JP2006021491A5 - - Google Patents
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Claims (6)
- 少なくとも臨界表面張力の異なる部位を有する濡れ性変化層と、
前記濡れ性変化層上に形成される導電性材料とを有する積層構造体であって、
前記濡れ性変化層は、当該臨界表面張力の異なる部位のうち高表面エネルギー部のみに導電性材料が形成されることを特徴とする積層構造体。 - 前記臨界表面張力の異なる部位における臨界表面張力の差が、１０ｍＮ／ｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の積層構造体。
- 前記濡れ性変化層は、少なくとも第１の材料と第２の材料からなり、
前記第１の材料が前記第２の材料より臨界表面張力が大きく変化する材料であり、前記第２の材料が前記第１の材料より電気絶縁性の高い材料であることを特徴とする請求項１に記載の積層構造体。
- 前記濡れ性変化層は、側鎖に疎水性基を含む高分子材料であることを特徴とする請求項１に記載の積層構造体。
- 前記濡れ性変化層の厚さは、３０ｎｍ〜３μｍであることを特徴とする請求項１に記載の積層構造体。
- 少なくとも第1の導電性材層上に濡れ性変化層を成膜する工程と、
前記濡れ性変化層の一部分にエネルギーの付与によって臨界表面張力の異なるパターンを形成する工程と、
前記臨界表面張力の異なるパターンのうち、高表面エネルギー部に第2の導電性材料を付与することで二層に形成された電極間に、層間絶縁膜を形成する工程とを有することを特徴とする積層構造体の製造方法。
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