JP2006082222A - レーザーショック処理を監視するシステム及び方法 - Google Patents

レーザーショック処理を監視するシステム及び方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 リアルタイムで動作可能なレーザーショックピーニングプロセスを監視するシステムを提供する。
【解決手段】 レーザーショックピーニングプロセスにより発生されるプラズマ(32)により放出される放射線から、線スペクトルが得られる。レーザーショックピーニングプロセスの適正な動作を検証するために、線スペクトルの発光ピークを中心とする線スペクトルの形状は、定義済み線形状と比較される。線形状は、所望の線形状に対応するローレンツ線形状であってもよい。線形状は、望ましくない線形状に対応するガウス線形状であってもよい。更に、システム(14)は、不透明な層(22)により発生されるプラズマと共に、工作物の材料により発生されるプラズマスペクトル成分を検出することにより、不透明な層(22)が破壊されたときに起こる障害モードを検出することもできる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、一般に、金属表面のレーザー処理中のプロセス監視に関し、特に、レーザープラズマ放出を解析することによるレーザーショックピーニングプロセスのリアルタイム監視に関する。
レーザーショックピーニング(LSP)は、レーザーショック処理とも呼ばれ、金属工作物の疲労寿命を改善する有効な方法である。現在、LSPは、航空宇宙産業及び自動車産業において、特に、アルミニウム合金、鋼合金、チタン系合金及びニッケル系合金などの様々な金属部品の疲労特性を改善するための方法として広く適用されている。
一般に、LSPにおいては、工作物の表面を不透明な層及び透明なオーバレイによって被覆する。不透明な層は、黒色プラスチックテープ又は工作物の表面に塗布される黒色塗料を含んでもよい。透明なオーバレイは、一般に、不透明な層に隣接して配置される水の層から形成される。処理中、工作物の表面に、高出力パルスレーザービームが集束される。レーザーパルスは、透明なオーバレイを通過し、不透明な層により吸収される。その結果、不透明な層の急速なアブレーションが起こり、プラズマが発生される。工作物の表面からプラズマが吹き出すことにより、振幅の大きな圧力衝撃波が発生する。圧力衝撃波は、2つの方向に進む。第1に、圧縮波は、不透明な層を通って工作物の内部へ進む。第2に、衝撃波は、テープから反射され、透明な層を通って逆方向に進む。衝撃インピーダンスの不整合があるため、この逆方向に進む波は、透明な層により反射され、工作物に向かって進む。最終的に、衝撃波は組み合わされて、工作物に対して塑性変形を加える。その結果、工作物は変形し、圧縮残留応力を加える。処理後も、圧縮残留応力は残る。工作物における亀裂伝播速度を有効に低下させ、それにより、工作物の疲労特性を改善するのが、工作物におけるそれらの圧縮残留応力である。
レーザーにより発生される圧力が不十分であると、工作物の機械特性の所望の変化は実現されない。従って、LSP処理中、圧力波及び衝撃波の強さを監視できることが望ましい。当該技術において知られている1つの方法は、レーザーショック処理中に圧力を測定するために、水晶ゲージを使用することを含む。水晶ゲージは、水晶の結晶の圧電挙動に基づく。この技術においては、処理されるべき工作物の一方の面に、水晶の結晶が配置される。レーザーパルスにより、水晶の結晶の表面に圧力衝撃波が印加されると、水晶の結晶により、レーザーの影響を受けた面と反対側の面との応力の差に比例する電流が発生する。電流は、抵抗器を通って流れ、抵抗器で測定される電圧は、圧力応答に比例する。水晶の結晶の圧力応答を解析することにより、実際の処理中に工作物で発生された衝撃波圧力を判定できる。しかし、これは、間接的な方法であり、オフラインで実行されるので、すなわち、リアルタイムで実行されるのではないので、不都合である。更に、レーザーショットの度に水晶の結晶を交換する必要があるため、このような方法のコストは高くなる。
LSPプロセスの品質を判定するための別の技術は、工作物が処理された後、工作物において加速疲労試験を実行することを含む。しかし、LSPプロセス及び工作物材料は高価であるので、加速疲労試験に際してサンプリングできるのは、限られた数の部品にすぎない。
特開2001−124697号公報
従って、低コストであり且つ実質的にリアルタイムで動作可能なレーザーショックピーニングプロセスを監視するシステム及び方法が必要とされる。
本発明の1つの面においては、レーザーショックピーニングプロセスを監視する方法が提供される。方法によれば、レーザーショックピーニングシステムにより発生されるプラズマから放出される放射線から、線スペクトルが生成される。線スペクトルは、その線スペクトルを表す信号に変換される。線スペクトルを表す信号は、線スペクトルの図形表現に更に変換され、この図形表現に対して、曲線当てはめが実行される。次に、線スペクトルの図形表現の曲線当てはめにおける線の広がりは、線スペクトルの図形表現における線の広がりと比較され、それにより、線スペクトルが所望の線スペクトルに対応するか否かが確定される。
別の面においては、レーザーショックピーニングプロセスを監視する方法が提供される。方法によれば、レーザーショックピーニングプロセスにより発生されるプラズマから放出される放射線から、線スペクトルが生成される。次に、プラズマから放出される放射線の線スペクトルにおける発光ピークの波長又は周波数のうちの少なくとも一方が、工作物の材料から放出される放射線の期待線スペクトルにおける発光ピークの波長又は周波数のうちの少なくとも一方と比較され、それにより、レーザー誘導プラズマの少なくとも一部が、工作物材料から発生されたことが検証される。
更に別の面においては、レーザーショックピーニングシステムが提供される。システムは、パルスレーザーと、分光計と、スペクトル分析器とを含む。パルスレーザーは、パルスレーザービームを、工作物の表面上に配置された不透明な層に向かって誘導するように動作可能である。分光計は、パルスレーザーが不透明な層に衝突したときに発生されるプラズマにより放出される放射線の線スペクトルを生成するように動作可能である。スペクトル分析器は、発光ピークを中心とする線スペクトルの線の広がりを、定義された線形状におけるピークを中心とする線の広がりと比較するように動作可能である。
本発明の上記の特徴、面及び利点、並びにその他の特徴、面及び利点は、添付の図面を参照して、以下の詳細な説明を読むことにより、更によく理解されるであろう。尚、図面中、全ての図を通して、同じ図中符号は、同じ部分を示す。
以下に詳細に説明されるように、本発明の技術は、非侵入方式により、リアルタイムでレーザーショックピーニングプロセスを監視する方法であり、周囲環境の影響をほぼ受けない。以下に説明される技術は、レーザーショットの度に、リアルタイムでレーザーショットの品質を制御するように、LSP処理中、プラズマ放射の線の広がりを解析することに基づく。
そこで、図1を参照すると、レーザーショックピーニングシステム10が示される。図示されるレーザーショックピーニングシステム10は、レーザーショックピーニングユニット12と監視システム14とを具備する。レーザーショットピーニングユニット12は、監視システム14と通信するプロセス制御システム16により制御される。プロセス制御システム16は、監視システム14から受信される信号に基づいて、レーザーショックピーニングユニット12のプロセスパラメータを調整する。
図示されるように、レーザーショックピーニングユニット12は、ホルダ20により所定の位置に保持された工作物18を具備する。工作物18の一方の面には、不透明なオーバレイ22と透明なオーバレイ24が塗布される。不透明なオーバレイ22は、例えば、黒色テープ又は工作物18の片面に塗布された黒色塗料であってもよい。この実施形態においては、透明なオーバレイ24は、例えば、ポンプなどの流れ循環装置25により送り出される流水の膜から形成される。透明なオーバレイ24は、不透明なオーバレイ22に隣接して配置される。しかし、透明なオーバレイ24は、透明なテープなどの別の材料から形成されてもよい。以上説明した構成は、垂直に配置されてもよいが、垂直線に関して所望の角度で配置されてもよい。
処理中、パルスレーザー28から工作物18の上へ、パルスレーザービーム26が誘導される。レーザー28は、例えば、パルスNd:YAGレーザー又はNd:ガラスレーザーであってもよい。しかし、レーザーショックピーニングを実行するために、他のパルスレーザーが使用されてもよいことは理解される。レーザービーム26を工作物18上に集束するために、レンズ30が使用されてもよい。レーザービーム26は、透明なオーバレイ層24を通過し、不透明なオーバレイ層22により吸収される。集束後のレーザービームの強さにより、不透明な層22は蒸発し、プラズマ32を発生する。不透明な層22が蒸発する温度は、10,000K程度になる。プラズマの膨張は、透明なオーバレイ24によりほぼ閉じ込められ、その結果、圧力パルスが発生する。圧力パルスは、透明な層24から反射されて、工作物18に向かって戻る。この反射波により発生された圧力パルスは、不透明な層22の初期アブレーションにより発生され、前方へ進む衝撃波と重畳され、工作物18を変形させる。これにより、工作物18の内部深くに、圧縮応力が加えられる。先に説明した流水層のような透明なオーバレイによりプラズマの膨張が閉じ込められた場合、透明なオーバレイがない場合と比較して、圧力パルスの大きさは増加することが観測されている。
不透明な層22の蒸発により発生されたプラズマ32は、光34の放射を発生させる。本発明の技術によれば、それらのスペクトル発光(プラズマ発光とも呼ばれる)34からの光は、レンズ36により集束され、分光計38の入射スリットに入射する。分光計38は、事前に定義された波長範囲の光のスペクトル強さを測定するための計器である。スペクトル発光34は、分光計により、その成分波長に分散される。分光計38において生成される光のスペクトルの画像は、カメラ40により撮影される。カメラ40は、ゲート増倍電荷結合素子(CCD)カメラ、又は相補形金属酸化膜半導体(CMOS)カメラを含むと考えられるが、他の画像記録装置が使用されてもよい。カメラ40からの画像は、スペクトル分析器42へ送信される。スペクトル分析器42は、画像により捕捉されたスペクトル発光を解析する。一実施形態においては、スペクトル分析器42は、カメラ40により撮影された画像で捕捉された光強さデータに基づいて、プラズマ発光34の線スペクトルを生成するように構成される。スペクトル分析器42は、例えば、実行可能なソフトウェアコードを実行する処理装置を含んでもよい。スペクトル分析器42は、結果を視覚表示するためのモニタを含んでもよい。一実施形態においては、スペクトル分析器は、カメラ40からの画像により捕捉されたスペクトル発光の解析をコンピュータに実行させることが可能な特別なデータ処理ソフトウェアを具備するコンピュータである。
図2は、レーザーショックピーニングプロセスにより発生されるプラズマから受信される光の線スペクトル(図中符号44により示される)の一例を示す。線スペクトル44は、特定の波長(l)で発光ピーク46を有する。しかし、線スペクトル44は、単純に特定の波長(l)で直線を描くのではなく、ほぼベル形を有する。発光ピーク46を中心とする線スペクトル44のベル形を、線の広がりという。プラズマ発光において、スペクトルのピークを中心としてスペクトル線を広げる効果には、固有広がり、熱による広がり、衝突による広がり及びシュタルク広がりなどいくつかある。
固有の線の広がりは、原子の励起レベルがいくつかの平均寿命を有し、ハイゼンベルグの不確定性原理によって、それらの平均寿命がエネルギー値の広がりを示唆するという事実によって起こる。励起原子のエネルギー値の広がりは、異なる波長の光を放射させる。一般に、固有の線の広がりは、ローレンツの線形状を有するスペクトル発光を発生させる。一般に、LSPプロセスは、数百ナノ秒の寿命を有する線スペクトルを発生するため、固有の線の広がりは、1メガヘルツ(MHz)の大きさである。従って、LSPプロセスにおいては、固有の線の広がりの影響は、一般にわずかである。熱による広がりは、高温で移動する粒子のドップラー周波数偏移により引き起こされ、ガウスの線形状を有するスペクトル発光を発生する。スペクトル発光の衝突による広がりは、イオン及び中性子が高圧であることによって起こり、ローレンツの線形状を有する。シュタルク広がりは、強力な永久電気双極子モーメントを有する電子又は粒子の相互作用によって起こり、ある1つの領域の中における電子の数密度を示す。シュタルク広がりも、ローレンツの線形状を有する。
レーザーショックピーニングプロセスの動作条件は、LSPシステム10により発生される発光線の広がりを左右する要因が上記の要因のうちのいずれであるかを判定する。例えば、LSPシステム10が適正に動作している場合、透明なオーバレイ24は、プラズマ32を閉じ込め、その結果、閉じ込めボリューム内における圧力が高くなる。そのような場合、線の広がりを決定する主な要因は、衝突による広がりとシュタルク広がりである。その結果、線の放射は、ほぼローレンツの線形状を有する。逆に、例えば、工作物の上面における水による閉じ込めが欠落した場合のように、システムが適正に動作していない場合には、高温のプラズマは閉じ込められない。そのような場合、線の広がりは、温度と圧力の双方により影響を受けるため、熱による広がりが1つの要因となり、線の広がりは、フォークトの線形状を有するか、又はガウスの線形状とローレンツの線形状との畳み込みである形状を有する。
従って、LSPシステム10により発生される発光線の形状を、発光線のローレンツ曲線当てはめと比較することにより、システムが適正に動作しているか否かを判定できる。更に、以下に説明されるように、LSPプロセスにおける線の広がりがローレンツの線形状にどれほど近似しているかを判定することにより、工作物に印加された圧力パルスの大きさを判定してもよい。ローレンツの線形状は、下記の式に従う。
Figure 2006082222
(1)式中、aは、波長λにおけるピークの振幅、
は、ピークの中心波長λ
は、波長λを中心とするスペクトル発光の幅である。
ガウスの線形状は、下記の式に従う。
Figure 2006082222
(2)式中、aは、波長λにおけるピークの振幅、
は、ピークの中心波長λ
は、波長λを中心とするスペクトル発光の幅である。
図3〜図6を参照すると、図示される実施形態におけるスペクトル分析器42は、LSPプロセス中の線の広がりがローレンツの線形状及びガウスの線形状にどれほど近似しているかを判定する。発光スペクトルがローレンツの線形状に類似する場合、LSPプロセスが適正に動作していることを示す。それに対し、ローレンツの線形状との類似が見られず、ガウスの線形状に類似する場合には、LSPプロセスにおける不適正な動作状態を示す。スペクトル分析器42は、発光スペクトルが、発光スペクトルのローレンツ曲線当てはめ又はガウス曲線当てはめに近似することを示すパラメータを計算し、その信号をプロセス制御システム16へ送信する。そのようなパラメータは、例えば、多重判定値、すなわち、R値を含んでもよい。しかし、発光スペクトルに対して曲線の当てはめがどれほど近似しているかを示す他の統計評価を使用して、比較を実行してもよい。更に、スペクトル分析器は、ローレンツ曲線当てはめからの多重判定の係数を、ガウス曲線当てはめの多重判定の係数と比較してもよい。ローレンツ曲線当てはめの多重判定の係数が、ガウス曲線当てはめの多重判定の係数より大きければ、線の広がりは、ガウスよりローレンツにより近い。プロセス制御システム16は、データの解析に基づいて、LSPシステム10の動作を停止するか、又はLSPシステム10の1つ以上の構成要素の動作を変更してもよい。
図3及び図4を参照すると、正常に動作中であるLSPシステムにより生成される発光スペクトル48の一例が示される。発光スペクトル48は、波長(λ)においてピーク50を有する。図3は、発光スペクトル線48のローレンツ曲線当てはめ52を示し、図4は、発光スペクトル線48のガウス曲線当てはめ54を示す。この実施形態においては、レーザービーム26の強さと水の層24の閉じ込めとは、衝突による広がり及びシュタルク広がりが線の広がり要因を支配できるような十分な圧力を有するプラズマ32を発生するには十分である。その結果、図3に示されるローレンツ曲線当てはめ52は、発光スペクトル48との妥当な高レベルの一致を示す。逆に、発光スペクトル48は、図4のガウス曲線当てはめ54とは、高レベルの一致を示さない。発光スペクトル48は、ローレンツ曲線当てはめ52との高レベルの一致を示し、ガウス曲線当てはめ54との一致を示さないため、発光スペクトル48は、例えば、水による適正なプラズマ閉じ込めによって、LSPシステム10が適正に動作していることを明示する。
次に、図5及び図6を参照すると、水による適正な閉じ込めが行われないLSPシステムにより生成される発光スペクトル56の一例が示される。発光スペクトル56は、波長(λ)においてピーク58を有する。図5は、発光スペクトル線56のローレンツ曲線当てはめ60を示し、図6は、発光スペクトル線56のガウス曲線当てはめ62を示す。この実施形態においては、レーザービーム26の強さ又は水の層24による閉じ込めは、衝突による広がり及びシュタルク広がりが線の広がりを支配できるような十分な圧力をプラズマ32により実現させるには十分ではない。衝突による広がり及びシュタルク広がりばかりでなく、熱による広がりも、線の広がりに影響を及ぼしている。その結果、図5に示されるローレンツ曲線当てはめ60は、発光スペクトル56と妥当な高レベルの一致を示さない。逆に、発光スペクトル56は、図6のガウス曲線当てはめ62との間に、ある程度の一致を示す。発光スペクトル56は、ローレンツ曲線当てはめ60との間で高レベルの一致を示さず、ガウス曲線当てはめ62との一致を示すため、発光スペクトル56は、LSPシステム10が適正に動作していないこと、例えば、LSPシステムが、水によって適正にプラズマを閉じ込めていないことを明示する。
スペクトル線の広がりがローレンツ線形状にどの程度近似あるいは一致するかに応じて、プロセス制御システム16は、LSPシステム10の動作を停止するか、警報を発生するか、又はLSPシステム10の1つ以上の構成要素の動作を修正してもよい。ローレンツ線形状との所望の程度の一致を実現するために、プロセス制御システム16は、例えば、レーザーエネルギーを増減するか、工作物に当たるレーザービームの直径を拡大又は縮小するか、レーザービーム26のパルス幅を増減するか、あるいは透明な層24の厚さを増減するように動作可能であってもよい。
図7〜図9を参照して説明する。本発明の技術は、LSPプロセスの障害を検出する目的でも使用可能である。特に、本発明の技術は、不透明な層の溶け落ちを検出する目的で使用可能である。そのような場合、レーザービーム26の一部が工作物18に直接に入射する程度に応じて、不透明な層22は蒸発してしまい、その結果、工作物材料からもプラズマが放射される。一例として、図7は、不透明な層のみからのプラズマスペクトル発光による線スペクトル64を示す。線スペクトル64は、波長λにおいてスペクトルのピーク66を有するが、波長λにおいては、スペクトルのピークを有さない。図8は、工作物材料のみからのプラズマスペクトル発光による線スペクトル68を示す。この線スペクトル68は、波長λにおいて、特徴的なピーク70を有する。図9は、不透明な層の溶け落ちにより生成される線スペクトル72を示す。図示されるように、溶け落ちの場合の線スペクトル72は、大きなスペクトルのピーク76及び78を含む。ピーク76は、工作物材料を表す波長λで起こり、ピーク78は、不透明材料を表す波長λで起こる。従って、波長λで起こる不透明な層の発光スペクトルピーク74と共に、工作物材料を表す波長λにおける発光スペクトルピーク76の存在によって、溶け落ち状態を検出できる。溶け落ちが検出された場合、プロセス制御システム16は、その溶け落ちの原因である問題を修正できるように、LSPシステム10の動作を中断するか、あるいは、その状態を修正するために、LSPシステムの動作を変更してもよい。
以上の説明から理解できるように、工作物に対してレーザーが放射される度に、直接に、リアルタイムでレーザーショットを解析するために、本発明の技術を使用できる。従って、全てのレーザーショットの品質の保証が可能になる。更に、説明された技術は、LSPプロセスの副産物であるレーザー誘導プラズマ発光の解析を含むため、非侵入型の方法である。更に、本発明の方法は、発光ピークを中心とするプラズマ発光の線の広がりを利用し、厳密な1つの波長における絶対信号強さを使用しないので、例えば、室内灯又はレーザーフラッシュランプの揺らぎ、分光計の絶対波長の変動、あるいはシステムの振動又は他の原因による監視システムの整列誤差などの周囲環境からの影響を実質的に受けない。
本発明のいくつかの特徴のみを図示し、説明したが、数多くの変形及び変更は、当業者には明らかであろう。なお、特許請求の範囲に記載された符号は、理解容易のためであってなんら発明の技術的範囲を実施例に限縮するものではない。
本発明のいくつかの面によるレーザーショックピーニングシステムの概略図である。 LSPプロセスにおいて発生されるプラズマ発光の特定の波長l0を中心とする代表的な線スペクトルを示した特性図である。 工作物上の透明な層による閉じ込めを有するLSPプロセスの場合の特定の波長l0を中心とする線スペクトルと、その線スペクトルのローレンツ曲線当てはめとを比較して示した特性図である。 工作物上の透明な層による閉じ込めを有するLSPプロセスの場合の特定の波長l0を中心とする線スペクトルと、その線スペクトルのガウス曲線当てはめとを比較して示した特性図である。 工作物上の透明な層による閉じ込めを伴わないLSPプロセスの場合の特定の波長l0を中心とする線スペクトルと、その線スペクトルのローレンツ曲線当てはめとを比較して示した特性図である。 工作物上の透明な層による閉じ込めを伴わないLSPプロセスの場合の線スペクトルと、その線スペクトルのガウス曲線当てはめとを比較して示した特性図である。 不透明な層の溶け落ちの場合のレーザー誘導プラズマにより発生される放射線の線スペクトルを示した特性図である。 工作物材料のみからのプラズマスペクトル発光による線スペクトルを示した特性図である。 不透明な層の溶け落ちにより生成される線スペクトルを示した特性図である。
符号の説明
10…レーザーショックピーニング(LSP)システム、12…レーザーショックピーニングユニット、14…監視システム、16…プロセス制御システム、18…工作物、22…不透明なオーバレイ、24…透明なオーバレイ、26…レーザービーム、28…パルスレーザー、32…プラズマ、34…スペクトル発光、38…分光計、40…カメラ、42…スペクトル分析器

Claims (10)

  1. レーザーショックピーニングプロセスを監視する方法において、
    レーザーショックピーニングシステム(10)により発生されるプラズマ(32)から放出される放射線の線スペクトルを発生することと;
    前記線スペクトルを、前記線スペクトルを表す信号に変換することと;
    前記線スペクトルを表す信号を、前記線スペクトルの図形表現に変換することと;
    前記線スペクトルの図形表現の曲線当てはめを生成することと;
    線スペクトルの図形表現における線の広がりを、前記線スペクトルの図形表現の曲線当てはめにおける線の広がりと比較し、前記線の広がりが所望の線の広がりに対応するか否かを判定することとから成る方法。
  2. 前記線スペクトルの図形表現の曲線当てはめを生成することは、前記線スペクトルのローレンツ曲線当てはめを生成することを含む請求項1記載の方法。
  3. 線スペクトルの図形表現における線の広がりを、前記線スペクトルの図形表現の曲線当てはめにおける線の広がりと比較することは、前記線スペクトルのローレンツ曲線当てはめの多重判定の係数を確定することを含む請求項2記載の方法。
  4. 前記ローレンツ曲線当てはめに対応する前記多重判定の係数が閾値量未満になったとき、前記レーザーショックピーニングシステムに制御信号を供給することを含む請求項3記載の方法。
  5. 前記制御信号の受信に基づいて、レーザーショックピーニングシステム動作パラメータを調整することを含む請求項4記載の方法。
  6. 前記線スペクトルの図形表現の曲線当てはめを生成することは、前記線スペクトルのガウス曲線当てはめを生成することを含む請求項1記載の方法。
  7. 線スペクトルの図形表現における線の広がりを、前記線スペクトルの図形表現の曲線当てはめにおける線の広がりと比較することは、前記線スペクトルのガウス曲線当てはめの多重判定の係数を確定することを含む請求項6記載の方法。
  8. 前記ガウス曲線当てはめに対応する前記多重判定の係数が閾値量を超えたとき、前記レーザーショックピーニングシステムに制御信号を供給することを含む請求項7記載の方法。
  9. レーザーショックピーニングを監視する方法において、
    レーザーショックピーニングシステム(10)により発生されるレーザー誘導プラズマにより放出される放射線の線スペクトルを生成することと;
    前記プラズマ(32)から放出される放射線の線スペクトルにおける発光ピークの波長又は周波数のいずれか一方を、工作物(18)の材料から放出される放射線を特徴付ける期待線スペクトルにおける発光ピークの波長又は周波数のいずれか一方と比較し、前記レーザー誘導プラズマ(32)の少なくとも一部が前記工作物(18)の材料から生成されたことを検証することとから成る方法。
  10. 前記プラズマが前記工作物の材料から生成された場合、前記レーザーショックピーニングシステム(10)の動作を調整又は停止することを更に含む請求項9記載の方法。
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