JP2006080353A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン基板104の上に、少なくとも高誘電体材料膜106を含む絶縁膜106,111を形成し、絶縁膜106,111上にゲート電極層109を形成し、ゲート電極層109をパターニングしてゲート電極109を形成し、ゲート電極109以外の高誘電体材料膜106を、フッ素化合物を含む強酸水溶液で除去する半導体装置の製造方法。
【選択図】図1
Description
シリコン酸化物膜107の膜厚は1nm、高誘電体材料膜106にはHfSiONを用い、その膜厚は3nmとした。また、多結晶シリコン膜109の厚さは150nmとし、不純物拡散領域形成地の熱処理工程(アニール)条件は1000℃で1秒とした。また、ドライエッチングによって得られた(残った)、ゲート電極下部以外のHfSiONの膜厚は2nmであった。ここで、フッ化水素化合物を含む水溶液は、HF濃度が0.1重量%でpH=1の溶液を用い、50℃、1分間、スプレー方式で洗浄をおこなった。素子分離領域のHfSiON、および、シリコン酸化物の膜厚を表1に示す。
比較例1は、実施例1と同様の製造方法をもって半導体装置を製造すると共に、この半導体装置を比較用の洗浄液で洗浄した。シリコン酸化物107の膜厚は1nm、高誘電体材料膜にはHfSiONを用い、その膜厚は3nmとした。また、多結晶シリコン膜109の厚さは150nmとし、不純物拡散領域形成地の熱処理工程(アニール)条件は1000℃で1秒とした。また、ドライエッチングによって得られた(残った)、ゲート電極下部以外のHfSiONの膜厚は2nmであった。ここで、比較のため、フッ化水素化合物を含む比較用の水溶液は、HF濃度が0.5重量%の溶液を用い、50℃、1分間の洗浄をおこなった。素子分離領域のHfSiON、および、シリコン酸化物の膜厚を表2に示す。
102 シリコン窒化膜
103 シリコン酸化膜
104 シリコン基板
105 素子分離領域
106 高誘電体材料膜
107 シリコン酸化膜
108 不純物拡散領域
109 多結晶シリコン膜
110 シリコン酸化膜
111 無機窒化膜
Claims (8)
- 電界効果トランジスタを含む半導体装置の製造方法であって、
シリコン基板の上に、少なくとも高誘電体材料膜を含む絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜上にゲート電極層を形成する工程と、ゲート電極層をパターニングしてゲート電極を形成する工程と、ゲート電極以外の高誘電体材料膜を、フッ素化合物を含む強酸水溶液で除去する工程とを備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、前記フッ素化合物を含む水溶液は、フッ酸、フッ化アンモニウム、フッ化水素アンモニウム、テトラメチルアンモニウムフルオライドを少なくとも1種類を含む水溶液であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の半導体装置の製造方法において、前記フッ素化合物を含む水溶液のフッ素化合物の濃度は、0.01重量%〜0.3重量%であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の半導体装置の製造方法において、フッ素化合物を含む水溶液のpHは、1以下であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の半導体装置の製造方法において、高誘電体材料膜は、HfSiO又はHfSiONであることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の半導体装置の製造方法において、高誘電体材料膜を、フッ素化合物を含む水溶液で除去する温度は、20℃〜60℃であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の半導体装置の製造方法において、高誘電体材料膜を、フッ素化合物を含む水溶液で除去する工程は、浸漬洗浄法によって行われることを特徴とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の半導体装置の製造方法において、高誘電体材料膜を、フッ素化合物を含む水溶液で除去する工程は、スプレー洗浄法によって行われることを特徴とする半導体装置の製造方法。
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JP2005044888A (ja) * | 2003-07-24 | 2005-02-17 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | 半導体装置の製造方法 |
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JP2006073871A (ja) * | 2004-08-02 | 2006-03-16 | Tosoh Corp | エッチング用組成物 |
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