JP2006091813A - 表示装置及びこれの製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】上板と下板との結合力を向上するための表示装置及びこれの製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート駆動部は、表示パネル上に形成され、結合部材は表示領域を取り囲むシールライン領域に形成され、反射部材は、ゲート駆動部に隣接するシールライン領域の外側の第1周辺領域またはシールライン領域の一部と表示領域との間の第2周辺領域に形成されて結合部材を硬化させるために提供される光を結合部材に提供する。従って、反射部材による結合部材を硬化させるための光を反射させてより多くの量の光をゲート駆動部上に形成された結合部材に提供することで結合部材の硬化が行われ、それにより上板と下板との結合力が向上される。
【選択図】 図2

Description

本発明は、表示装置及びこれの製造方法に関し、さらに詳細には上板と下板との結合力を向上させるための表示装置及びこれの製造方法に関する。
一般に、表示装置は、複数のゲートラインと複数のデータラインが具備された表示パネル、複数のゲートラインにゲート信号を出力するゲート駆動部及び複数のデータラインにデータ信号を出力するデータ駆動部で構成される。
ゲート駆動部及びデータ駆動部は、チップ形態からなり、表示パネルに実装される。しかし、最近では表示装置の全体的なサイズを減少させ生産性を増大させるために、ゲート駆動部を表示パネルに内蔵する構造が開発されつつある。
また、表示パネルは、複数のゲートラインと複数のデータラインとが具備されたアレイ基板、アレイ基板と向き合うカラーフィルター基板、アレイ基板とカラーフィルター基板との間に介在された液晶層及びアレイ基板とカラーフィルター基板とを結合させるシーラントで構成される。
ゲート駆動部が表示パネルのアレイ基板に内蔵される構造で、ゲート駆動部とカラーフィルター基板に形成された共通電極との間で寄生キャパシタンスが発生する。このような寄生キャパシタンスはゲート駆動部の誤動作を誘発する
最近、寄生キャパシタンスを減少させるための方案としてシーラントをゲート駆動部と共通電極との間に配置させる構造が提示されている。このとき、シーラントは光硬化性物質からなるので、シーラントは光によって硬化されてカラーフィルター基板とアレイ基板とを結合させる。このとき、カラーフィルター基板にはゲート駆動部が形成された領域に対応して遮光層が形成されるので、一般に光はアレイ基板の後面から入射される。
しかし、シーラントがゲート駆動部と共通電極との間に具備された構造でシーラントに光を提供して硬化させると、ゲート駆動部によってシーラントに入射された光量が減少される。
従って、シーラントに入射された光量が減少されることによってシーラントの硬化がまともに行われず、その結果、アレイ基板とカラーフィルター基板との結合力が減少されるという問題点がある。
従って、前述した問題点を解決するためのもので、本発明の目的はシーラントに提供される光量を増加させてアレイ基板とカラーフィルター基板との結合力を増加させるための表示装置を提供することにある。
本発明の他の目的は前記表示装置を製造するための製造方法を提供することにある。
前述した目的を達成するための本発明は、表示パネル、ゲート駆動部、結合部材及び反射部材を含む。前記表示パネルは、表示領域、前記表示領域を取り囲むシールライン領域、前記シールライン領域の外側に形成された第1周辺領域及び前記表示領域と前記シールライン領域の一部との間に形成された第2周辺領域を具備する。前記ゲート駆動部は、前記シールライン領域のうち、前記第2周辺領域に隣接するシールライン領域に形成され、前記映像を表示する駆動信号を前記表示パネルに出力する。前記結合部材は、前記シールライン領域に形成され、前記反射部材は、前記第1周辺領域のうち、前記ゲート駆動部に隣接する第1周辺領域または前記第2周辺領域に形成され、前記結合部材を硬化させるために外部から提供される光を前記結合部材にガイドする。
本発明の他の目的を達成するための本発明は、表示領域を取り囲むシールラインの一部に形成されたゲート駆動部と、前記ゲート駆動部に隣接するシールライン領域に形成された反射部材を有する第1基板とを形成する。続いて、前記シールライン領域に結合部材を形成し、前記第1基板に対向するように第2基板を位置させた後前記第1基板と第2基板とを結合するために前記第1基板の背面で前記結合部材を硬化させるための光を提供する。ここで、前記光は前記反射部材によって反射されて前記ゲート駆動部上に位置する前記結合部材に提供される。
このような表示装置及びこれの製造方法によると、反射部材によって結合部材を硬化するための光を反射させてより多くの量の光をゲート駆動部上に形成された結合部材に提供することで結合部材の硬化がまともに行われる。
本発明はゲート駆動部に隣接する第1周辺領域と第2周辺領域に形成され、背面から提供される紫外線を反射させて前記ゲート駆動部上に形成されるシーラントに提供する反射部材を含む。このとき、前記反射部材は所定の傾きを有する反射膜である。また、前記反射部材は所定間隔を有するように配列された複数の反射パターンである。
従って、本発明は反射部材により紫外線を反射させてゲート駆動部上に形成されたシーラントに提供し、より多くの紫外線が前記シーラントに提供される。
従って、本発明はより多くの量の紫外線をゲート上部に形成されたシーラントに提供することによって前記シーラントの硬化か行われ、それにより、アレイ基板とカラーフィルター基板との結合力が向上される。
以下、図面を参照して本発明の望ましい一実施形態をより詳細に説明する。
(実施形態1)
図1は本発明の第1実施形態による表示装置の平面図であり、図2は図1に示されたI−I’線に沿って切断した断面図である。
図1及び図2に示すように、本発明の第1実施形態による表示装置400は第1及び第2駆動信号に応答して映像を表示する表示パネル300、表示パネル300に具備されて表示パネル300に前記第1及び第2駆動信号をそれぞれ出力するデータ駆動部及びゲート駆動部150、160を含む。
表示パネル300は、アレイ基板100、アレイ基板100と向き合うカラーフィルター基板200、アレイ基板100とカラーフィルター基板200との間に介在された液晶層330及びアレイ基板100とカラーフィルター基板200とを結合させるシーラント350で構成される。
また、表示パネル300は、映像を表示する表示領域DA、表示領域DAを取り囲むシールライン領域SA、シールラインSAの外側に設けられた第1周辺領域PA1及び表示領域DAとシールライン領域SAの一部との間に具備された第2周辺領域DA2で構成される。
表示領域DAに対応してアレイ基板100の第1基板110上には第1〜第nゲートラインGL1〜GLnと第1〜第mデータラインDL1〜DLmとが形成される。第1〜第nゲートラインGL1〜GLnと第1〜第mデータラインDL1〜DLmとは互いに絶縁されて交差する。
また、表示領域DAに対応して第1基板110上には複数の薄膜トランジスタ及び複数の液晶キャパシタがさらに形成される。例えば、複数の薄膜トランジスタのうち、第1薄膜トランジスタTr1のゲート電極は第1ゲートラインGL1と電気的に接続され、第1薄膜トランジスタTr1のソース電極は第1データラインDL1と電気的に接続され、第1薄膜トランジスタTr1のドレイン電極は複数の液晶キャパシタのうち、第1液晶キャパシタClc1に接続される。
表示領域DAに対応して第1基板110上に形成される第1薄膜トランジスタTr1上部には第1有機膜130が形成される。このとき、第1有機膜130は第1薄膜トランジスタTr1の一部を露出させるためのコンタクトホール135を有する。
第1有機膜130上には透明電極である画素電極140が形成され、画素電極140はコンタクトホール135を通じて第1薄膜トランジスタTr1と電気的に接続される。また、画素電極140上にはカラーフィルター基板200の第2基板210を通過して入射する光を反射するための反射電極150が形成される。反射電極150は下部に形成された画素電極140を通じて第1基板110を通過して入射する光を透過させるための透過窓155を有する。
第1周辺領域PA1において、アレイ基板100の第1基板110はカラーフィルター基板200の第2基板210より長く延長され、第1基板110上の第1周辺領域PA1に対応してチップ形態でなるデータ駆動部150が実装される。データ駆動部150は、表示領域DAに形成された第1〜第nデータラインDL1〜DLnと電気的に接続される。従って、データ駆動部150から出力された第1駆動信号は第1〜第mデータラインDL1〜DLmに印加される。
一方、第2周辺領域PA2に隣接するシールライン領域SAにはゲート駆動部160が複数の薄膜トランジスタと同一の工程を通じて同時に形成される。ゲート駆動部160は表示領域DAに形成された第1〜第nゲートラインGL1〜DLnと電気的に接続される。従って、ゲート駆動部160から出力された第2駆動信号は第1〜第nゲートラインDL1〜GLnに印加される。
また、シールライン領域SAにはアレイ基板100とカラーフィルター基板200とを結合させるシーラント350が形成される。シーラント350は光硬化性物質を含み、アレイ基板100とカラーフィルター基板200との間に介在された状態で外部から提供された光の入力を受けて堅固に硬化されアレイ基板100とカラーフィルター基板200とを結合させる。
シーラント350はシールライン領域SAに形成されたゲート駆動部160の全体をカバーする。このように、ゲート駆動部160の全体をカバーするようにシーラント350を配置すると、カラーフィルター基板200に形成された共通電極220とゲート駆動部160との間で生成される寄生キャパシタンスを減少させることができる。
表示領域DA及び第2周辺領域PA2に対応してカラーフィルター基板200とアレイ基板100との間には液晶層330が介在する。液晶層330はカラーフィルター基板200とアレイ基板100とがシーラント350によって結合される前に、カラーフィルター基板200またはアレイ基板100上に液晶滴下工程を通じて形成される。従って、シーラント350を光で硬化させる段階でも、アレイ基板100とカラーフィルター基板200との間には液晶層330が形成される。
一方、カラーフィルター基板200は、第1基板210上の全面に形成された共通電極220及びシールライン領域SAとゲート駆動部160とが形成されたシールライン領域SAに隣接した第1及び第2周辺領域PA1、PA2に対応するように形成された遮光層230を具備する。また、カラーフィルター基板200は第2基板210と共通電極220との間にカラーフィルター層240をさらに具備し、カラーフィルター層240は赤色、緑色及び青色画素からなる。
また、ゲート駆動部160上部には所定のパターンテーパー角度を有する第2有機膜500が形成される。第2有機膜500は、ゲート駆動部160が形成されたシールライン領域SA及びシールライン領域SAに隣接する第1及び第2周辺領域PA1、PA2の一部に形成される。このとき、第2有機膜500は第1有機膜130と同一の工程を通じて同時に形成される。
所定のパターンテーパー角度は約0°〜50°である。このとき、第2有機膜500を形成するために蒸着された有機物質層のパターニングの際、使用されるマスクの開口部と閉鎖部との境界で第2有機膜500の約50°のパターンテーパー角度を有する。一方、第2有機膜500のパターンテーパーの角度を50°以下に形成するためには露光量を調節するためのスリットパターンを有するマスクが利用される。
第1周辺領域PA1に対応する第2有機膜500上部には第1反射膜510が形成され、第2周辺領域PA2に対応する第2有機膜500上部には第2反射膜520が形成される。第1及び第2反射膜510、520は反射電極150と同一の工程を通じて同時に形成される。このとき、第1及び第2反射膜510、520は第2有機膜500のパターンテーパー角度θと同一の傾きを有する。即ち、第1及び第2反射膜510、520は約0°〜50°の傾きを有する。
前述した構成で、第1及び第2反射膜510、520はシーラント350を硬化させるために第1基板110の背面から提供される光を反射させてゲート駆動部160の上部に形成されたシーラント350に光を提供する。この光は紫外線である。
図3は図2に示された第1及び第2反射膜による紫外線反射原理を示す断面図である。
図3に示されたように、ゲート駆動部160の上部に所定パターンテーパー角度θを有する第2有機膜500が形成され、第1周辺領域PA1に対応する第2有機膜500上に第1反射膜510が形成され、第2周辺領域PA2に対応する第2有機膜500上に第2反射膜520が形成される。このとき、第1及び第2反射膜510、520は所定パターンテーパー角度θによる傾きを有する。
また、ゲート駆動部160の上部にはゲート駆動部160を完全にカバーするようにシーラント350が形成される。
続いて、シーラント350を硬化させるために第1基板110の背面から紫外線が供給される。紫外線UVのうち、ゲート駆動部160の下部に入射される第1光L1はゲート駆動部160によって遮断されてシーラント350に到達できない。一方、紫外線UVのうち、ゲート駆動部160に隣接する第1及び第2周辺領域PA1、PA2に入射する第2光L2は第1及び第2反射膜510、520によって反射されシーラント350に到達する。即ち、第2光L2は第1及び第2反射膜510、520に反射されて経路が変更されることによってゲート駆動部160の上部に形成されたシーラント350に到達する。
従って、ゲート駆動部160によって紫外線UVの一部が遮断されても、残りの一部がシーラント350に到達し、これにより、シーラント350の硬化がまともに行われアレイ基板100とカラーフィルター基板200とが堅固に結合される。
図4は図1に示されたゲート駆動部を具体的に示すブロック図である。
図4に示すように、ゲート駆動部160は互いに従属的に接続された複数のステージSRC1〜SRCn+1からなり、ゲート信号を順次に出力する回路部CS及び回路部CSに各種制御信号を提供する配線部LSを含む。ここで、nは偶数である。
複数のステージSRC1〜SRCn+1それぞれは入力端子IN、クロック端子CK、制御端子CT及び出力端子GOUTを含む。
クロック端子CKには第1クロックCKまたは第2クロックCKBが提供される。即ち、第1クロックCK_0は複数のステージSRC1〜SRCn+1のうち、奇数番目のステージSRC1、SRC3、....SRCn+1に提供され、第2クロックCKBは偶数番目のステージSRC2、SRC4、....SRCnに提供される。
奇数番目のステージSRC1、SRC3、....SRCn+1の出力端子GOUTは第1クロックCKを第1ゲート駆動信号として出力し、偶数番目のステージSRC2、SRC4、....SRCnの出力端子GOUTは第2クロックCKBを第1ゲート駆動信号として出力する。
複数のステージSRC1〜SRCn+1に出力端子GOUTは、表示領域DAに設けられたn個のゲートラインGL1、GL2、...GLnに一対一に対応するように接続される。従って、複数のステージSRC1〜SRCn+1の出力端子GOUTから出力された第1ゲート駆動信号は第1〜第nゲートラインGL1、GL2、...GLnに順次に印加される。ここで、ダミーステージSRCn+1の出力端子GOUTは対応するゲートラインが存在しないので、フローティング状態に保持される。
入力端子INは直前のステージの出力端子GOUTから出力された出力ステージ駆動信号を受信し、制御端子CTは次のステージの出力端子GOUTから出力されたステージ駆動信号を受信する。
ここで、一番目のステージSRC1の直前のステージが存在しないので、一番目のステージSRC1の入力端子INには開始信号STVが提供される。また、ダミーステージSRCn+1の次のステージが存在しないので、ダミーステージSRCn+1の制御端子CTにも開始信号STVが提供される。
一方、複数のステージSRC1〜SRCn+1はアース電圧が提供されるアース電圧端子VSS及び駆動電圧が提供される駆動電圧端子VDDをさらに含む。
従って、回路部CSは第1〜第nゲートラインGL1〜GLnに順次にゲート信号を出力する。
配線部LSは回路部CSに隣接して設けられ、配線部LSは互いに平行するように延長された開始信号配線SL1、電源電圧配線SL2、アース電圧配線SL3、第1クロック配線SL4及び第2クロック配線SL5を含む。
開始信号配線SL1は外部から提供された開始信号STVを一番目のステージSRC1の入力端子IN1及び最後のステージSRCn+1の制御端子CTに提供する。第1クロック配線SL4は第1クロックCKの入力を受けて奇数番目のステージSRC1、SRC3、....SRCn+1のクロック端子CKに提供する。第2クロック配線SL5は第2クロックCKBの入力を受けて偶数番目のステージSRC2、SRC4、....SRCnのクロック端子CKに提供する。また、アース電圧配線SL3はアース電圧VSSの入力を受けて複数のステージSRC1〜SRCn+1のアース電圧端子VSSに提供する。電源電圧配線SL2は複数のステージSRC1〜SRCn+1の電源電圧端子VDDに提供する。
図5は図4に示された回路部の等価回路である。
図5に示すように、回路部CSは第1〜第nゲートラインGL1〜GLnに直接的に接続されて第1〜第nゲートラインGL1〜GLnに第2駆動信号を出力する第1回路部CS1及び第1回路部CS1を駆動させる第2回路部CS2からなる。
第1回路部CS1はプルアップ部410及びプルダウン部420を含む。また、第2回路部CS2はプルアップ駆動部430及びプルダウン駆動部440を含む。
プルアップ部410はゲート電極が第1ノードN1に接続され、ソース電極がクロック端子CKに接続され、ドレイン電極が出力端子OUTに接続された第1トランジスタTFT1からなる。プルダウン部420はゲート電極が第2ノードN2に接続され、ドレイン電極が出力端子OUTに接続され、ソース電極がアース電圧端子VSSに接続された第2トランジスタTFT2からなる。
プルアップ駆動部430は、第3〜第5トランジスタTFT3、TFT4、TFT5からなりプルアップ部410をターンオンさせる。
第3トランジスタTFT3は、ゲート電極が入力端子INに接続され、ドレイン電極が駆動電圧端子VDDに接続され、ソース電極が第1ノードN1に接続される。第4トランジスタTFT4は、ゲート電極とドレイン電極とが駆動電圧端子VDDに接続され、ソース電極が第3ノードN3に接続される。第5トランジスタTFT5は、ゲート電極が第1ノードN1に接続され、ドレイン電極が第3ノードN3に接続され、ソース電極がアース電圧端子VSSに接続される。
プルダウン駆動部440は、第6及び第10トランジスタTFT5、TFT6、TFT7、TFT8、TFT9、TFT10からなりプルアップ部410をターンオフさせプルダウン部420をターンオンさせる。
第6トランジスタTFT6は、ゲート電極が第3ノードN3に接続され、ドレイン電極が駆動電圧端子VDDに接続され、ソース電極が第2ノードN2に接続される。
第7トランジスタTFT7は、ゲート電極が第1ノードN1に接続され、ドレイン電極が第2ノードN2に接続され、ソース電極がアース電圧端子VSSに接続される。第8トランジスタTFT8は、ゲート電極が入力端子INに接続され、ドレイン電極が第2ノードN2に接続され、ソース電極がアース電圧端子VSSに接続される。
第9トランジスタTFT9は、ゲート電極が第2ノードN2に接続され、ドレイン電極が第1ノードN1に接続され、ソース電極がアース電圧端子VSSに接続される。第10トランジスタTFT10はゲート電極が制御端子CTに接続され、ドレイン電極が第1ノードN1に接続され、ソース電極がアース電圧端子VSSに接続される。
ここで、第1回路部CS1の第1及び第2トランジスタTFT1、TFT2は、第2回路部CS2の第3〜第10トランジスタTFT3、...、TFT10を相対的により大きいサイズを有する。従って、第1及び第2トランジスタTFT1、TFT2は第3〜第10トランジスタTFT3、...、TFT10に比べて相対的に大きい形成面積を有する。
また、第1及び第2トランジスタTFT1、TFT2は互いに隣接せず、互いに離隔されて配置される。
図6は図5に示された第1回路部を概略的に示す図面である。
図6に示すように、第1回路部CS1は第1トランジスタTFT1は第1回路部CS1が形成される領域の左側下部に形成され、第2トランジスタTFT2は第1回路部CS1が形成される領域の右側上部に形成される。このとき、第1回路部CS1が形成される領域のうち、第1及び第2トランジスタ410、420が形成され残りの周辺の領域に相対的に小さい形成面積を有する第2回路部CS2のトランジスタが形成され得る。
このように、第1及び第2トランジスタ410、420は互いに隣接するように配置されず、互いに離隔されて配置されることによって既存に比べてシーラント350を硬化させるために第1基板110の背面から提供される光をより多く通過させることができる。従って、ゲート駆動部160の上部に形成されたシーラント350により多くの量の光によってシーラント350がまともに硬化されてアレイ基板100とカラーフィルター基板200とが堅固に結合される。
図7〜図9は図6に示された第1及び第2トランジスタの他の構成例を示す図面である。
図7に示されたように、第1回路部CS1を構成する第1トランジスタTFT1は第1回路部CS1が形成される領域の左側上部に形成され、第2トランジスタTFT2は第1回路部CSが形成される領域の右側下部に形成される。
図8に示すように、第1トランジスタTFT1は第1回路部CS1が形成される領域の右側上部に形成され、第2トランジスタTFT2は第1回路部CS1が形成される領域の左側下部に形成される。
また、図9に示されたように、第1回路部CS1を構成する第1トランジスタTFT1は第1回路部CS1が形成される領域の右側下部に形成され、第2トランジスタTFT2は第1回路部CS1が形成される領域の左側上部に形成される。
このように、第1回路部CS1の第1及び第2トランジスタTFT1、TFT2は互いに離隔され多様な形態に形成され得る。
図10〜図12は図2に示されたアレイ基板を製造するための製造工程を示す断面図である。
図10に示すように、第1基板110上の表示領域DAにゲート電極122、ドレイン電極124及びソース電極126を有する薄膜トランジスタ120を形成する。また、第1基板110上のシールライン領域SAの一部にゲート駆動部160を形成する。このとき、ゲート駆動部160は複数のトランジスタ及び配線からなる。122はゲート絶縁膜であり、123はアクティブ層である。
続いて、薄膜トランジスタ120及びゲート駆動部160が形成された第1基板110全面にアクリル樹脂のような感光性絶縁膜530を塗布する。
図11に示すように、感光性絶縁膜530上に所定のパターンが形成されているマスク540を形成する。このとき、マスク540は薄膜トランジスタ120のドレイン電極125の一部を露出させるための開口部542を有する。また、マスク540はゲート駆動部160が形成されたシールライン領域SAとシールライン領域SAに隣接する第1及び第2周辺領域PA1、PA2の一部に感光性絶縁膜530を残せるための閉鎖部544を有する。
続いて、マスク540によって感光性絶縁膜530を露光した後、テトラメチル水酸化アンモニウムTMAH現像液を用いて現像する。それにより、表示領域DAには開口部542によって露光された領域にコンタクトホール135を有する第1有機膜130が形成される。また、ゲート駆動部160が形成されたシールラインSA及びシールライン領域SAに隣接する第1及び第2周辺領域PA1、PA2の一部には所定のパターンテーパー角度θを有する第2有機膜500が形成される。所定テーパー角度θは約0°〜50°である。
図12に示すように、第1有機膜130上にITOまたはIZOのような透明導電膜を均一な厚さに蒸着して画素電極140を形成する。画素電極140はコンタクトホール135を通じて薄膜トランジスタ120のドレイン電極124と電気的に接続される。
画素電極140が形成された第1基板110の全面にアルミニウムのように反射率が高い金属層を均一な厚さに蒸着して反射電極層550を形成する。
続いて、図2に示すように、反射電極層550をパターニングして表示領域DAに透過窓155を有する反射電極150を形成し、第1及び第2周辺領域PA1、PA2に第1及び第2反射膜510、520をそれぞれ形成する。
前述したように、本発明の第1実施形態にはゲート駆動部が形成されたシールライン領域に隣接する第1及び第2周辺領域に所定傾きを有する反射膜を形成し、反射膜によってアレイ基板の背面から提供される紫外線を反射させることによってゲート駆動部の上部に形成されたシーラントに紫外線が到達される。従って、シーラントの硬化がまともに行われ、アレイ基板とカラーフィルター基板とが堅固に結合される。
(実施形態2)
図13は本発明の第2実施形態による表示装置の断面図である。
図13に示されたように、本発明の第2実施形態による表示装置900は、第1及び第2駆動信号に応答して映像を表示する表示パネル800及び表示パネル800に設けられて、表示パネル800に第1駆動信号の映像を出力するゲート駆動部650を含む。また、表示装置900は表示パネル800に設けられる表示パネル800に第2駆動信号を出力するデータ駆動部(図示せず)を含む。
表示パネル800は、アレイ基板600、アレイ基板600と向き合うカラーフィルター基板700、アレイ基板600とカラーフィルター基板700との間に介在する液晶層830、アレイ基板600とカラーフィルター基板700とを結合させるシーラント850で構成される。
また、表示パネル800は、映像を表示するDA、表示領域DAを取り囲むシールライン領域SA、シールライン領域SAの外側に設けられた第1周辺領域PA1及び表示領域DAとシールライン領域SAの一部との間に設けられた第2周辺領域PA2で構成される。
表示領域DAに対応してアレイ基板600の第1基板610上には、複数のゲートライン(図示せず)及び複数のデータライン(図示せず)が形成される。ゲートラインとデータラインとは互いに絶縁された状態で交差している。
また、表示領域DAに対応して第1基板610上には複数の薄膜トランジスタ620が形成される。このとき、薄膜トランジスタ620はゲート電極(図示せず)、ソース電極(図示せず)及びドレイン電極(図示せず)を含む。ゲート電極は複数のゲートラインと接続され、ソース電極は複数のデータラインと接続される。
薄膜トランジスタ620上部には、ドレイン電極を部分的に露出させるコンタクトホール635を有する有機膜630が形成され、有機膜630上には画素電極640が形成される。画素電極640をコンタクトホール635を通じて薄膜トランジスタ620のドレイン電極と電気的に接続される。
また、第2周辺領域PA2に隣接するシールライン領域SAにはゲート駆動部650が薄膜トランジスタ620と同一の工程を通じて同一の時間上で形成される。ゲート駆動部650は表示領域DAに形成された複数のゲートラインと電気的に接続される。従って、ゲート駆動部650から出力された第2駆動信号は複数のゲートラインに提供される。
一方、シールライン領域SAにはアレイ基板600とカラーフィルター基板700とを結合させるシーラント850が形成される。シーラント850は光硬化性物質を含み、アレイ基板600とカラーフィルター基板700との間に介在する状態で、外部から提供される光の入力を受けて堅固に硬化され、アレイ基板600とカラーフィルター基板700とを結合させる。シーラント350はシールライン領域SAに形成されたゲート駆動部650の全体をカバーする。
一方、カラーフィルター基板700は、第2基板210上に全面積に形成された共通電極220と、シールライン領域SAとゲート駆動部160とが形成されたシールライン領域SAに隣接する第1及び第2周辺領域PA1、PA2に対応するように形成された遮光層230とを具備する。また、カラーフィルター基板200は第2基板210と共通電極220との間にカラーフィルター層240をさらに具備する。
表示領域DA及び第2周辺領域PA2に対応してカラーフィルター基板700とアレイ基板600との間には液晶層830が介在する。液晶層830は液晶滴下工程を通じて形成される。
ゲート駆動部650が形成されたシールライン領域SAに隣接した第1及び第2周辺領域PA1、PA2にはそれぞれ第1反射パターン660と第2反射パターン670が形成される。
第1及び第2反射パターン660、670は、薄膜トランジスタ620のゲート電極、ソース電極またはドレイン電極と同一の工程を通じて同時に形成される。即ち、第1及び第2周辺領域PA1、PA2にゲート電極、ソース電極またはドレイン電極を形成するための金属層を蒸着し、金属層をパターニングすることによって所定の離間距離を有する複数個のサブパターンからなる第1及び第2反射パターン660、670が形成される。このとき、第1及び第2反射パターン660、670のサブパターンは互いに離間して配置されたアイランドパターン(Island pattern)形状を有する。
前述した構成で、第1及び第2反射パターン660、670がシーラント850を硬化させるために、第1基板610の背面から提供される光を反射させてゲート駆動部650上部に形成されたシーラント850にこの光を提供する。このとき、この光は紫外線である。
図14は図13に示された第1及び第2反射パターンによる紫外線反射原理を示す断面図である。
図14に示すように、ゲート駆動部650が形成されたシールライン領域SAに隣接する第1及び第2周辺領域PA1、PA2には互いに離間して配置された複数のサブパターンからなる第1及び第2反射パターン660、670がそれぞれ形成される。また、ゲート駆動部650上部にはゲート駆動部650を完全カバーするようにシーラント850が形成される。
シーラント850を硬化させるために第1基板610の背面から紫外線UVが供給される。紫外線UVのうち、ゲート駆動部650の下部に入射する第1光L1はゲート駆動部650によって遮断されてシーラント850に到達できない。一方、紫外線UVのうち、ゲート駆動部650に隣接する第1及び第2周辺領域PA1、PA2に入射する第2光L2は第1及び第2反射パターン660、670によって散乱されてシーラント850に到達する。即ち、第2光L2は、第1及び第2反射パターン660、670の複数のパターンの間を通過し、複数のパターンに反射されて光散乱を発生する。このように、光散乱が発生することによって、第2光L2がゲート駆動部650の上部に形成されたシーラント850に到達する。
従って、ゲート駆動部650によって紫外線UVが一部が遮断されても、残りの一部が850に到達し、これにより、シーラント850の硬化が行われ、アレイ基板600とカラーフィルター基板700とが堅固に結合される。
(実施形態3)
図15は本発明の第3実施形態による表示装置の平面図であり、図16は図15に示されたII‐II'線による断面図であり、図17は図16に示されたゲート駆動部の一部分を詳細に示す図面である。
図15〜図17に示されたように、本発明の第3実施形態による表示装置1400は第1及び第2駆動信号に応答して映像を表示する表示パネル1300、表示パネル1300に具備されて表示パネル1300に第1及び第2駆動信号をそれぞれ出力するデータ駆動部及びゲート駆動部1150、1160を含む。
表示パネル1300はアレイ基板1100、アレイ基板1100と向き合うカラーフィルター基板1200、アレイ基板1100とカラーフィルター基板1200とを結合させるシーラント1350で構成される。また、表示パネル1300は、映像を表示する表示領域DA、表示領域DAを取り囲むシールライン領域SA、シールライン領域SAの外側に具備された第1周辺領域PA1及び表示領域DAとシールライン領域SAの一部との間に具備された第2周辺領域PA2で構成される。
ここで、表示領域DAに対応してアレイ基板1100の第1基板1100には複数のゲートラインGL1、GL2、...GLn、複数のデータラインDL1、....、DLm、複数の薄膜トランジスタ及び液晶キャパシタが形成される。例えば、複数の薄膜トランジスタのうち、第1薄膜トランジスタTr1のゲート電極は第1ゲートラインGL1と電気的に接続され、第1薄膜トランジスタTr1のソース電極は第1データラインDL1と電気的に接続され、第1薄膜トランジスタTr1のドレイン電極は複数の液晶キャパシターのうち、第1液晶キャパシタClc1に接続される。
また、第1周辺領域PA1に対応して第1基板1110上にはチップ形態に行われたデータ駆動部1150が実装される。このとき、データ駆動部1150はデータラインDL1、...、DLmと電気的に接続される。従って、データ駆動部1150から出力された第1駆動信号はデータラインDL1、...、DLmに提供される。
一方、第2周辺領域PA2に隣接するシールラインSAと第2周辺領域PA2にはゲート駆動部1160が薄膜トランジスと同一の工程を通じて同時に形成される。ゲート駆動部1160はゲートラインGL1、GL2、...GLnと電気的に接続される。従って、ゲート駆動部1160から出力された第2駆動信号はゲートラインGL1、GL2、...GLnに提供される。
一方、カラーフィルター基板1200は、第2基板1210上の全面に形成された共通電極1220と、シールライン領域SAとゲート駆動部160が形成されたシールライン領域SAに隣接する第1及び第2周辺領域PA1、PA2に対応するように形成された遮光層1230とを具備する。また、カラーフィルター基板1200は第2基板1210と共通電極1220との間にカラーフィルター層(図示せず)をさらに具備する。
ゲート駆動部1160は配線部1162、第1回路部1164及び第2回路部1166で構成される。第1回路部1164はゲートラインGL1、GL2、...GLnに直接的に接続され、ゲートラインGL1、GL2、...GLnに第2駆動信号を出力し、第2回路部1166は第1回路部1164を駆動させる。ここで、ゲート駆動部1160の詳細構成は図4と同一であるので、これについての詳細な説明は省略する。
一方、第1及び第2回路部1164、1166は図5に示されたように、複数個のトランジスタからなる。即ち、第1回路部CS1は第1及び第2トランジスタTFT1、TFT2からなり、第2回路部CS2は第3〜第10トランジスタTFT3、....、TFT10からなる。
このとき、第1回路部1164と第2回路部1166とは、第1離間距離d1を有する。この第1離間距離d1は約200μmである。
シールライン領域SAにはアレイ基板1100とカラーフィルター基板1200とを結合させるシーラント1350が形成される。シーラント1350は光硬化性物質を含み、アレイ基板1100とカラーフィルター基板1200との間に介在された状態で外部から提供された光の入力を受けて堅固に硬化されアレイ基板1100とカラーフィルター基板1200とを結合させる。
シーラント1350はシールライン領域SAに形成されたゲート駆動部1160の一部をカバーする。即ち、シーラント1350はゲート駆動部1160の配線部1162及び第2回路部1166のみをカバーするように形成される。このように、ゲート駆動部1160の一部分をカバーするようにシーラント1350を配置すると、カラーフィルター基板1200に形成された共通電極1220とゲート駆動部1160との間で生成する寄生キャパシタンスを減少させることができる。
また、第1回路部1164と第2回路部1166は、第1離間距離d1を有するように形成することによって、工程偏差上シーラント1350が横に広がって第1回路部1164を被覆することを防止することができる。従って、シーラント1350の広がりによる工程偏差によって第1回路部1164はシーラント1350から第1離間距離d1より小さい第2離間距離d2を有する。このとき、第2離間距離d2は約50μmである。
一方、ゲート駆動部1160の第1回路部1164を構成するトランジスタは第2回路部1166を構成するトランジスタに比べて相対的に大きいサイズを有する。即ち、第1回路部1164を構成するトランジスタが相対的に大きい形成面積を有し、第2回路部1166を構成するトランジスタが相対的に小さい形成面積を有する。
従って、シーラント1350を硬化させるために第1基板1110の背面から光が提供される場合、第2回路部1166は第1回路部1164より相対的に多くの量の光を通過させることができ、それにより、第2回路部1166上部に形成されたシーラント1350にこの光が提供される。
前述したように、本発明の第3実施形態はゲート駆動部のうち、背面から提供される光をより多く通過させることができる部分、即ち、配線部及び第2回路部のみをカバーするようにシーラントを形成する。従って、ゲート駆動部上に形成されたシーラントにより多くの量の光が到達し、それにより、シーラントの硬化が行われアレイ基板とカラーフィルター基板とが堅固に結合される。
以上、本発明の実施形態によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者であれば、本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
本発明の第1実施形態による表示装置の平面図である。 図1に示されたI−I’線に沿って切断した断面図である。 図2に示された第1及び第2反射膜による紫外線反射原理を示す断面図である。 図1に示されたゲート駆動部を具体的に示すブロック図である。 図4に示された回路部の等価回路図である。 図5に示された第1回路部を概略的に示す図面である。 図6に示された第1及び第2トランジスタの他の構成例を示す図面である。 図6に示された第1及び第2トランジスタの他の構成例を示す図面である。 図6に示された第1及び第2トランジスタの他の構成例を示す図面である。 図2に示されたアレイ基板を製造するための製造工程を示す断面図である。 図2に示されたアレイ基板を製造するための製造工程を示す断面図である。 図2に示されたアレイ基板を製造するための製造工程を示す断面図である。 本発明の第2実施形態による表示装置の断面図である。 図13に示された第1及び第2反射パターンによる紫外線反射原理を示す断面図である。 本発明の第3実施形態による表示装置の平面図である。 図15に示されたII−II'線に沿って切断した断面図である。 図16に示されたゲート駆動部の一部分を詳細に示す図面である。
符号の説明
100 アレイ基板
160 ゲート駆動部
200 カラーフィルター基板
300 液晶表示パネル
330 液晶層
350 シーラント
500 有機膜
510 反射膜

Claims (15)

  1. 表示領域と、前記表示領域を取り囲むシールライン領域と、前記シールライン領域の外側に形成された第1周辺領域と、前記表示領域と前記シールライン領域の一部との間に形成された第2周辺領域とを具備する表示パネルと、
    前記シールライン領域のうち、前記第2周辺領域に隣接するシールライン領域に形成され、前記映像を表示する駆動信号を前記表示パネルに出力するゲート駆動部と、
    前記シールライン領域に形成された結合部材と、
    前記第1周辺領域のうち、ゲート駆動部に隣接する第1周辺領域または前記第2周辺領域に形成され、前記結合部材を硬化させるために外部から提供される光を前記結合部材にガイドする反射部材と、
    を含む表示装置。
  2. 前記反射部材は、前記表示パネルに対して所定傾きを有する反射膜であることを特徴とする請求項1記載の表示装置。
  3. 前記表示パネルは、自然光を反射させる反射電極と、人工光を透過させる透明電極とを含み、前記反射部材は、前記反射電極を成す物質を含むことを特徴とする請求項2記載の表示装置。
  4. 前記反射部材は、アイランド形態を有する複数の反射パターンであることを特徴とする請求項1記載の表示装置。
  5. 前記表示パネルは、第1電極、第2電極及び第3電極を有するスイッチング素子を含み、
    前記反射パターンは、前記第1電極を成す物質を含むことを特徴とする請求項4記載の表示装置。
  6. 前記表示パネルは第1電極、第2電極及び第3電極を有するスイッチング素子を含み、
    前記反射パターンは前記第2及び第3電極を成す物質を含むことを特徴とする請求項4記載の表示装置。
  7. 前記表示パネルはスイッチング素子に接続されたゲートラインとデータラインとを含み、
    前記ゲート駆動部は、
    前記ゲートラインに接続され前記駆動信号を提供する第1回路部と、
    前記第1回路部を駆動させる第2回路部と、
    前記第1及び第2回路部を駆動させる第2回路部と、
    前記第1及び第2回路部を制御する制御信号を提供する配線部を含み、
    前記結合部材は前記配線部と、前記第2回路部とをカバーすることを特徴とする請求項1記載の表示装置。
  8. 前記第1回路部は、前記第2回路部から離間して配置されることを特徴とする請求項7記載の表示装置。
  9. 前記第1回路部は、第1トランジスタ及び第2トランジスタを含み、
    前記第1トランジスタは、前記第2トランジスタから離間して配置されることを特徴とする請求項7記載の表示装置。
  10. ゲートラインとデータラインとが形成された第1基板と、前記第1基板と向い合う第2基板と、前記第1基板と前記第2基板との間に介在されて前記第1基板と第2基板とを結合させる結合部材とで構成され、駆動信号に応答して映像を表示する表示パネルと、
    前記第1基板上に設けられ、外部から複数の信号の入力を受けて配線部と、前記配線部を通じて入力された前記複数の信号に応答して前記駆動信号をゲートラインに出力する回路部とを含み、
    前記回路部は、
    前記ゲートラインと接続されて前記駆動信号を前記ゲートラインに出力する第1回路部と、
    前記第1回路部と離隔されて形成され、前記配線部から入力される前記複数の信号に応答して前記第1回路部を駆動させる第2回路部と、
    を含む表示装置。
  11. 前記結合部材は、前記配線部と前記第2回路部とをカバーすることを特徴とする請求項10記載の表示装置。
  12. 前記第1回路部は、第1トランジスタと第2トランジスタとを含み、
    前記第1トランジスタは前記第2トランジスタから離間して配置されたことを特徴とする請求項10記載の表示装置。
  13. 表示領域を取り囲むシールライン領域の一部に形成されたゲート駆動部と、前記ゲート駆動部に隣接するシールライン領域に形成された反射部材を有する第1基板とを形成する段階と、
    前記シールライン領域に結合部材を形成する段階と、
    前記第1基板に対向するように第2基板を位置させる段階と、
    前記第1基板と第2基板とを結合するために前記第1基板の背面で前記結合部材を硬化させるための光を提供する段階を含み、
    前記光は前記反射部材によって反射されて前記ゲート駆動部上に位置する前記結合部材に提供されることを特徴とする表示装置の製造方法。
  14. 前記第1基板を形成する段階は、
    絶縁基板上の前記表示領域に薄膜トランジスタを形成し、前記シールライン領域の一部に前記ゲート駆動部を形成する段階と、
    前記絶縁基板全面に有機物質を蒸着する段階と、
    前記有機物質をパターニングして前記ゲート駆動部の上部に所定のパターンウェーハ角度を有する有機膜を形成する段階と、
    前記表示領域に反射電極を形成し、前記ゲート駆動部に隣接する前記シールライン領域の前記有機膜上に前パターンテェーハ角度に対応する傾きを有し前記反射電極を成す物質を含む反射部材を形成する段階と、
    を含むことを特徴とする請求項13記載の表示装置の製造方法。
  15. 前記第1基板を形成する段階は、
    絶縁基板上の前記表示領域に第1電極、第2電極及び第3電極を有する薄膜トランジスタを形成し、
    前記シールライン領域の一部に前記ゲート駆動部を形成し、
    前記ゲート駆動部に隣接する前記シールライン領域に前記第1、第2及び第3電極のうち、いずれか1つの電極を成す物質を含む反射部材を形成することを特徴とする請求項13記載の表示装置の製造方法。

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