熱する。浸炭用炭化水素系ガスは炉体上部から浸炭用炭化水素系ガスノズル11により炉内に注入され、炉内下部に設置された排気口12から図示しない真空ポンプにより炉体外部に排気される。断熱材枠3の内部には、2層組合せたセラミックスファイバーボード断熱材4、5の中間に空間連結断熱材6を介して空間層9を配置した3層構成にしてなる断熱層を有し、空間層9の温度分布が約 500〜600 ℃となるように空間層9の内側に配置したセラミックスファイバーボード断熱材5は炉内内部温度に耐えうる材質及び層数を選定し、かつ空間層9に外部からの空気導入ノズル13を配置している。2層目は空間層9とし最内層アルミナシリカ系セラミックスファイバーボード断熱材4を固定するスタッド15のために部分的にアルミナシリカ系セラミックスファイバーボード空間連結断熱材6を入れる。図2に示すように、断熱材枠3はパンチングメタル材等の通過性のある材料で作られており、断熱材 4、5、6はスタッド15を断熱材枠3に溶接しワッシャー17を介してナット18により、外層断熱材4を挟んで共締めし固定する。これに対し、外層断熱材4は単独でスタッド65、ナット64により断熱枠3に留められて固定される。図1の浸炭室10での3層組合せた各断熱層 4、5、6の温度分布を示す説明図である図3に示すように、図1の浸炭室10の炉内温度は約950 ℃であるが、空間層9の温度分布が約 500〜600 ℃となるようにされている。
かかる構成により、本発明の実施形態の真空浸炭炉1の浸炭室10においては、多層組合せた該セラミックスファイバーボード断熱材 4、5の中間に空間連結断熱材6を介して空間層9を配置し、空間層9の温度分布を 500〜600 ℃となるように空間層9の内側に配置した該セラミックスファイバーボード断熱材5の材質と層数を選定し、かつ空間層9に空気導入ノズル13を配置した浸炭室10としたので、内層部の断熱材5へ重合物、煤等の蓄積の抑制と、蓄積された重合物、煤等は浸炭室10の内部からと空間層9からと両面からバーンアウトをすることになり、内層部の断熱材5内の重合物、煤等はほぼ完全に燃焼することができ、断熱材5の断熱機能を維持させる断熱層をもつ浸炭室10を有する真空浸炭炉1を提供するものとなった。
作動においては、図示しない搬入装置で浸炭室10内に搬入されたワーク7は熱源により加熱される。熱源はセラミックス製ラジアントチューブ16に電気ヒータを入れるか又はガス焚きが一般的である。炉体2外部から浸炭ガスとして炭化水素系ガス例えばエチレン、プロパン等を浸炭用炭化水素系ガスノズル11により炉内に注入し、注入し浸炭工程、拡散工程を行う。炭化水素系ガスは高温減圧下で炭素と水素に分解するが一部重合反応し重合物を生成する。重合物は気体状で多くは排気口12より排気されるが、断熱材の気孔率が非常に高いため断熱材内部に拡散して断熱材組織に絡みつく現象がみられる。いったん絡みつくと次第に増大していく傾向があり、絡みつく温度は500 ℃以上であることが実炉および確認試験で実証されている。空間部9には炉体2外部から空気導入ノズル13を入れバーンアウト時に空気を入れる。熱処理設備の性格上、24時間運転が一般的であるため、バーンアウトは週末に実施する例が多く、その週に蓄積された重合物、煤等を燃焼させる量の空気を注入する。空間部9も減圧下であるため断熱効果があり、空間部9を設けない断熱構成と比較して、空間部9を設けたことによる断熱効果の減少はない。
図4は本発明の第2の実施形態のセラミックスファイバーボード断熱材構成の浸炭室を有する真空浸炭炉の概略断面ブロック図で、炉内設定温度により断熱材の層数を変える例として、浸炭室30の炉内温度1,000 ℃で断熱材の積層数を、空間連結断熱材26を含む、4層構成とした例で示す。図5にその断熱材 23、24、25、26の留め方の詳細を示す部分拡大説明図で、外層断熱材23は単独でスタッド65、ナット64により断熱枠22にに留められ、空間層29の内側に配置した内層断熱材 24、25と空間連結断熱材26はスタッド55、ナット54により外層断熱材23を挟んで断熱枠22に溶接されたスタッド55により共締めされる。かつ空間層29に空気導入ノズル13を配置し、空間層29までの断熱材24、25、26に重合物や煤等を蓄積させる。図6は図4の浸炭室30の断熱材23、24、25及び空間部29の温度分布状態を示す説明図で、空間層29の温度分布は約 500〜600 ℃とされている。炉内設定温度が 900℃〜950 ℃位では3層構成とし、950 ℃を超える場合は4層以上の構成とするのが好ましい。
図7(a)は本発明の第3の実施形態の、空間連結断熱材6の内側に配置した断熱材5を取り囲む鋼材製内側断熱枠71を、内側に配置した断熱材5に固定して配置した真空浸炭炉70の概略断面ブロック図、(b)は(a)の浸炭室10でのセラミックスファイバーボード断熱材の留め方を示す部分拡大説明図をそれぞれ示す。鋼材製内側断熱枠71以外は図1〜3と同じであり、説明を省略する。鋼材製内側断熱枠71は軽量形鋼製で、図7(b)に示すように、空間連結断熱材6の部分に平鋼72をわたした簡易なものとし、すかし73を設けている。図8(a)は鋼材製内側断熱枠71の1面分の斜視図で、断熱枠71は外枠75に空間連結断熱材6の部分に平鋼72をわたした。断熱枠71は内側に配置した断熱材5の6面に配置され、(b)で示すように(a)の鋼材製内側断熱枠71の外枠75穴74をボルト75で止めて固定する。図9(a)は本発明の第4の実施形態の、空間連結断熱材26の内側に配置した断熱材 24、25を取り囲む鋼材製内側断熱枠81を、内側に配置した断熱材24に固定して配置した真空浸炭炉80の概略断面ブロック図、(b)は(a)の浸炭室20でのセラミックスファイバーボード断熱材の留め方を示す部分拡大説明図をそれぞれ示す。鋼材製内側断熱枠71以外は図4〜6と同じであり、説明を省略する。
図7、図9において、空間連結断熱材6、26の内側に配置した断熱材5、24を取り囲む鋼材製内側断熱枠 71、81を、内側に配置した断熱材5、24に固定して配置したことにより、図1、図4において、時間が経過すると共に、空間連結断熱材6、26が当たらない空間連結断熱材6、26の内側に配置した断熱材5、24の外側の空間層9、29と接する部分が断熱材5、24、25内部の温度差による変形を防止する真空浸炭炉 70、80を提供するものとなった。
断熱材の性能劣化したとき断熱材を一式交換する例が多い。本発明の実施形態の真空浸炭炉1、21の浸炭室 10、20においては、空間層9、29の内側に配置したセラミックスファイバーボード断熱材5、6、25、24、26を、空間層9、29の外側に配置したセラミックスファイバーボード断熱材4、23とは区別して、個別に分解交換できる構造とすることにより、断熱層の断熱性能が劣化したときに、最小費用と短時間で断熱材の交換およびメンテナンスを可能にした浸炭室を有する真空浸炭炉を提供するものとなった。
本発明の第1の実施形態の、空間連結断熱材6を含む3層のセラミックスファイバーボード断熱材構成の浸炭室を有する真空浸炭炉の概略断面ブロック図。 図1の浸炭室でのセラミックスファイバーボード断熱材の留め方を示す部分拡大説明図を示す。 図1の浸炭室での3層組合せた各断熱層の温度分布を示す説明図。 本発明の第2の実施形態の、空間連結断熱材26を含む、4層のセラミックスファイバーボード断熱材構成の浸炭室を有する真空浸炭炉の概略断面ブロック図。 図4の浸炭室でのセラミックスファイバーボード断熱材の留め方を示す部分拡大説明図。 図4の浸炭室での4層組合せた各断熱層の温度分布を示す説明図。 (a)本発明の第3の実施形態の、空間連結断熱材の内側に配置した断熱材を取り囲む鋼材製内側断熱枠を、内側に配置した該断熱材に固定して配置した真空浸炭炉の概略断面ブロック図、(b)は(a)の浸炭室でのセラミックスファイバーボード断熱材の留め方を示す部分拡大説明図。 (a)は図7の鋼材内側製断熱枠の1面分の斜視図、(b)は(a)の断熱枠の止め方を示す要部断面図。 (a)本発明の第4の実施形態の、空間連結断熱材の内側に配置した断熱材を取り囲む鋼材内側製断熱枠を、内側に配置した該断熱材に固定して配置した真空浸炭炉の概略断面ブロック図、(b)は(a)の浸炭室でのセラミックスファイバーボード断熱材の留め方を示す部分拡大説明図。 特許文献1の浸炭室を有する真空浸炭炉の概略断面ブロック図。 図7の断熱材構成と留め方の一例を示す部分拡大説明図。
符号の説明
1:真空浸炭炉 2:炉体 3:断熱材枠
4、23、5、25、24:セラミックスファイバーボード断熱材 8:炉床
6、26:空間連結断熱材 7:ワーク 9,29:空間層
10,20 :浸炭室 13 :空間層への空気導入ノズル

Claims (5)

  1. 真空浸炭炉の浸炭室において、該浸炭室は、断熱枠とその内側に多層組合せて配置された断熱材からなる断熱層とを有し、多層組合せた該断熱材の中間に空間連結断熱材を介して空間層を配置し、該空間層の温度分布を約 500〜600 ℃となるように該空間層の内側に配置した該断熱材の材質及び層数を選定し、かつ該空間層に外部からの空気導入ノズルを配置したことを特徴とする真空浸炭炉。
  2. 該断熱材はセラミックスファイバーボードであることを特徴とする請求項1記載の真空浸炭炉。
  3. 該空間連結断熱材の内側に配置した該断熱材を取り囲む鋼材製内側断熱枠を、該内側に配置した該断熱材に固定して配置したことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の真空浸炭炉。
  4. 該鋼材製内側断熱枠は、該空間連結断熱材に当たる部分に平鋼を配置してすかしを設けたことを特徴とする請求項3記載の真空浸炭炉。
  5. 該空間層の内側に配置した該断熱材を、該空間層の外側に配置した該断熱材とは区別して、個別に分解交換できる構造としたことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1に記載の真空浸炭炉。
JP2005065150A 2004-09-17 2005-03-09 真空浸炭炉 Withdrawn JP2006112770A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005065150A JP2006112770A (ja) 2004-09-17 2005-03-09 真空浸炭炉

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004271459 2004-09-17
JP2005065150A JP2006112770A (ja) 2004-09-17 2005-03-09 真空浸炭炉

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006112770A true JP2006112770A (ja) 2006-04-27

Family

ID=36381426

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005065150A Withdrawn JP2006112770A (ja) 2004-09-17 2005-03-09 真空浸炭炉

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006112770A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015162989A1 (ja) * 2014-04-23 2015-10-29 株式会社Ihi 浸炭装置
WO2016013360A1 (ja) * 2014-07-23 2016-01-28 株式会社Ihi 浸炭装置
EP3477235A1 (en) 2017-10-31 2019-05-01 Dowa Thermotech Co., Ltd. Heat treatment facility
CN114046659A (zh) * 2021-11-20 2022-02-15 山东瑞泰盖泽工程有限公司 一种真空隔热节能陶瓷窑炉
CN114620995A (zh) * 2022-03-16 2022-06-14 杭州良渚黑陶文化科技有限公司 黑陶制品烧作工艺及其烧制设备

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106103786B (zh) * 2014-04-23 2019-01-11 株式会社Ihi 渗碳装置
EP3135791A4 (en) * 2014-04-23 2018-02-28 IHI Corporation Carburizing device
WO2015162989A1 (ja) * 2014-04-23 2015-10-29 株式会社Ihi 浸炭装置
CN106103786A (zh) * 2014-04-23 2016-11-09 株式会社Ihi 渗碳装置
JPWO2015162989A1 (ja) * 2014-04-23 2017-04-13 株式会社Ihi 浸炭装置
US9926621B2 (en) 2014-04-23 2018-03-27 Ihi Corporation Carburizing device
CN105531392A (zh) * 2014-07-23 2016-04-27 株式会社Ihi 渗碳装置
EP3173505A4 (en) * 2014-07-23 2018-01-24 IHI Corporation Carburizing device
WO2016013360A1 (ja) * 2014-07-23 2016-01-28 株式会社Ihi 浸炭装置
US10323315B2 (en) 2014-07-23 2019-06-18 Ihi Corporation Carburizing device
CN109722620A (zh) * 2017-10-31 2019-05-07 同和热处理技术株式会社 热处理设备
JP2019082292A (ja) * 2017-10-31 2019-05-30 Dowaサーモテック株式会社 熱処理設備
US10870909B2 (en) 2017-10-31 2020-12-22 Dowa Thermotech Co., Ltd. Heat treatment facility
CN109722620B (zh) * 2017-10-31 2021-03-09 同和热处理技术株式会社 热处理设备
EP3477235A1 (en) 2017-10-31 2019-05-01 Dowa Thermotech Co., Ltd. Heat treatment facility
CN114046659B (zh) * 2021-11-20 2023-08-15 山东瑞泰盖泽工程有限公司 一种真空隔热节能陶瓷窑炉
CN114046659A (zh) * 2021-11-20 2022-02-15 山东瑞泰盖泽工程有限公司 一种真空隔热节能陶瓷窑炉
CN114620995A (zh) * 2022-03-16 2022-06-14 杭州良渚黑陶文化科技有限公司 黑陶制品烧作工艺及其烧制设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006112770A (ja) 真空浸炭炉
JP5567332B2 (ja) Cvi/cvd炉
US20190160529A1 (en) Furnace For Sintering Printed Objects
JP4982763B2 (ja) 連続熱処理炉
JP4982762B2 (ja) 熱処理炉
CN107002997B (zh) 用于有害的气体焚烧的辐射燃烧器
JP5002765B2 (ja) 処理方法
JP2006090575A (ja) 真空浸炭炉
CN1884914B (zh) 用于将物质引入反应空间的装置
JP4982726B2 (ja) 熱処理炉
JP4876279B2 (ja) 熱処理炉
JP5436769B2 (ja) 2つの加熱面を備えたコンパクトな輻射ガスバーナ装置及びその応用
US20060261136A1 (en) Diffusion bonding method for forming metal substrate
JP2011127852A (ja) 熱処理炉
JP5542163B2 (ja) 蓄熱器
JP2011029114A (ja) 燃料電池モジュールおよび燃料電池装置
JP2009063091A (ja) 高温ガス排気部の断熱構造体および該断熱構造体の断熱施工方法
JP4926445B2 (ja) 黒鉛材料耐酸化処理炉および黒鉛材料の耐酸化処理方法
JPWO2020100190A1 (ja) 排ガス除害装置
JP2909857B2 (ja) 焼成装置
JPH0953888A (ja) 炉内断熱構造
KR20230088225A (ko) 탈지로용 배기 가스 연소 장치 및 탈지 시스템
KR20120072668A (ko) 진공 열처리 장치
JP3929708B2 (ja) ガス処理装置
JPH11201660A (ja) 熱処理炉用雰囲気ガス発生装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20080513