JP2006060147A - セラミック電子部品及びコンデンサ - Google Patents

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Abstract

【課題】簡単且つ安価な方法で、外部電極端子の剥離を効果的に防止できるセラミック電子部品及びコンデンサを提供する。
【解決手段】複数個のセラミック層2を積層した積層体1の表面及び/又は内部に配線導体3、4を配設するとともに、積層体1の主面に配線導体3、4と電気的に接続される外部電極端子5、6を形成してなるセラミック電子部品10において、積層体1の内部に、外部電極端子5、6との間に1層のセラミック層2を隔ててダミー配線3b、4bを埋設するとともに、ダミー配線3b、4bと外部電極端子5、6とを両者間のセラミック層2内に存在する1個または2個の金属粒子Mを介して電気的・機械的に接続したことを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、セラミック電子部品及びコンデンサに関するものである。
代表的なセラミック電子部品として、セラミックコンデンサを用いて説明する。
図5は、従来のセラミックコンデンサを示す横断面図である。
図において、セラミックコンデンサ30は、複数個の誘電体層(セラミック層)32を積層した積層体31の内部で、隣接する誘電体層32間に内部電極(配線導体)33、34を介在させるとともに、積層体31の側面に内部電極33、34の端部に電気的に接続される外部電極(外部電極端子)35、36を形成し、外部電極35、36の一端を積層体31の4つの主面に延在させている。
上記セラミックコンデンサ10によれば、外部電極35、36は、金属成分とガラス成分を含有する。そして、焼付時に、ガラス成分が外部電極35、36の金属成分と、積層体31の側面及び4つの主面との界面に集まることにより、外部電極35、36と積層体31は電気的・機械的に接続される(例えば、特許文献1参照。)。
特開2002−270457号公報
しかしながら、上記セラミックコンデンサ30によれば、外部電極35、36の内、積層体31の側面に形成された部分は、内部電極33、34と金属−金属結合により強固に接続しているが、積層体31の4つの主面に形成された部分は、積層体31との機械的接続強度が弱いため、図5に示すように、外部からの衝撃により、剥離37が生じやすいという問題点があった。
本発明は、上述の問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的は、簡単且つ安価な方法で、外部電極端子の剥離を効果的に防止できるセラミック電子部品及びコンデンサを提供することにある。
本発明は、複数個のセラミック層を積層した積層体の表面及び/又は内部に配線導体を配設するとともに、前記積層体の主面に前記配線導体と電気的に接続される外部電極端子を形成してなるセラミック電子部品において、前記積層体の内部に、前記外部電極端子との間に1層のセラミック層を隔ててダミー配線を埋設するとともに、該ダミー配線と前記外部電極端子とを両者間のセラミック層内に存在する1個または2個の金属粒子を介して電気的・機械的に接続したことを特徴とするものである。
また、前記金属粒子を介した機械的接続が、前記金属粒子と前記ダミー配線中の金属成分との焼結、並びに前記金属粒子と前記外部電極端子中の金属成分との焼結によってなされていることを特徴とするものである。
さらに、前記セラミック層内に存在する金属粒子の粒径Aが、前記ダミー配線と前記外部電極の延在部の間に位置するセラミック層の厚みBに対し100%〜200%に設定されていることを特徴とするものである。
またさらに、複数個の誘電体層を積層した積層体の内部で、隣接する誘電体層間に内部電極を介在させるとともに、前記積層体の側面に前記内部電極の端部に電気的に接続される外部電極を形成し、該外部電極の一端を前記積層体の主面に延在させてなるコンデンサにおいて、前記積層体の内部に、前記外部電極の延在部との間に1層の誘電体層を隔ててダミー電極を埋設するとともに、該ダミー電極と前記外部電極の延在部とを両電極間の誘電体層内に存在する1個または2個の金属粒子を介して電気的・機械的に接続したことを特徴とするものである。
さらにまた、前記金属粒子を介した機械的接続が、前記金属粒子と前記ダミー電極中の金属成分との焼結、並びに記金属粒子と前記外部電極中の金属成分との焼結によってなされていることを特徴とするものである。
そして、前記誘電体層内に存在する金属粒子の粒径Aが、前記ダミー電極と前記外部電極の延在部の間に位置する誘電体層の厚みBに対し100%〜200%に設定されていることを特徴とするものである。
本発明によれば、積層体の内部に、外部電極端子との間に1層のセラミック層を隔ててダミー配線を埋設するとともに、ダミー配線と外部電極端子とを両者間のセラミック層内に存在する1個または2個の金属粒子を介して電気的・機械的に接続してなる。
すなわち、外部電極端子は、積層体主面において、積層体内に埋設した金属粒子と強固な金属−金属結合により接続しているため、外部電極端子と積層体主面間の機械的接続強度を増大させることができ、外部電極端子の剥離を防止できる。
また、金属粒子がダミー配線と接続しているため、金属粒子が1層のセラミック層内で確実に固定され、このことによっても、外部電極端子の剥離を効果的に防止できる。さらに、ダミー配線と外部電極端子の間のセラミック層と、ダミー配線間の剥離も防止できる。
またさらに、セラミック層内に1個または2個の金属粒子が存在するため、金属粒子全体として不定形状となり、外部衝撃などによりセラミック層から抜け落ちることがない。
さらにまた、金属粒子を介した機械的接続が、金属粒子とダミー配線中の金属成分との焼結、並びに金属粒子と外部電極端子中の金属成分との焼結によってなされているため、通常の製造ラインを変更することなく、上記機械的接続を実現できるとともに、金属粒子、ダミー配線中及び外部電極端子は一体化しており、このことによっても、外部電極端子の剥離を効果的に防止できる。
またさらに、セラミック層内に存在する金属粒子の粒径Aが、ダミー配線と外部電極の延在部の間に位置するセラミック層の厚みBに対し100%〜200%に設定されていることが望ましい。すなわち、上記金属粒子の平均粒径Aが、セラミック層の厚みBに対し100%以上であるため、金属粒子がセラミック層を貫通し、ダミー配線と外部電極端子を確実に接続することができる。一方、上記金属粒子の平均粒径Aが、セラミック層の厚みBに対し200%以下であるため、製造時に、スクリーン印刷等によりダミー配線を精度良く形成することができるとともに、積層体となるセラミック層及び配線導体を加圧加熱する際に、セラミック層間の密着性の低下が問題になることはない。
そして、上記理由から、本発明は、複数個の誘電体層を積層した積層体の内部で、隣接する誘電体層間に内部電極を介在させるとともに、積層体の側面に内部電極の端部に電気的に接続される外部電極を形成し、外部電極の一端を積層体の主面に延在させてなるコンデンサに特に好適である。
以下、本発明を添付図面に基づいて詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るセラミックコンデンサを示す図であり、(a)は外観斜視図、(b)は横断面図である。図2は、図1のセラミックコンデンサの製造方法を示す断面図である。
図において、セラミックコンデンサ10は、複数個の誘電体層(セラミック層)2を積層した積層体1の内部で、隣接する誘電体層2間に内部電極3a、4aを介在させるとともに、積層体1の側面に内部電極3a、4aの端部に電気的に接続される外部電極(外部電極端子)5、6を形成し、外部電極5、6の一端を積層体1の4つの主面に延在させている。
誘電体層2は、例えば、BaTiO、CaTiO、SrTiO等を主成分とする誘電体材料によって1層あたり0.5μm〜4μmの厚みに形成されており、かかる誘電体層2を、セラミックコンデンサ10の実装面に垂直な方向に、例えば20層〜2000層だけ積層することによって積層体1が形成される。
内部電極3a、4aは、Ni、Cu、Cu−Ni、Ag−Pd等の金属を主成分とする導体材料によって、例えば0.5μm〜2.0μmの厚みに形成されている。
外部電極5、6は、Ni、Cu、Cu−Ni、Ag等の金属を主成分とする導体材料及びガラス成分によって、積層体1の一対の側面から夫々隣接する4つの主面に回り込むように形成されている。
本発明において重要なことは、積層体1の内部に、外部電極5、6の延在部との間に1層の誘電体層2を隔ててダミー電極3b、4bを埋設するとともに、ダミー電極3b、4bと外部電極5、6の延在部とを両電極間の誘電体層2内に存在する1個または2個の金属粒子Mを介して電気的・機械的に接続する点である。図中、内部電極3a、4aとダミー電極3b、4bを合わせて配線導体3、4としている。ダミー電極3b、4bは、内部電極3a、4aと同じ導体材料であっても良く、異なる導体材料であっても良い。また、金属粒子Mは、ダミー電極3b、4b中の他の小さな金属粒子(以下、金属微粒子という。)mと同じ金属でも良く、異なる金属でも良い。さらに図中、ダミー電極3b、4bは積層体1の一方の主面側に2層配設されているが、1層以上であれば何層でも良い。ダミー電極3b、4bの数が多い程、外部電極5、6と積層体1主面間の機械的接続強度を増大させることができ、外部電極5、6の剥離を防止することができる。また図中、隣接するダミー電極(3b−3b、4b−4b)間に跨るように複数個の金属粒子Mを埋設しているが、このような金属粒子Mは埋設しなくても良い。
さらに、金属粒子Mを介した機械的接続が、金属粒子Mとダミー電極3b、4b中の金属成分との焼結、並びに金属粒子Mと外部電極5、6中の金属成分との焼結によってなされている。
そして、誘電体層2内に存在する金属粒子Mの粒径Aが、ダミー電極3b、4bと外部電極5、6の延在部の間に位置する誘電体層2の厚みBに対し100%〜200%に設定されている。ここで、金属粒子Mの粒径Aは、焼成後の積層体1の破断面をケミカルエッチングした後、金属顕微鏡により観察することで確認できる。
以下、本発明のセラミックコンデンサ10の製造方法について説明する。なお、図中の各符号は焼成の前後で区別しないこととする。
まず、BaTiO、CaTiO、SrTiO等を主成分とする誘電体材料の粉末に適当な有機溶剤、ガラスフリット、有機バインダ等を添加・混合して泥漿状のセラミックスラリを作製するとともに、得られたセラミックスラリを従来周知のドクターブレード法等による、所定形状、所定厚みの誘電体層となるセラミックグリーンシート2を形成する。
次に、セラミックグリーンシート2上に、Ni、Cu、Cu−Ni、Ag−Pd等の金属材料の粉末に適当な有機溶剤、有機バインダ等を添加・混合して得た導体ペーストを従来周知のスクリーン印刷等によって所定パターンに塗布し、配線導体となる導体パターン3、4を形成する。このとき、図2(a)に示すように、ダミー電極となる導体ペースト3b、4b中に、粒径が比較的大きな金属粒子Mを混合しておく。具体的には、セラミックグリーンシート2の厚みが0.5μm〜1μmである場合、粒径の大きな金属粒子Mの平均粒径は0.5μm〜2μm、その他の小さな金属粒子(以下、金属微粒子という。)mの平均粒径は0.1μm〜0.3μmの範囲にあることが望ましい。一方、セラミックグリーンシート2の厚みが1μm〜2μmである場合、金属粒子Mの平均粒径は1〜4μm、その他の金属微粒子mの平均粒径は0.3μm〜0.5μmの範囲にあることが望ましい。また、セラミックグリーンシート2の厚みが2μm〜3μmである場合、金属粒子Mの平均粒径は2μm〜6μm、金属微粒子mの平均粒径は0.4μm〜0.6μmの範囲にあることが望ましい。そして、セラミックグリーンシート2の厚みが3μm〜4μmである場合、金属粒子Mの平均粒径は3μm〜8μm、金属微粒子mの平均粒径は0.5μm〜0.1μmの範囲にあることが望ましい。
次に、図2(b)に示すように、導体パターン3、4が形成されたセラミックグリーンシート2を所定の枚数だけ積層する。
次に、積層された導体パターン3、4及びセラミックグリーンシート2を加圧・加熱することにより、大型積層体11が得られる。このとき、図2(c)に示すように、ダミー電極となる導体パターン3b、4b中に、金属粒子Mが含有されるため、金属粒子Mがセラミックグリーンシート2を突き破って、大型積層体11表面に露出したり、隣接するダミー電極となる導体パターン(3b−3b、4b−4b)に跨る。また、金属粒子Mにより突き破られるセラミックグリーンシート2は、その他のセラミックグリーンシート2に比べ、やわらかいこと、あるいは熱可塑性のセラミックグリーンシート2であることが望ましい。
次に、大型積層体11を所定の寸法で切断することにより、未焼成状態の積層体1が得られる。
次に、得られた未焼成状態の積層体1を例えば1100℃〜1400℃の温度で焼成することにより、積層体1が得られる。このとき、焼成後の積層体1をバレル研磨することにより、積層体1内に埋設した1個または2個の金属粒子Mを積層体1の表面に露出させることができる。
次に、積層体1の一対の側面に外部電極5、6を形成する。すなわち、Ni、Cu、Cu−Ni、Ag等の金属材料の粉末に適当なガラス成分、有機溶剤、有機バインダ等を添加・混合して得た導体ペーストを従来周知のディップ法、スクリーン印刷等によって積層体1の一対の側面に塗布後、700℃〜900℃で焼付けを行い、外部電極5、6を得る。必要に応じて、外部電極5、6の表面に、Niメッキ層、Snメッキ層、半田メッキ層等の金属メッキ層(図示せず)により被覆しても良い。
このようにして、図1に示すようなセラミックコンデンサ10が得られる。
かくして、本発明によれば、積層体1の内部に、外部電極5、6との間に1層の誘電体層2を隔ててダミー電極3b、4bを埋設するとともに、ダミー電極3b、4bと外部電極5、6とを両者間の誘電体層2内に存在する1個または2個の金属粒子Mを介して電気的・機械的に接続してなるため、外部電極5、6は、積層体1主面において、積層体1内に埋設した金属粒子Mと強固な金属−金属結合により接続していることから、外部電極5、6と積層体1主面間の機械的接続強度を増大させることができ、外部電極5、6の剥離37を防止できる。
また、金属粒子Mがダミー電極3b、4bと接続しているため、金属粒子Mが1層の誘電体層2内で確実に固定され、このことによっても、外部電極5、6の剥離37を効果的に防止できる。さらに、ダミー電極3b、4bと外部電極5、6の間の誘電体層2と、ダミー電極3b、4b間の剥離も有効に防止することができる。
またさらに、誘電体層2内に1個または2個の金属粒子Mが存在するため、金属粒子全体として不定形状となり、外部衝撃などにより誘電体層2から抜け落ちることはない。
さらにまた、金属粒子Mを介した機械的接続が、金属粒子Mとダミー電極3b、4b中の金属微粒子mとの焼結、並びに金属粒子Mと外部電極5、6中の金属微粒子mとの焼結によってなされているため、製造ラインを大幅に変更することなく、上記機械的接続を実現できるとともに、金属粒子M、ダミー電極3b、4b中及び外部電極5、6は一体化しており、このことによっても、外部電極5、6の剥離を有効に防止することができる。
またさらに、誘電体層2内に存在する金属粒子Mの粒径Aが、ダミー電極3b、4bと外部電極5、6の延在部の間に位置する誘電体層2の厚みBに対し100%〜200%に設定されていることが望ましい。すなわち、上記金属粒子Mの平均粒径Aが、誘電体層2の厚みBに対し100%以上に相当するため、金属粒子Mが誘電体層2を貫通し、ダミー電極3b、4bと外部電極5、6を確実に接続することができる。一方、上記金属粒子Mの平均粒径Aが、誘電体層2の厚みBに対し200%以下であるため、製造時に、スクリーン印刷等によりダミー電極となる導体パターン3b、4bを精度良く形成することができるとともに、大型積層体11となるセラミックグリーンシート2及び導体パターン3、4を加圧加熱する際に、セラミックグリーンシート2間の密着性が低下するのを有効に防止することもできる。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。
例えば、上記実施の形態では、セラミック電子部品としてセラミックコンデンサを用いて説明したが、本発明は、積層圧電部品、回路基板、半導体部品等、あらゆるセラミック電子部品に用いることができる。
図3は、本発明の他の実施形態に係るセラミックコンデンサを示す横断面図である。同図によれば、積層体1の主面にもダミー電極3b、4bが形成されている。そして、外部電極5、6は、積層体1の主面に形成されたダミー電極3b、4b、及び積層体1の側面における内部電極3a、4aの露出部を起点として金属メッキ膜を析出させるとともに、これらの析出物同士を相互に連結させることによって一体的に形成される。この場合、外部電極5、6の厚み精度が向上するとともに、積層体1を無電解メッキ用のメッキ液に所定時間浸漬しておくだけの簡単な加工によって外部電極5、6を所望するパターンに形成することができ、セラミックコンデンサ10の生産性向上に供することが可能である。またこのとき、積層体1の主面に形成されたダミー電極3b、4bとの間に1層の誘電体層2を隔てて、他のダミー電極3b、4bを埋設するとともに、これらのダミー電極3b、4b同士を両者間の誘電体層2内に存在する複数の金属粒子Mを焼結させて接続しているため、積層体1主面に形成されたダミー電極3b、4bが積層体1の主面から剥離するのを有効に防止することができる。なお、外部電極5、6と積層体1の主面に形成されたダミー電極3b、4b間は、金属−金属結合により、強固に結合している。またこのとき、金属粒子となる金属粒子Mは、積層体1の主面に形成されたダミー電極となる導体パターン3b、4bと、1層の誘電体層2を隔てた他のダミー電極となる導体パターン3b、4bの内、少なくとも一方に含有されていれば良く、両方に含有されても良い。さらに、図3において、導体ペーストを塗布後焼き付けることにより外部電極5、6を形成しても良い。
図4は、本発明の他の実施形態に係るセラミック電子部品を示す横断面図である。図に示すように、本発明のセラミック電子部品10は、回路基板10にも適用できる。また、外部電極端子5は、積層体1側面から離間させても良い。さらに、外部電極端子5やダミー配線3bより寸法の大きいダミー配線4bを埋設するとともに、ダミー配線3bとダミー配線4bとを両者間のセラミック層2内に存在する金属粒子Mを介して電気的・機械的に接続するようにしても良い。このことにより、外部電極端子5と積層体1主面間の機械的接続強度をさらに増大させることができ、外部電極端子5の剥離をさらに効果的に防止できる。なおこのとき、ダミー配線4bとなる導体ペースト中に金属粒子Mを含有すると、ダミー配線3bの外側に金属粒子Mがはみ出てしまうため、ダミー配線3bとダミー配線4bは、ダミー配線3bとなる導体ペースト中に含有される金属粒子Mにより接続されるようにする。また図中、3aは内部配線導体、7はビアホール導体、8は他の電子部品である。
そして、ダミー電極3b、4b中に、誘電体層2と略同一の誘電体成分が含有されるようにしても良い。このことによっても、誘電体層2とダミー電極3b、4b間の剥離を防止できる。
本発明の一実施形態に係るセラミックコンデンサを示す図であり、(a)は外観斜視図、(b)は横断面図である。 図1のセラミックコンデンサの製造方法を説明するための断面図である。 本発明の他の実施形態に係るセラミックコンデンサを示す横断面図である。 本発明の他の実施形態に係るセラミック電子部品を示す横断面図である。 従来のセラミックコンデンサを示す横断面図である。
符号の説明
10・・・・・・セラミック電子部品(コンデンサ)
1・・・・・・・積層体
2・・・・・・・誘電体層(セラミック層)
3、4・・・・・配線導体
3a、4a・・・内部電極
3b、4b・・・ダミー配線(ダミー電極)
5、6・・・・・外部電極(外部電極端子)
M・・・・・・・金属粒子

Claims (6)

  1. 複数個のセラミック層を積層した積層体の表面及び/又は内部に配線導体を配設するとともに、前記積層体の主面に前記配線導体と電気的に接続される外部電極端子を形成してなるセラミック電子部品において、
    前記積層体の内部に、前記外部電極端子との間に1層のセラミック層を隔ててダミー配線を埋設するとともに、該ダミー配線と前記外部電極端子とを両者間のセラミック層内に存在する1個または2個の金属粒子を介して電気的・機械的に接続したことを特徴とするセラミック電子部品。
  2. 前記金属粒子を介した機械的接続が、前記金属粒子と前記ダミー配線中の金属成分との焼結、並びに前記金属粒子と前記外部電極端子中の金属成分との焼結によってなされていることを特徴とする請求項1に記載のセラミック電子部品。
  3. 前記セラミック層内に存在する金属粒子の粒径Aが、前記ダミー配線と前記外部電極の延在部の間に位置するセラミック層の厚みBに対し100%〜200%に設定されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のセラミック電子部品。
  4. 複数個の誘電体層を積層した積層体の内部で、隣接する誘電体層間に内部電極を介在させるとともに、前記積層体の側面に前記内部電極の端部に電気的に接続される外部電極を形成し、該外部電極の一端を前記積層体の主面に延在させてなるコンデンサにおいて、
    前記積層体の内部に、前記外部電極の延在部との間に1層の誘電体層を隔ててダミー電極を埋設するとともに、該ダミー電極と前記外部電極の延在部とを両電極間の誘電体層内に存在する1個または2個の金属粒子を介して電気的・機械的に接続したことを特徴とするコンデンサ。
  5. 前記金属粒子を介した機械的接続が、前記金属粒子と前記ダミー電極中の金属成分との焼結、並びに記金属粒子と前記外部電極中の金属成分との焼結によってなされていることを特徴とする請求項4に記載のコンデンサ。
  6. 前記誘電体層内に存在する金属粒子の粒径Aが、前記ダミー電極と前記外部電極の延在部の間に位置する誘電体層の厚みBに対し100%〜200%に設定されていることを特徴とする請求項4または請求項5に記載のコンデンサ。
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