JP2006060169A - 電界効果型トランジスタ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 長鎖アルキル基を有するC60誘導体からなる結晶性の高いn型有機半導体を備えていることを特徴とする電界効果型トランジスタ。溶液プロセスにより結晶性の高い有機半導体層を形成し、さらにこれを熱処理して電子移動度を向上させたことを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。
【選択図】 図1
Description
また、C60以外のn型有機FETでは、ペリレン誘導体PTCDI-C8Hを用いたFETが、移動度0.6cm2/Vsを示すことが報告されている(非特許文献2参照)。
"Fabrication and characterization of C60 thin-filmtransistors with high field-effect mobility" S. Kobayashi et al.著、 AppliedPhysics Letters, Vol.82, No.25, p4581-p4583, (2003) "N-type organic thin-film transistor with high field-effect mobilitybased on a N,N’-dialkyl-3,4,9,10-perylene tetracarboxylic diimide derivative"Patrick R. L. Malenfant et al.著、 Applied Physics Letters, Vol.80, No.14,p2517-p2519, (2002) "Solution-Processed Organic n-Type Thin-Film Transistors" ChristophWaldauf et al.著、 Advanced Materials, Vol.15, No.24, p2084-p2088, (2003) "High Electron Mobility in Ladder Polymer Field-Effect Transistors"Amit Babel et al.著、 Journal of the American Chemical Society, Vol.125, No.45,p13656-p13657, (2003)
その原因として、薄膜の結晶性が低いことや有機溶媒、酸素、水などの電子輸送の妨げになる残留物の存在が上げられる。
本願発明の課題は、溶液プロセスを用いても高い電子移動度を示す有機FETを提供することである。
また、作製した薄膜を真空中で加熱処理することにより、電子輸送の妨げになる有機溶媒、酸素、水などの残留物の除去や薄膜の結晶性を向上させることが分かった。
以上から、本願発明は、下記1)〜7)を提供するものである。
1)溶液プロセスにより形成された結晶性の高い有機半導体層を備えていることを特徴とする電界効果型トランジスタ。2)長鎖アルキル基を有するC60誘導体からなる結晶性の高いn型有機半導体を備えていることを特徴とする電界効果型トランジスタ。3)長鎖アルキル基を有するC60誘導体からなる結晶性の高いn型有機半導体を備えていることを特徴とする上記1)記載の電界効果型トランジスタ。4)溶液プロセスにより結晶性の高い有機半導体層を形成し、さらにこれを熱処理して電子移動度を向上させたことを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。5)長鎖アルキル基を有するC60誘導体からなる結晶性の高いn型有機半導体を形成し、さらにこれを熱処理して電子移動度を向上させたことを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。6)長鎖アルキル基を有するC60誘導体からなる結晶性の高いn型有機半導体を形成し、さらにこれを熱処理して電子移動度を向上させたことを特徴とする上記4)記載の電界効果型トランジスタの製造方法。7)有機半導体層を形成した後、真空中、50〜200°Cの温度で熱処理することを特徴とする上記4)〜6)のいずれかに記載の電界効果型トランジスタの製造方法。
図1に、一般的な電界効果型トランジスタ素子構造の断面図を示す。図1(a)の構造は、ゲート絶縁膜3上にn型有機半導体層4があり、その上にソース電極5およびドレイン電極6を有するものである。
図1(b)の構造は、ゲート絶縁膜3上にソース電極5およびドレイン電極6があり、その上にn型有機半導体層4を有するものである。
図1(c)の構造は、基板1上にn型有機半導体層4があり、その上にソース電極5およびドレイン電極6、ゲート絶縁膜3、ゲート電極2を有するものである。
本発明は、n型有機半導体層4として、溶液プロセスにより結晶性の高い有機半導体層形成する。この結晶性の高いn型有機半導体として、長鎖アルキル基を有するC60誘導体が有効である。
この長鎖アルキル基を有するC60誘導体の分子構造を[化1]に示す。アルキル鎖(鎖長n=4-20)がフェニル基のオルト、メタ、パラ位を介してピロリジン骨格を有するC60誘導体に付加している。主な合成法は、”Studies on Structures and Properties of Long Alkyl Chain-linked C60 Cast Films” 近松真之博士学位論文(2001年 東京都立大学)に掲載されている。
ソース電極5およびドレイン電極6は、真空蒸着法、スパッタ法などにより形成する。電極用の金属としては、金、銀、白金、クロム、アルミニウム、インジウム、アルカリ金属(Li, Na, K, Rb, Cs)、アルカリ土類金属(Mg, Ca, Sr, Ba)などを用いることができる。電極材も同様に、これらに制限されるものではない。
基板1は、シリコン基板、ガラス基板や、ポリエチレンテレフタラート(PET)に代表されるプラスチック基板を用いることができる。基板材も同様に、これらに制限されるものではない。
ゲート電極2は、pドープシリコン、nドープシリコン、インジウム・錫酸化物(ITO)や、化学ドーピングにより高い導電性を示すポリチオフェン系、ポリアニリン系などの高分子や、金、銀、白金、クロムなどの金属を用いることができる。ゲート電極材も同様に、これらに制限されるものではない。
ゲート絶縁膜3は、絶縁性および誘電率の高いものが望まれる。例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化タンタルなどの無機物や、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリメチルメタクリレート、シアノエチルプルランなどの有機物を用いることができる。ゲート絶縁材も同様に、これらに制限されるものではない。
この熱処理条件は、通常の生産工程で効率的な範囲のものであり、本発明は必ずしもこれらの条件に制限されるものではない。必要に応じて、この熱処理条件を変更(上記範囲外と)することもできる。
図2に、実施例1で説明する電界効果型トランジスタ素子構造の断面図を示す。まず、素子の作成法を説明する。
厚さ300nmのシリコン酸化膜8のついたpドープシリコン基板7をヘキサメチルジシラザン(HMDS)に約1時間浸した。その後、基板をクロロホルムで約20分超音波洗浄した。尚、pドープシリコン基板7は、基板とゲート電極を兼ねている。
[化2]に示すC60MC12をクロロホルムに溶かし、10mg/mlの濃度に調整した。C60MC12は、鎖長12のアルキル鎖がフェニル基のメタ位を介してピロリジン骨格を有するC60誘導体に付加した化合物である。
チャネル幅、チャネル長は、それぞれ5mm、20μmである。その後、大気中で銀ペーストを用いて金線と結線し、クライオスタット中で真空に引きながら室温でトランジスタ特性の評価を行った。真空度は、10-6〜10-7 Torr程度である。
図4に、熱処理後に室温で測定した素子のドレイン電流−ドレイン電圧特性を示す。熱処理前のドレイン電流が、VD=50V, VG=70Vの時、90μAであったのに対し、熱処理後は160μAと大きく増加した。
これは、作製した薄膜を真空中で加熱処理することにより、電子輸送の妨げになる有機溶媒、酸素、水などの残留物の除去や薄膜の結晶性の向上が図れた為である。
熱処理後のしきい電圧、オン/オフ比は、26.1V、1.6×105であり、熱処理前のそれぞれの値(30.6V、1×105)に比べ、しきい電圧は減少し、オン/オフ比は増加した。
ブラックの式より算出された面間隔は、2.3nmである。この結果とC60MC12の分子構造より、C60部位が面内で二次元配列化しているものと考えられる。
比較例1は、実施例1の断面図でC60誘導体層9に、[化3]に示す[6,6]-PCBMを用いたものである。それ以外の作成条件は、実施例1と同様である。
電子移動度、しきい電圧、オン/オフ比は、それぞれ、0.023cm2/Vs、27.3V、7×104である。電子移動度およびオン/オフ比の値が、実施例1の値(0.067cm2/Vs、1.6×105)と比べ大きく劣っていた。これによって、本発明の素子が、優れたn型有機FETであることが実証された。
図7に、C60誘導体層9([6,6]-PCBM)のX線回折図を示す。回折ピークが観測されなかったことから、C60誘導体層9([6,6]-PCBM)はアモルファス膜であることが明らかになった。
このことから、実施例1において、C60誘導体層9(C60MC12)が、C60部位の二次元配列化した結晶性の膜であるために、優れたn型有機FET特性を示すことが明らかになった。
実施例2は、実施例1の断面図でC60誘導体層9に、[化4]に示されるC60MC8を用いたものである。それ以外の作成条件は、実施例1と同様である。素子を真空中にて100℃で12時間加熱後に室温で測定した。
電子移動度、しきい電圧、オン/オフ比は、それぞれ、0.074cm2/Vs、31.7V、1.1×105であった。電子移動度は、実施例1よりも高い値を示した。
C60誘導体層9(C60MC8)のX線回折測定を行ったところ、鋭い回折ピークが観測されたことから、C60誘導体層9(C60MC8)は、結晶性の膜であることが明らかになった。
実施例3は、実施例1の断面図でC60誘導体層9に、[化5]に示されるC60MC16を用いたものである。それ以外の作成条件は、実施例1と同様である。
素子を真空中にて100°Cで12時間加熱後に室温で測定した。電子移動度、しきい電圧、オン/オフ比は、それぞれ、0.028cm2/Vs、25.4V、7×103であった。
C60誘導体層9(C60MC16)のX線回折測定を行ったところ、鋭い回折ピークが観測されたことから、C60誘導体層9(C60MC16)は、結晶性の膜であることが明らかになった。
また、本発明のn型有機FETをp型有機FETと同一基板上に溶液プロセスで作製することにより、安価かつ簡便なプロセスの相補型MOS(CMOS)回路として有用である。
2 ゲート電極
3 ゲート絶縁膜
4 n型有機半導体層
5 ソース電極
6 ドレイン電極
7 pドープシリコン基板
8 シリコン酸化膜
9 C60誘導体層
10 ソース電極(金電極)
11 ドレイン電極(金電極)
Claims (7)
- 溶液プロセスにより形成された結晶性の高い有機半導体層を備えていることを特徴とする電界効果型トランジスタ。
- 長鎖アルキル基を有するC60誘導体からなる結晶性の高いn型有機半導体を備えていることを特徴とする電界効果型トランジスタ。
- 長鎖アルキル基を有するC60誘導体からなる結晶性の高いn型有機半導体を備えていることを特徴とする請求項1記載の電界効果型トランジスタ。
- 溶液プロセスにより結晶性の高い有機半導体層を形成し、さらにこれを熱処理して電子移動度を向上させたことを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。
- 長鎖アルキル基を有するC60誘導体からなる結晶性の高いn型有機半導体を形成し、さらにこれを熱処理して電子移動度を向上させたことを特徴とする電界効果型トランジスタの製造方法。
- 長鎖アルキル基を有するC60誘導体からなる結晶性の高いn型有機半導体を形成し、さらにこれを熱処理して電子移動度を向上させたことを特徴とする請求項4記載の電界効果型トランジスタの製造方法。
- 有機半導体層を形成した後、真空中、50〜200°Cの温度で熱処理することを特徴とする請求項4〜6のいずれかに記載の電界効果型トランジスタの製造方法。
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