JP2006093077A - レーザ照射装置及びそれを用いた有機電界発光素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レーザ照射装置は、レーザ発生器、レーザビームの進行経路を変えてくれる手段が形成されたマスク及びプロジェクションレンズを含むことを特徴にする。 前記有機電界発光素子の製造方法は、前記レーザ照射装置を用いてドナー基板上に照射される領域の中でエッジ部分に高い強度でレーザビームを照射して基板上に有機膜層パターンを形成する段階を含む。低い強度を有するレーザビームで転写が可能で、レーザビーム効率を向上させることができる。また、有機膜層の損傷を減らすことができ、転写される有機膜層パターンの質も向上させることができるメリットを提供する。
【選択図】 図5A
Description
120 ドナー基板
130 有機膜層
150、250、550 レーザビーム
200、300、500 レーザ照射装置
240、340、540 レーザ発生器
260、360、460、560 マスク
270、370、570 プロジェクションレンズ
280、580 ビームプロファイル
390、490、590 レーザビームの進行経路を変えてくれる手段
Claims (26)
- レーザ発生器と、
前記レーザ発生器の下部に位置して、前記レーザ発生器から照射されるレーザビームの進行経路を変えてくれる手段が形成されたマスクと、
前記マスクの下部に位置するプロジェクションレンズを含むことを特徴とするレーザ照射装置。 - 前記レーザビームの進行経路を変えてくれる手段は、突出部であることを特徴とする請求項1に記載のレーザ照射装置。
- 前記突出部は、レンズであることを特徴とする請求項2に記載のレーザ照射装置。
- 前記レンズは、凸レンズであることを特徴とする請求項3に記載のレーザ照射装置。
- 前記凸レンズは、前記マスクの下部面、または上部面に形成されていることを特徴とする請求項4に記載のレーザ照射装置。
- 前記凸レンズは、前記マスクの下部面及び上部面に形成されていることを特徴とする請求項4に記載のレーザ照射装置。
- 前記突出部は、レンズの形状を有するように加工されたことを特徴とする請求項2に記載のレーザ照射装置。
- 前記レンズの形状は、凸レンズの形状であることを特徴とする請求項7に記載のレーザ照射装置。
- 前記マスクは、透明素材で成り立ったことを特徴とする請求項1に記載のレーザ照射装置。
- 前記透明素材は、ガラスまたはプラスチックであることを特徴とする請求項9に記載のレーザ照射装置。
- 前記レーザ照射装置は、前記レーザビームをステップ−アンド−ステップ方式に照射することを特徴とする請求項1に記載のレーザ照射装置。
- 画素電極が形成された基板を供給する段階と、
前記基板全面にドナー基板をラミネーションする段階と、
前記ドナー基板の所定領域にレーザ照射装置を用いて発生させたレーザビームを照射して前記基板上に有機膜層パターンを形成する段階と、を含み、
前記レーザビームは前記ドナー基板上に照射される領域の中でエッジ部分に高い強度で照射されることを特徴とする有機電界発光素子の製造方法。 - 前記レーザ照射装置は、
レーザ発生器と、
前記レーザ発生器の下部に位置して、前記レーザ発生器から照射されるレーザビームの進行経路を変えてくれる手段が形成されたマスクと、
前記マスクの下部に位置するプロジェクションレンズを含むことを特徴とする請求項12に記載の有機電界発光素子の製造方法。 - 前記レーザビームの進行経路を変えてくれる手段は、突出部であることを特徴とする請求項13に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記突出部は、レンズであることを特徴とする請求項14に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記レンズは、凸レンズであることを特徴とする請求項15に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記凸レンズは、前記マスクの下部面、または上部面に形成されていることを特徴とする請求項16に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記凸レンズは、前記マスクの下部面及び上部面に形成されていることを特徴とする請求項16に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記突出部は、レンズの形状を有するように加工されたことを特徴とする請求項14に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記レンズの形状は、凸レンズの形状であることを特徴とする請求項19に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記マスクは、透明素材で成り立ったことを特徴とする請求項13に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記透明素材は、ガラスまたはプラスチックであることを特徴とする請求項21に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記レーザ照射装置は、前記レーザビームをステップ−アンド−ステップ方式で照射することを特徴とする請求項12に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記画素電極上に有機膜層パターンを形成する段階は、N2雰囲気で成り立つことを特徴とする請求項12に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記画素電極上に有機膜層パターンを形成する段階は、真空雰囲気で成り立つことを特徴とする請求項12に記載の有機電界発光素子の製造方法。
- 前記有機膜層パターンは、発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び電子注入層からなる一群から選択された1種の単一層、または2種以上の多重層であることを特徴とする請求項12に記載の有機電界発光素子の製造方法。
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