JP2005321676A - 描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 4つの露光ヘッド12A〜12Dを基板SW上方に配置し、露光ヘッド12A〜12Dによる露光エリアEA1〜EA4を、基板SW上に規定される走査バンドS1〜S4に沿って相対移動させる。そして、露光ヘッド12A〜12Dにそれぞれ設けられた4つのDMDを、露光エリアEA1〜EA4の相対位置に応じて独立制御し、パターンに応じた露光動作を実行する。そして、ローラCR2の回転位置に応じた露光エリアの相対的位置ずれに従ってデータシフト量が読み出され、ビットマップメモリに書き込まれたラスタデータをデータシフト量だけシフトさせた領域から読み出す。
【選択図】 図2
Description
11A〜11D 半導体レーザ(光源)
12A〜12D 露光ヘッド
13A〜13D DMD(光変調ユニット)
14A〜14D データ変換部(データ変換処理手段)
15A〜15D ビットマップメモリ(第2のメモリ)
16A〜16D 露光制御部
31 エンコーダ
32 システムコントロール回路
34 メモリ(第1、第3のメモリ)
SW 基板
M 搬送方向
EA1〜EA4 露光エリア
S1〜S4 走査バンド
PD3 分割パターンデータ
Claims (5)
- 感光材料に対して描画する描画装置であって、
パターン形成のため光を放射する光源と、
複数の光変調素子が規則的に配列され、パターンに応じて前記光源からの光をそれぞれ前記感光材料へ投影する光変調ユニットと、
前記光変調ユニットの照射領域である露光エリアを前記感光材料に対して相対的に移動させる走査手段と、
前記複数の光変調素子の配列に応じたデータ配列をもつ描画データに基づいて、前記光変調ユニットを制御する描画手段とを備え、
前記描画手段が、前記感光材料の移動方向に沿った露光エリアの相対的位置ずれに従い、露光エリアの相対的位置に形成すべきパターンに応じた光を投影するように描画処理を行うことを特徴とする描画装置。 - 前記感光材料の位置を検出する基板位置計測手段と、
前記感光材料の位置に基づいて位置ずれを検出する位置ずれ検出手段とをさらに有することを特徴とする請求項1に記載の描画装置。 - 前記描画手段が、分割描画データを、前記感光材料に対する露光エリアの相対的位置ずれに従って相対的にデータシフトさせることを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 前記描画手段が、
描画データをラスタデータとして格納可能なメモリと、
露光エリアの相対位置に応じて描画データを前記メモリへ順次書き込み、前記露光エリアの搬送方向幅より大きいデータサイズで分割描画データを読み出して出力するデータ変換処理手段とを有し、
ラスタデータをデータシフト量だけずらして前記メモリから読み出すことを特徴とする請求項1に記載の描画装置。 - 複数の光変調素子が規則的に配列され、パターンに応じて光源からの光をそれぞれ前記感光材料へ投影し、
前記光変調ユニットの照射領域である露光エリアを前記感光材料に対して相対的に移動させ、
前記複数の光変調素子の配列に応じたデータ配列をもつ描画データに基づいて、前記光変調ユニットを制御し、
前記感光材料の移動方向に沿った露光エリアの相対的位置ずれに従い、露光エリアの相対的位置に形成すべきパターンに応じた光を投影するように描画処理を行うことを特徴とする描画方法。
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