JP2006037192A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006037192A5 JP2006037192A5 JP2004221649A JP2004221649A JP2006037192A5 JP 2006037192 A5 JP2006037192 A5 JP 2006037192A5 JP 2004221649 A JP2004221649 A JP 2004221649A JP 2004221649 A JP2004221649 A JP 2004221649A JP 2006037192 A5 JP2006037192 A5 JP 2006037192A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target material
- phase
- alloy target
- magnetic recording
- εco
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 15
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 3
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004221649A JP4427792B2 (ja) | 2004-07-29 | 2004-07-29 | 磁気記録媒体用Ｃｏ合金ターゲット材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004221649A JP4427792B2 (ja) | 2004-07-29 | 2004-07-29 | 磁気記録媒体用Ｃｏ合金ターゲット材 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006037192A JP2006037192A (ja) | 2006-02-09 |
| JP2006037192A5 true JP2006037192A5 (enExample) | 2007-07-26 |
| JP4427792B2 JP4427792B2 (ja) | 2010-03-10 |
Family
ID=35902499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004221649A Expired - Lifetime JP4427792B2 (ja) | 2004-07-29 | 2004-07-29 | 磁気記録媒体用Ｃｏ合金ターゲット材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4427792B2 (enExample) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5248000B2 (ja) * | 2006-09-11 | 2013-07-24 | 山陽特殊製鋼株式会社 | ＣｏＷ系ターゲット材およびその製造方法 |
| US20080170959A1 (en) * | 2007-01-11 | 2008-07-17 | Heraeus Incorporated | Full density Co-W magnetic sputter targets |
| JP2015193909A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-11-05 | Jx日鉱日石金属株式会社 | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びにスパッタリング法で形成した膜 |
| WO2025229801A1 (ja) * | 2024-04-30 | 2025-11-06 | Ｊｘ金属株式会社 | スパッタ用部材 |
-
2004
- 2004-07-29 JP JP2004221649A patent/JP4427792B2/ja not_active Expired - Lifetime
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SG142249A1 (en) | Co-fe-zr based alloy sputtering target material and process for production thereof | |
| JP6161991B2 (ja) | Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材 | |
| SG144817A1 (en) | Re-based alloys usable as deposition targets for forming interlayers in granular perpendicular magnetic recording media & media utilizing said alloys | |
| JP5305137B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体のＮｉ合金中間層を形成するためのＮｉ−Ｗ系焼結ターゲット材 | |
| TW201239922A (en) | Soft magnetic alloy for magnetic recording, sputtering target material and magnetic recoding medium | |
| JP5477724B2 (ja) | 軟磁性膜用Ｃｏ−Ｆｅ系合金、軟磁性膜および垂直磁気記録媒体 | |
| JP2006037192A5 (enExample) | ||
| JP2006265653A (ja) | Ｆｅ−Ｃｏ基合金ターゲット材およびその製造方法 | |
| JP2008115461A (ja) | Ｃｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 | |
| SG135085A1 (en) | Ruthenium alloy magnetic media and sputter targets | |
| JP2008260969A5 (enExample) | ||
| EP1662018A3 (en) | Carbon containing sputter target alloy compositions | |
| JP2006004611A (ja) | スパッタターゲット、磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2013040377A (ja) | 垂直磁気記録媒体における軟磁性薄膜層用合金およびスパッタリングターゲット材 | |
| JP5631659B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体 | |
| JP6431496B2 (ja) | 磁気記録媒体のシード層用合金、スパッタリングターゲット材および磁気記録媒体 | |
| JP5385018B2 (ja) | 高スパッタ率を有する軟磁性膜作製用スパッタリングターゲット材用原料粉末およびスパッタリングターゲット材 | |
| US20050274221A1 (en) | Enhanced sputter target alloy compositions | |
| JP2007299505A (ja) | 磁気媒体における軟磁性下地層及び軟磁性合金を主成分とするスパッタターゲット | |
| TWI422689B (zh) | And an alloy for a soft magnetic film layer of a vertical magnetic recording medium | |
| JP6998431B2 (ja) | 磁気記録媒体の軟磁性層用Ｃｏ系合金 | |
| JP6302153B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体内の軟磁性薄膜層及び垂直磁気記録媒体 | |
| JP2010150591A (ja) | 軟磁性膜用Ｃｏ−Ｆｅ系合金 | |
| JP2011068985A (ja) | 軟磁性膜用Ｃｏ−Ｆｅ系合金および軟磁性膜形成用Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材 | |
| JP4427792B2 (ja) | 磁気記録媒体用Ｃｏ合金ターゲット材 |