JP2006106421A - 露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 UV照明70からDMD72に向けて紫外光が出射され、DMD72のマイクロミラーで反射した紫外光は、レンズ74を通過後、ガルバノミラー78によってテープ16幅方向に主走査される。また、テープ16が一定の搬送されることによって、副走査が行われる。矩形領域を露光可能な反射光が、テープ16の幅方向一端側から他端側へ移動し、テープ16を幅方向に横断した後に再びテープ16の幅方向一端側に戻ったときには、DMD72マイクロミラー1個分だけテープ搬送方向にずれから再びテープ16の幅方向一端側から他端側へ移動することを順次繰り返し、テープ長手方向に露光を行う。テープ上の同一個所を1乃至複数回露光することで、テープ上に画像を形成できる。なお、コンピュータ68に記憶する画像データを変更することで、種々のパターンを容易に変更することができる。
【選択図】 図2
Description
前記感光材料の露光を行う光ビームを出射する光源と、前記光源からの光ビームを入力した画像信号に応じて変調し、変調した画像光が反射光として光入射面から出射する光変調素子と、前記光変調素子からの前記反射光を前記感光材料の幅方向に走査する走査手段と、前記搬送手段、前記光変調素子、及び前記走査手段を制御する制御手段と、を備え、前記走査手段による前記反射光の主走査と、前記感光材料の搬送による副走査とを同時に行い、前記感光材料上の同一個所を複数回主走査して画像を形成する、ことを特徴としている。
(露光器)
テーブル56の中央上方には、露光器64が配置されている。
(作用)
次に、本実施形態の露光装置11の作用を説明する。
なお、本実施形態のように回路パターンを形成する場合には、テープ上には、一定回数(768回)露光する個所と、露光を1回も行わない個所の2種類の個所しか存在しないことになるが、マイクロミラーの制御によっては、同一個所(所定位置84)に対する露光回数を1〜768回のうちの任意の回数にすることができる。
16 テープ(感光材料)
36 第1の送りローラ(搬送手段)
42 第2の送りローラ(搬送手段)
64 露光器
68 コンピュータ(制御手段)
70 UV照明(光源)
72 DMD(光変調素子)
78 ガルバノミラー(走査手段)
Claims (2)
- 長尺状の感光材料を長手方向に搬送する搬送手段と、
前記感光材料の露光を行う光ビームを出射する光源と、
前記光源からの光ビームを入力した画像信号に応じて変調し、変調した画像光が反射光として光入射面から出射する光変調素子と、
前記光変調素子からの前記反射光を前記感光材料の幅方向に走査する走査手段と、
前記搬送手段、前記光変調素子、及び前記走査手段を制御する制御手段と、
を備え、
前記走査手段による前記反射光の主走査と、前記感光材料の搬送による副走査とを同時に行い、前記感光材料上の同一個所を複数回主走査して画像を形成する、
ことを特徴とする露光装置。 - 前記空間変調素子はDMDである、ことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004293875A JP4604163B2 (ja) | 2004-10-06 | 2004-10-06 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004293875A JP4604163B2 (ja) | 2004-10-06 | 2004-10-06 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006106421A true JP2006106421A (ja) | 2006-04-20 |
JP4604163B2 JP4604163B2 (ja) | 2010-12-22 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004293875A Active JP4604163B2 (ja) | 2004-10-06 | 2004-10-06 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4604163B2 (ja) |
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