JP2006106069A - 画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 感光体上に形成された静電潜像を現像することにより画像形成を行う画像形成装置において、ゴースト現象の発生を効果的に抑制できる構成を提供する。
【解決手段】 プリンタ1は、制御部90での制御により、被転写部材において現像剤像の形成対象領域とは異なる非対象領域にゴースト現象が発生するように、転写ローラ61と感光体ドラム62との間に印加される転写バイアスレベルをゴースト発生レベルに設定している。そして、被記録媒体若しくは被記録媒体を搬送するための搬送部材を被転写部材として、ゴースト発生レベルに設定された転写バイアスを印加して現像剤像を転写する画像形成動作を行い、被転写部材にテストパターンとしての現像剤像を形成する。そして、テストパターンの形成の際に非対象領域に付着した現像剤像の濃度を濃度検出センサ71によって検知し、ゴースト発生レベルと、テストパターンにおける非対象領域の現像剤像の濃度レベルとに基づいてゴースト現象が発生しない転写バイアスレベルを推測し、その推測に応じた画像形成用の転写バイアスレベルを設定する。
【選択図】 図1
Description
請求項1の構成によれば、ゴースト現象を具体的に発生させた上で、その発生させる際の転写バイアスレベルと、非対象領域に付着する現像剤像(ゴースト現象)の状態の程度とを具体的に考慮し、ゴースト現象が発生しにくい転写バイアスレベルを設定できることとなる。この構成では、ゴースト現象の発生が分かりにくい転写バイアスレベルやゴースト現象が発生しない転写バイアスレベルを用いることなく、ゴースト現象が発生する確実性の高い転写バイアスレベルを用いているため、迅速にかつ適切に転写バイアスの設定を行うことができる。
請求項2の構成によれば、非対象領域の状態(ゴースト量)を濃度によって適切に知ることができ、ゴースト現象が発生しにくい画像形成用の転写バイアスレベルを設定する上での好適な構成となる。
請求項3の構成によれば、簡易な構成を実現しつつ、迅速に画像形成用の転写バイアスレベルを設定できる構成となる。
請求項4のように、複数のゴースト発生レベル及びそれに対応する複数のゴースト濃度レベルを用いて画像形成用の転写バイアスレベルを設定するようにすれば、使用環境をより適切に反映して精度の高い設定が可能となる。
請求項5の構成によれば、複雑な構成を用いることなく転写バイアスレベルを簡単に設定できる。
請求項6の構成によれば、複雑な構成を用いることなく転写バイアスレベルを簡単に設定できる。
請求項7の構成によれば、第1ゴースト現象を具体的に発生させた上で、その第1ゴースト現象の発生状態を考慮して画像形成用の転写バイアスレベルを適切に設定できる。
複数の画像形成手段を備えた構成においては、いずれかの上流側画像形成手段で転写バイアスレベルを大きくしすぎると、それより下流側の画像形成手段において当該上流側画像形成手段にて形成された現像剤像に起因するゴースト現象(第2ゴースト現象)が発生しやすくなってしまうが、請求項8の構成によれば、上流側画像形成手段において第1ゴースト現象の発生を抑えつつ、下流側の画像形成手段におけるゴースト現象をも抑えることができる。
請求項9の構成によれば、第2ゴースト現象を具体的に発生させた上で、その第2ゴースト現象の発生状態を考慮して画像形成用の転写バイアスレベルを適切に設定できる。
請求項10の構成によれば、2種類のゴースト現象が発生しやすい下流側画像形成手段において、両ゴースト現象の発生を抑えうる設定が可能となる。
請求項11のようにすれば、下流側画像形成手段において、第1ゴースト現象及び第2ゴースト現象が発生しないようにマージンを適切に確保できる構成となる。
最下流の画像形成手段は第2ゴースト現象が発生しやすいため、請求項12のような構成とすると極めて有効である。
請求項13の構成によれば、最下流の画像形成手段と比べてあまり第2ゴースト現象が発生しにくい最下流以外の画像形成手段において、転写バイアスの設定のための時間短縮を図ることができる。
請求項14の構成によれば、各画像形成手段において転写バイアスレベルを最適化できる。
以下に、本発明の実施形態1を図面に基づき説明する。
(全体構成)
図1は本発明が適用されたプリンタ1の概略構成を示す断面図である。
図1において、画像形成装置たるプリンタ1は、後述する4つの画像形成ユニット20が水平方向に並んで配設された所謂横置きタイプのタンデム方式のカラーレーザプリンタであって、本体ケーシング5に、記録用紙3(特許請求の範囲でいう被記録媒体に相当する)を給紙するための給紙部9、給紙された記録用紙3に画像を形成するための画像形成部4、画像が形成された記録用紙3を排紙するための排紙部6、および、本プリンタ1の作動を制御する制御部90を備えている。各画像形成ユニット20は、特許請求の範囲でいう画像形成手段に相当する。また、制御部90は、特許請求の範囲でいうゴースト発生レベル設定手段、テストパターン形成手段、画像形成用レベル設定手段に相当する。
現像剤ホッパ56は、現像ケーシング55の内部空間として形成されている。そして、この現像剤ホッパ56には、各画像形成ユニット20毎に、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)、ブラック(K)各色の現像剤が収容されている。
次に、図2を用いてプリンタ1の電気的構成を説明しつつ、上述した装置内各部の連携動作により当該プリンタ1が通常印字(印刷)モードにて、カラー画像を記録用紙3上に形成するまでの各工程について説明する。なお、図2は、プリンタ1の電気的構成を概略的に表したブロック図である。
なお、このようにしてトナー像を重ねるために、プリンタ1の制御部90は、上記潜像形成処理部により、搬送ベルト68の回転周期と、各画像形成ユニット20の配置間隔とに基づいて、各スキャナユニット41を駆動するタイミングを制御する。そして、制御部90は、各感光体ドラム62に静電潜像を形成し、各色のトナー像を形成し、さらに各色の転写ポイントにて、トナー像を記録用紙3に転写する。このようにして記録用紙3にカラー像が形成される。
また、濃度補正モードを実行する際には、前述の通常印字モードにて入力される画像データの代わりに、テストパターン用潜像形成処理部(プログラム)によるテストパターン形成データを使用して、通常印字モードと同じ手順にてテストパターンとしてのトナー像(以下、テストパターンと称する)73を記録用紙3に形成する。
一方、転写ローラ61は、定電圧制御ではなく、転写ローラ61へ流れる電流が一定になるような定電流制御がなされる。ここで、転写ローラ61に印加する転写バイアスを定電圧制御にしないのは、感光体ドラム62に形成されたトナー像を転写する際には、感光体ドラム62と転写ローラ61との間に記録用紙3が存在し、この記録用紙3の厚みが一定ではない可能性があるためである。つまり、記録用紙3の厚みが異なれば、感光体ドラム62から転写ローラ61へ流れる電流値が異なるため、転写されるトナー像の画質が変化してしまうのである。また、環境の変化や耐久的な変化によって、転写ローラ61や搬送ベルト68等の抵抗値が変化すると、それに伴って転写性(転写性能)が変わってしまうからである。
次に、転写電流値を設定する処理について、図5ないし図11を用いて説明する。図5は、濃度検出センサ71、制御部90、バイアス印加部54、及び転写ローラ61の関係について説明する説明図である。図6は制御部90がゴースト補正処理部(プログラム)により行なう転写バイアス設定処理を示すフローチャート、図7は転写バイアス設定処理における適正バイアス設定処理1を示すフローチャート、図8は、転写残ゴーストの検出位置を説明する説明図、図9は、転写バイアス設定処理における適正バイアス設定処理2を示すフローチャートである。図10は、転写残ゴーストの濃度と転写電流との関係を例示するグラフであり、図11は、逆転写ゴーストの濃度を転写電流との関係を例示するグラフである。
なお、本発明の実施の形態は、上記の実施形態に何ら限定されることはなく、本発明の技術的範囲に属する限り種々の形態を採りうる。
(1)例えば、図8に示される転写残ゴースト検出用テストパターンは、必ずしも図示されるようなテストパターンに限定される必要はなく、例えば、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの各パターンが感光体ドラム62の1周分に収まるようなパターンであってもよい。また、必ずしもテスト専用のパターンである必要もなく、ゴースト検出が可能であれば、どのようなパターンであってもよい。
(6)また、上記実施形態では、演算式として1次式を用いて最適な転写バイアスを求めるようにしているが、2次式など他の演算式を用いるようにしてもよいし、転写電流を変える測定ポイントは2ポイントではなく3ポイント以上であってもよい。即ち、3以上のゴースト発生レベルを用いて3種以上のゴーストを発生させ、各濃度レベルに基づいてゴーストが発生しない転写バイアスレベルを推測するようにしてもよい。
3…記録用紙(被記録媒体)
20,20C,20K,20M,20Y…画像形成ユニット(画像形成手段)
51,51C,51K,51M,51Y…現像カートリッジ(現像手段)
61…転写ローラ(転写手段)
62…感光体ドラム(感光体)
71…濃度検出センサ(状態検知手段、濃度検知手段)
73…テストパターン
90…制御部(ゴースト発生レベル設定手段、テストパターン形成手段、画像形成用レベル設定手段)
Claims (14)
- 感光体を帯電させる帯電手段と、
前記感光体に静電潜像を形成する露光手段と、
前記感光体に形成された静電潜像を現像剤により可視像化して現像剤像を形成する現像手段と、
予め定められた転写位置にて、前記感光体上の現像剤像を被転写部材に転写する転写手段と、
を有する1又は複数の画像形成手段を備えた画像形成装置であって、
前記被転写部材において現像剤像の形成対象領域とは異なる非対象領域に、前記形成対象領域に形成されるべき現像剤像が付着するゴースト現象が発生するように、前記転写手段と感光体との間に印加される転写バイアスレベルをゴースト発生レベルに設定するゴースト発生レベル設定手段と、
前記画像形成手段を用い、被記録媒体若しくは被記録媒体を搬送するための搬送部材を前記被転写部材として、前記ゴースト発生レベル設定手段によって前記ゴースト発生レベルに設定された転写バイアスを印加して現像剤像を転写する画像形成動作を行い、前記被転写部材にテストパターンとしての現像剤像を形成するテストパターン形成手段と、
前記テストパターンの形成の際に前記非対象領域に付着した現像剤像の状態を検知する状態検知手段と、
前記ゴースト発生レベルと、前記テストパターンにおける前記非対象領域の現像剤像の状態と、に基づき、前記画像形成手段において被記録媒体に画像を形成する際に前記転写手段と感光体との間に印加される画像形成用の転写バイアスレベルを設定する画像形成用レベル設定手段と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。 - 前記状態検知手段は、前記テストパターンの形成の際に前記非対象領域に付着した現像剤像の濃度レベルを検知する濃度検知手段からなり、
前記画像形成用レベル設定手段は、前記ゴースト発生レベルと、前記テストパターンの形成の際に前記非対象領域に付着した現像剤像の濃度レベルを示すゴースト濃度レベルと、に基づいて、前記画像形成用の転写バイアスレベルを設定することを特徴とする請求項1に記載の画像形成装置。 - 前記ゴースト発生レベル設定手段は、前記画像形成手段に対応させて前記ゴースト発生レベルを1つのみ設定し、
前記濃度検知手段は、その1つのゴースト発生レベルに対応して形成される前記テストパターンにおいて前記ゴースト濃度レベルを検知し、
前記画像形成用レベル設定手段は、前記1つのゴースト発生レベルと、当該1つのゴースト発生レベルに対応する前記テストパターンの形成の際の前記ゴースト濃度レベルとに基づき、前記画像形成手段における前記画像形成用の転写バイアスレベルを設定することを特徴とする請求項2に記載の画像形成装置。 - 前記ゴースト発生レベル設定手段は、前記画像形成手段に対応させて前記ゴースト発生レベルを複数設定可能とされ、
前記テストパターン形成手段は、前記ゴースト発生レベル設定手段により設定される複数のゴースト発生レベルと対応するテストパターンをそれぞれ形成し、
前記画像形成用レベル設定手段は、複数設定される各ゴースト発生レベルと、各テストパターンの形成の際の前記ゴースト濃度レベルと、に基づき、前記画像形成手段における前記画像形成用の転写バイアスレベルを設定することを特徴とする請求項2に記載の画像形成装置。 - 前記画像形成用レベル設定手段は、前記ゴースト発生レベルと、当該ゴースト発生レベルに対応する前記ゴースト濃度レベルとをパラメータとする演算式に基づき前記画像形成用の転写バイアスレベルを設定することを特徴とする請求項2ないし請求項4のいずれかに記載の画像形成装置。
- 前記画像形成用レベル設定手段は、前記ゴースト発生レベルと、当該ゴースト発生レベルに対応する前記ゴースト濃度レベルとに基づき、前記画像形成用の転写バイアスレベル又は前記画像形成用の転写バイアスレベルの基準となる基準レベルを決定するテーブルを有することを特徴とする請求項2ないし請求項4のいずれかに記載の画像形成装置。
- 前記ゴースト現象は、前記感光体上の現像剤像を前記転写手段により前記被転写部材に転写する際に当該感光体に残存した残存現像剤が、前記被転写部材の前記非対象領域に付着する第1ゴースト現象であり、
前記ゴースト発生レベル設定手段は、前記画像形成手段において前記転写手段と前記感光体との間に印加される転写バイアスレベルを、前記第1ゴースト現象を発生させる第1レベルに設定し、
前記テストパターン形成手段は、前記被転写部材に対し、前記第1レベルに設定された転写バイアスを印加して前記テストパターンを形成し、
前記画像形成用レベル設定手段は、前記第1レベルと、当該第1レベルに対応する前記テストパターンの形成の際の前記ゴースト濃度レベルと、に基づいて、前記画像形成手段における前記画像形成用の転写バイアスレベルを設定することを特徴とする請求項2ないし請求項6のいずれかに記載の画像形成装置。 - 前記画像形成手段は複数設けられ、
前記ゴースト発生レベル設定手段は、最下流の画像形成手段よりも上流側に設けられたいずれかの上流側画像形成手段において前記感光体と前記転写手段との間に印加される転写バイアスレベルを、前記第1ゴースト現象を発生させる前記第1レベルに設定可能とされ、
前記テストパターン形成手段は、前記上流側画像形成手段を用い、前記被転写部材に対し、前記第1レベルに設定された転写バイアスを印加して前記テストパターンを形成し、
前記画像形成用レベル設定手段は、前記第1レベルと、当該第1レベルに対応する前記テストパターンの形成の際の前記ゴースト濃度レベルとに基づいて、前記第1ゴースト現象が発生しない転写バイアスレベルの範囲を推測し、かつ前記第1ゴースト現象が発生しない転写バイアスレベルの範囲の最小値を、当該上流側画像形成手段における前記画像形成用の転写バイアスレベルとして設定することを特徴とする請求項7に記載の画像形成装置。 - 前記画像形成手段は複数設けられ、
前記ゴースト現象は、その複数の画像形成手段のうちの最上流の画像形成手段よりも下流側に設けられたいずれかの下流側画像形成手段において発生する現象であって、当該下流側画像形成手段よりも上流側の上流側画像形成手段において前記被転写部材に転写された現像剤像が、当該下流側画像形成手段における前記感光体に付着して、前記被転写部材における前記非対象領域に再付着する第2ゴースト現象であり、
前記ゴースト発生レベル設定手段は、前記下流側画像形成手段において前記転写手段と前記感光体との間に印加される転写バイアスレベルを、前記第2ゴースト現象が発生しない第2レベルに設定可能とされ、
前記テストパターン形成手段は、前記下流側画像形成手段を用い、前記被転写部材に対し、前記第2レベルに設定された転写バイアスを印加して前記テストパターンを形成し、
前記画像形成用レベル設定手段は、前記第2レベルと、当該第2レベルに対応する前記テストパターンの形成の際の前記ゴースト濃度レベルと、に基づいて、前記下流側画像形成手段における前記画像形成用の転写バイアスレベルを設定することを特徴とする請求項2ないし請求項6のいずれかに記載の画像形成装置。 - 前記画像形成手段は複数設けられ、
複数の画像形成手段のいずれかにおいて、前記感光体上の現像剤像を前記転写手段により前記被転写部材に転写する際に前記感光体上に残存する残存現像剤が、前記被転写部材において当該現像剤像の前記形成対象領域とは異なる前記非対象領域に付着する現象を第1ゴースト現象とし、
前記複数の画像形成手段のうち、最上流の画像形成手段よりも下流側に設けられたいずれかの下流側画像形成手段において、当該下流側画像形成手段よりも上流側の上流側画像形成手段で前記被転写部材に転写された現像剤像が、当該下流側画像形成手段における前記感光体に付着して、前記被転写部材における前記非対象領域に再付着する現象を第2ゴースト現象とした場合、
前記ゴースト発生レベル設定手段は、前記下流側画像形成手段において、前記転写手段と前記感光体との間に印加される転写バイアスレベルを、前記第1ゴースト現象を発生させる第1レベルと、前記第2ゴースト現象を発生させる第2レベルとに設定可能とされており、
前記テストパターン形成手段は、前記被転写部材に対し、前記テストパターンとして前記第1レベルに対応する第1テストパターンと前記第2レベルに対応する第2テストパターンとを形成し、
前記濃度検知手段は、前記テストパターン形成手段によって第1テストパターンを形成した際に前記非対象領域に付着した現像剤像の第1濃度レベルと、前記第2テストパターンを形成した際に前記非対象領域に付着した現像剤像の第2濃度レベルとをそれぞれ検知し、
前記画像形成用レベル設定手段は、前記第1レベルと前記第1濃度レベルとに基づき、前記第1ゴースト現象が発生しない転写バイアスレベルの下限レベルを推測し、かつ前記第2レベル及び前記第2濃度レベルに基づき前記第2ゴースト現象が発生しない転写バイアスレベルの上限レベルを推測し、これら上限レベル及び下限レベルに基づいて、前記下流側画像形成手段における前記画像形成用の転写バイアスレベルを設定することを特徴とする請求項2ないし請求項6のいずれかに記載の画像形成装置。 - 前記画像形成用レベル設定手段は、前記上限レベルと前記下限レベルとの間の中間値を、前記下流側画像形成手段における前記画像形成用の転写バイアスレベルとして設定することを特徴とする請求項10に記載の画像形成装置。
- 前記下流側画像形成手段は、前記複数の画像形成手段における最下流の画像形成手段であることを特徴とする請求項9ないし請求項11のいずれかに記載の画像形成装置。
- 前記下流側画像形成手段は、前記複数の画像形成手段における最下流の画像形成手段であり、
前記ゴースト発生レベル設定手段は、前記上流側画像形成手段において前記転写手段と前記感光体との間に印加される転写バイアスレベルを前記第1ゴースト現象が発生する前記第1レベルに設定する一方、前記第2レベルには設定せず、
前記テストパターン形成手段は、前記上流側画像形成手段を用い、前記被転写部材に対し、前記第1レベルに設定された転写バイアスを印加して前記テストパターンを形成する一方、前記第2レベルに応じた前記第2テストパターンは形成せず、
前記画像形成用レベル設定手段は、前記上流側画像形成手段において、前記第1レベルと、当該第1レベルに対応した前記テストパターンの形成の際の前記ゴースト濃度レベルとに基づいて、前記第1ゴースト現象が発生しない転写バイアスレベルの範囲を推測し、かつ前記第1ゴースト現象が発生しない転写バイアスレベルの範囲の最小値を、当該上流側画像形成手段における前記画像形成用の転写バイアスレベルとして設定することを特徴とする請求項10又は請求項11に記載の画像形成装置。 - 前記画像形成用レベル設定手段は、複数の画像形成手段の各々において、前記画像形成用の転写バイアスレベルを個別に設定可能とされていることを特徴とする請求項8ないし請求項13のいずれかに記載の画像形成装置。
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