JP2006012734A - 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板 - Google Patents

導電性ペースト及びこれを用いた多層基板 Download PDF

Info

Publication number
JP2006012734A
JP2006012734A JP2004192053A JP2004192053A JP2006012734A JP 2006012734 A JP2006012734 A JP 2006012734A JP 2004192053 A JP2004192053 A JP 2004192053A JP 2004192053 A JP2004192053 A JP 2004192053A JP 2006012734 A JP2006012734 A JP 2006012734A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive paste
weight
melting point
parts
multilayer substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004192053A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4468750B2 (ja
Inventor
Masanori Miyamoto
真憲 宮本
Hiroaki Umeda
裕明 梅田
Yasushi Iwai
靖 岩井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tatsuta System Electronics Co Ltd
Original Assignee
Tatsuta System Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tatsuta System Electronics Co Ltd filed Critical Tatsuta System Electronics Co Ltd
Priority to JP2004192053A priority Critical patent/JP4468750B2/ja
Publication of JP2006012734A publication Critical patent/JP2006012734A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4468750B2 publication Critical patent/JP4468750B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Active legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

【課題】 耐湿性が極めて高く、良好な導電性が長期間維持される硬化物が得られ、かつポットライフの長い導電性ペースト及びこれを用いた多層基板を提供する。
【解決手段】 (A)エチレングリコール変性エポキシ樹脂を含む樹脂成分100重量部に対し、(B)融点180℃以下の低融点金属少なくとも1種と融点800℃以上の高融点金属少なくとも1種とを含む、2種以上の金属からなる金属粉1300〜2400重量部、(C)硬化剤0.5〜40重量部、及び(D)フラックス0.3〜110重量部を含有してなる導電性ペーストを用いる。
【選択図】 図1

Description

本発明は導電性ペーストに関するものであり、より詳細には、基板のホール充填、導電性接着剤、電極形成、部品実装、電磁波シールド、導電性バンプ形成等の用途に用いられる導電性ペースト、及びこの導電性ペーストを用いた多層基板に関する。
基板のホール充填等に用いられる導電性ペーストとしては、熱硬化性樹脂に導電性フィラーを添加したものが一般的であり、このようなペーストにおいては、添加した導電性フィラー同士が互いに接触することで導電性が得られるタイプのものと、導電性フィラーが高融点導電性フィラーに低融点フィラーをブレンドしたものか、もしくは低融点フィラーのみからなり、加熱によりフィラー同士が繋がり(メタライズ化)、導電性を発現するタイプ(以下、これを「メタライズタイプ」という場合がある)との2種類がある。
フィラー同士が互いに接触し、導電性を発現するペーストでは、一般的にエポキシ樹脂をベースとした導電性ペーストが開発されているが、多層基板用途で高信頼性を得るためには、ペースト充填後、プレス工程が必要であり、プレス圧のバラツキ若しくは基材の選択により導電性が大きくばらついてしまうという不具合があった。また、プレス工程が不可能な用途、すなわち導電性接着剤や電極形性、部品用途、電磁波シールド等には使用できないという短所があった。さらにエポキシ樹脂は保存安定性に欠け、ポットライフが短いという問題もあった。
これに対し、メタライズタイプのペーストでは、上記したプレス工程なしでも良好な導電性及び高い信頼性が得られる。しかし、このタイプのペーストはフラックスの添加が必要であり、フラックスがエポキシ樹脂の硬化促進剤として働き、ポットライフを短くさせるという問題が生じる。これを解決するために、樹脂成分としてアクリレート樹脂とエポキシ樹脂を併用し、かつ硬化剤としてフェノール系硬化剤を使用することが開示されている(国際公開第03/105160号パンフレット)。このペーストにおいては、アクリレート樹脂は添加されたフェノール系硬化剤が重合禁止剤として働くために、常温ではほとんど硬化しない。一方、このペーストを加熱すると、まずエポキシ樹脂がフェノール系硬化剤と反応し、次に重合禁止剤を失ったアクリレート樹脂が反応することにより硬化が進行する。従って良好な導電性を有し、かつポットライフが向上したペーストを得ることが可能となる。
しかしながら、このペーストはマザーボード用途については高い信頼性を得ることが可能であるが、パッケージ用途を想定した場合には、長期信頼性、特に耐湿性が充分とは言えなかった。その原因は、エポキシ樹脂にブレンドするアクリレート樹脂が分子骨格にエステル結合をもつため、湿度の影響を受け易いことにあると思われる。これに対し、例えばベンゼン環等の骨格を導入することにより吸湿性は改善されるが、粘度も上昇してしまうという問題が生じる。従って、長期に亘り高い耐湿性が要求される用途において、樹脂成分として吸湿性を有するアクリレート樹脂を用いずに得られ、かつポットライフの長い導電性ペーストが求められていた。
これに関し、ポリエチレングリコール骨格を導入することにより硬化物の柔軟性と耐湿性を向上させたエポキシ樹脂が提案されている(特開2004−156024号公報)。この樹脂は反応性、硬化収縮性が低いため、導電性ペースト用の樹脂として使用されることは極めてまれであるが、出願人はこのエポキシ樹脂を用いることにより、アクリレート樹脂を用いずに、ポットライフの向上した導電性ペーストを製造し得ることを見出した。しかしながら、メタライズタイプの導電性ペーストの導電性、粘度、耐湿性、ポットライフ等の諸特性は、樹脂成分以外に、金属粉、硬化剤、フラックスの種類及びこれらの配合量等によって大きく変化し得るものであり、このエポキシ樹脂を用いて硬化物の耐湿性に優れ、かつポットライフの長いメタライズタイプの導電性ペーストを得るための具体的手段は、未だ開示されていない。
国際公開第03/105160号パンフレット 特開2004−156024号公報
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、耐湿性が極めて高く、良好な導電性が長期間維持される硬化物が得られ、かつポットライフの長い導電性ペーストであって、特にホール充填用に適した粘度を有する導電性ペーストを提供することを目的とする。そしてこれを用いた長期信頼性に優れた多層基板を提供することを目的とする。
本発明の導電性ペーストは、上記の課題を解決するために、(A)エチレングリコール変性エポキシ樹脂を含む樹脂成分100重量部に対し、(B)融点180℃以下の低融点金属少なくとも1種と融点800℃以上の高融点金属少なくとも1種とを含む、2種以上の金属からなる金属粉1300〜2400重量部、(C)硬化剤0.5〜40重量部、及び(D)フラックス0.3〜110重量部を含有してなるものとする。
上記(A)成分としては、エチレングリコール変性エポキシ樹脂を20〜70重量%含有するものを使用することができる。
また、上記(B)成分の低融点金属としては、インジウム単独、又は錫、鉛、ビスマス及びインジウムからなる群から選択された1種又は2種以上の合金が使用できる。
さらに上記(C)成分としては、イミダゾール系硬化剤、カチオン系硬化剤及びフェノール系硬化剤からなる群から選択された1種又は2種以上を使用することができる。
次に、本発明の多層基板は、複数の導電層と絶縁層とが交互に積層されてなる多層基板であって、前記導電層間の導通が多層基板の厚み方向に設けられたホールに充填された導電性ペーストによって得られる多層基板において、このホールに本発明の導電性ペーストが充填され、加熱されたことにより、導電性ペースト中に含有される金属粉が溶融して相互に一体化し、合金化したものとする。
本発明によれば、良好な導電性を有し、耐湿性(長期信頼性)が顕著に向上した硬化物が得られ、かつポットライフも長い導電性ペーストが得られる。
また、硬化剤としてフェノール系硬化剤が必須ではないので、硬化剤の選択の幅が広がるという利点もある。
本発明の導電性ペーストをホール充填に用いた多層基板は、ホール内における導電層端面との接合の信頼性が向上し、高精度のパターン形成が可能となる。
本発明の導電性ペーストは、上記のように、(A)エチレングリコール変性エポキシ樹脂を含む樹脂成分100重量部(以下、単に部という)に対し、(B)低融点金属と高融点金属を含む2種以上の金属からなる金属粉1300〜2400部、(C)硬化剤0.5〜40部、及び(D)フラックス0.3〜110部を必須成分として含有してなるものであり、加熱により(A)樹脂成分が硬化するとともに、(B)金属粉に含まれる2種以上の金属が融解して一体化(メタライズ化)する。
以下、本発明の導電性ペーストとこれを用いた多層基板の実施態様について詳述するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、本明細書においては、硬化した後の導電性ペーストも、便宜上、「導電性ペースト」と呼ぶ場合がある。
本発明の導電性ペーストにおける(A)樹脂成分はエチレングリコール変性エポキシ樹脂を含むものであり、本発明で用いるエチレングリコール変性エポキシ樹脂とは、次の化学式で示す骨格を有するものである。
Figure 2006012734
式中、Xはエチレンオキシエチル基、ジ(エチレンオキシ)エチル基、トリ(エチレンオキシ)エチル基であり、nは1〜5の自然数である。
このエチレングリコール変性エポキシ樹脂は、例えばトリエチレングリコールとビスフェノールAとを反応させて得られるフェノール樹脂をグリシジルエーテル化することにより得られる。
エチレングリコール変性エポキシ樹脂は、(A)樹脂成分中に20〜70重量%含有することが好ましく、40〜60重量%含有することがより好ましい。エチレングリコール変性エポキシ樹脂が上記範囲外であると、所望の粘度及びポットライフを有する導電性ペーストが得られ難くなる。また、エチレングリコール変性エポキシ樹脂が少ないと、硬化時に温度を急上昇させないと良好な導電性が得られ難いという問題が生じ、用途が限定される。
上記エチレングリコール変性エポキシ樹脂は、必要に応じて他の種類のエポキシ樹脂と併用することができ、エポキシ樹脂は、分子内にエポキシ基を1個以上有するものであればよく、2種以上を併用することもできる。具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
また、樹脂改質剤として、アルキド樹脂、メラミン樹脂、キシレン樹脂等を併用することもできる。
次に、本発明における(B)金属粉は、融点が180℃以下の低融点金属1種以上と融点が800℃以上の高融点金属1種以上とを含む2種以上の金属が何らかの形で含まれており、加熱によりメタライズ化が起こるものである。上記2種以上の金属の存在形態は限定されないが、例えば、ある種の金属粉を他の種類の金属からなる金属粉と混合したもの、又はある種の金属粉を他の種類の金属でコートしたもの、あるいはこれらを混合したものが挙げられる。
低融点金属及び高融点金属としては、単一の金属からなるもののほか、2種以上の金属の合金を使用することもできる。低融点金属の好ましい例としては、インジウム(融点:156℃)単独、又は錫(融点:231℃)、鉛(融点:327℃)、ビスマス(融点:271℃)、及びインジウムのうちの1種又はこれらのうちの2種以上を合金にして融点180℃以下にしたものが挙げられる。また、高融点金属の好ましい例としては、金(融点:1064℃)、銀(融点:961℃)、銅(融点:1083℃)、又はニッケル(融点:1455℃)のうちの1種又は2種以上の合金が挙げられる。
金属粉は、その形状には制限がないが、樹枝状、球状、リン片状等の従来から用いられているものが使用できる。また、粒径も制限されないが、通常は平均粒径で1〜50μm程度である。
上記金属粉の配合量は、(A)樹脂成分100部に対して1300〜2400部であり、より好ましくは1600〜2000部である。1300部未満であると充分な長期信頼性が得られない。また、2400部を超えるとペーストの粘度が高くなりすぎ、実際上使用不可能となる。また、上記した低融点金属と高融点金属の配合比(重量比、以下同様)は、8:2〜2:8の範囲内であるのが好ましい。
次に(C)硬化剤は、所望の特性が得られるように適宜選択され、使用可能な例としてはイミダゾール系硬化剤、カチオン系硬化剤、及びフェノール系硬化剤が挙げられるが、これらに分類されないものにも使用可能なものがある。硬化剤は2種以上を併用することもできる。
イミダゾール系硬化剤の例としては、イミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト等が挙げられる。
カチオン系硬化剤の例としては、三フッ化ホウ素のアミン塩、P−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルイオドニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウム、テトラ−n−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート等に代表されるオニウム系化合物が挙げられる。
フェノール系硬化剤の例としては、ノボラックフェノール、ナフトール系化合物等が挙げられる。
硬化剤の使用量は、樹脂100部に対して0.5〜40部が好ましい。硬化剤の量が0.5部より少ないと硬化不良となり、その結果、良好な導電性、物性が得られない。一方、40部を超えると、ポットライフが短くなったり、過剰の硬化剤により導電性や物性が阻害されるという問題が生じる可能性がある。
さらに、(D)成分であるフラックスは、上記金属粉のメタライズ化を促進するものであり、例としては、塩化亜鉛、乳酸、クエン酸、オレイン酸、ステアリン酸、グルタミン酸、安息香酸、シュウ酸、グルタミン酸塩酸塩、アニリン塩酸塩、臭化セチルピリジン、尿素、ヒドロキシエチルラウリルアミン、ポリエチレングリコールラウリルアミン、オレイルプロピレンジアミン、トリエタノールアミン、グリセリン、ヒドラジン、ロジン等が挙げられる。これらの中では、室温付近の反応性が低く160℃付近に活性温度を有するため、ヒドロキシエチルラウリルアミンが好ましい。フラックスの使用量は、樹脂100部に対して0.3〜110部である。フラックスが0.3部より少ない場合は金属粉のメタライズ化が十分に進行せず、一方、110部より多い場合は、密着性や物性に悪影響を及ぼす可能性がある。
本発明の導電性ペーストは、上記した各成分を所定量配合して十分混合することにより得られる。
なお、本発明の導電性ペーストには、従来から同種の導電性ペーストに添加されることのあった添加剤を、本発明の目的から外れない範囲内で添加することもできる。その例としては、消泡剤、粘度調整剤、粘着剤等が挙げられる。
上記により得られる本発明の導電性ペーストは、一定条件下で加熱することにより、樹脂が硬化するとともに、金属粉が融解してメタライズ化するので、多層基板のホール充填に用いた場合に、金属粉同士とが繋がって一体化するとともに、金属粉とホール内の導電層端面とも繋がって一体化する。従って、金属粉相互間、又は金属粉と導電層端面とが単に接触しているだけの場合と比較して高い導電性が得られ、しかも導電層端面での接合の信頼性が顕著に向上する。また、この導電性ペーストは、多層基板の絶縁層との接着性にも優れるので、高い長期信頼性を有する多層基板が得られる。
次に、本発明の導電性ペーストを用いた多層基板、及びその製造方法について説明する。
図1は、本発明による多層基板の例を示す模式拡大断面図である。図1において、符号11(L1〜L4)は導電層を示し、符号12は絶縁層を示し、符号13は導電性ペーストが硬化してなる充填物を示す。本図に示す多層基板は、スルーホールにスルーホールメッキが施されずに充填物がスルーホール内壁に直接接触している。
本図に示した多層基板を得るには、例えばドリルやレーザーによりスルーホールを形成したのち、スルーホールメッキを行わずに、直接導電性ペーストを充填して、所定の条件で加熱することにより樹脂成分を硬化させるとともに金属粉のメタライズ化を進行させる。硬化後には、基板表面から突出した余分な硬化物を、研磨等により除去する。
導電性ペーストの加熱条件としては、樹脂成分の硬化と金属粉のメタライズ化の双方に適した条件を選択するので、具体的な条件はペーストの組成により異なるが、おおよその目安としては、約150〜180℃の温度範囲内で、約30〜120分間程度加熱すればよい。
なお、本発明の多層基板は、図1に示したような構造のものに限定されず、例えば図2に示したような構造のものとすることもできる。図2において、符号21は導電層、22は絶縁層、23は導電性ペーストを示す。本図に示した多層基板は、スルーホールを有するとともに、層の一部に独立した充填部を有するもの(有底ビア型との複合型)である。
以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこれによって限定されるものではない。
[実施例1〜7,比較例1〜4]
表1に示す割合で各成分を配合し、混合して導電性ペーストを調製した。なお、使用した各成分の詳細は以下の通りである。
グリコール変性エポキシ樹脂:大日本インキ化学工業(株)製、エピクロンEXA−4850
エポキシ樹脂:旭電化工業(株)製、EP4901E
アクリレート樹脂:2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルメタクリレート(80重量%)、トリエチレングリコールジアクリレート(20重量%)
イミダゾール系硬化剤:1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト
カチオン系硬化剤:テトラ−n−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート
フェノール系硬化剤:荒川化学工業(株)製、タマノール758
金属粉:Sn−Bi合金金属粉(Sn:Bi=42:58、融点138℃、粒径20μm、50重量%)、銀粉(融点961℃、粒径20μm、50重量%)
フラックス:ヒドロキシエチルラウリルアミン
上記により得られた導電性ペーストを160℃で60分間加熱して硬化させ、TG/DTAを用いて融点測定したところ、260℃及び500℃付近に融点の吸熱ピークが観察された。また、電子顕微鏡及びX線マイクロアナライザーによる観察において、金属粉がメタライズ化しているのが確認された。
次に、導電層(銅箔、厚さ18μm)と絶縁層(ガラスエポキシ、厚さ:約200μm)とが交互に積層されてなる多層基板(板厚0.7mm)にスルーホール(孔径0.3mm、1000孔チェーンパターン)を形成して、上記導電性ペーストを充填し、160℃で60分間硬化させた後、表面から突出した硬化物を研磨により除去し、図1に示す構造の多層基板を得た。
この多層基板につき、初期導電性の測定及び半田ディップ試験を行い、耐湿性(長期信頼性)の評価としてPCT(プレッシャークッカーテスト)耐性時間の測定を行った。
導電性は、図1に示す多層基板の導電層11の最上層(L1)と最下層(L4)間で測定した。
半田ディップ試験は、260℃の半田に多層基板を10秒間ずつ3回浸漬し、導電性変化率を求めた。
PCT耐性試験は、2気圧、湿度100%、121℃の条件下、導電性の変化率が10%以内に保持される時間を調べた。
また、導電性ペーストについては、BH型粘度計ローターNo.7(10rpm)を用いて初期粘度を測定し、さらにポットライフとして、常温で放置して初期粘度に対する粘度変化率が20%以内に保持される時間を調べた。
上記各評価等の結果を表1に併記する。
Figure 2006012734
本発明による導電性ペーストは、上記した多層基板のホール充填に特に好適に用いられるほか、導電性接着剤、電極形成、部品実装、電磁波シールド、導電性バンプ形成用等にも好適に用いられる。
本発明による多層基板の例を示す模式拡大断面図である。 複合型の多層基板の例を示す模式拡大断面図である。
符号の説明
11、21……導電層
12、22……絶縁層
13、23……導電性ペースト

Claims (5)

  1. (A)エチレングリコール変性エポキシ樹脂を含む樹脂成分100重量部に対し、
    (B)融点180℃以下の低融点金属少なくとも1種と融点800℃以上の高融点金属少なくとも1種とを含む、2種以上の金属からなる金属粉1300〜2400重量部、
    (C)硬化剤0.5〜40重量部、及び
    (D)フラックス0.3〜110重量部
    を含有してなる、導電性ペースト。
  2. 前記(A)成分中、エチレングリコール変性エポキシ樹脂を20〜70重量%含有することを特徴とする、請求項1に記載の導電性ペースト。
  3. 前記(B)成分の低融点金属が、インジウム単独、又は錫、鉛、ビスマス及びインジウムからなる群から選択された1種又は2種以上の合金であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の導電性ペースト。
  4. 前記(C)成分が、イミダゾール系硬化剤、カチオン系硬化剤、及びフェノール系硬化剤からなる群から選択された1種又は2種以上であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の導電性ペースト。
  5. 複数の導電層と絶縁層とが交互に積層されてなる多層基板であって、前記導電層間の導通が多層基板の厚み方向に設けられたホールに充填された導電性ペーストによって得られる多層基板において、
    このホールに請求項1〜4のいずれか1項に記載の導電性ペーストが充填され、加熱されたことにより、導電性ペースト中に含有される金属粉が融解して相互に一体化し、合金化した
    ことを特徴とする多層基板。
JP2004192053A 2004-06-29 2004-06-29 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板 Active JP4468750B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004192053A JP4468750B2 (ja) 2004-06-29 2004-06-29 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004192053A JP4468750B2 (ja) 2004-06-29 2004-06-29 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006012734A true JP2006012734A (ja) 2006-01-12
JP4468750B2 JP4468750B2 (ja) 2010-05-26

Family

ID=35779714

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004192053A Active JP4468750B2 (ja) 2004-06-29 2004-06-29 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4468750B2 (ja)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006080247A1 (ja) * 2005-01-25 2006-08-03 Fujikura Kasei Co., Ltd. 導電性ペースト
JP2007019006A (ja) * 2005-06-08 2007-01-25 Hitachi Chem Co Ltd 導電ペーストおよびそれを用いた電子部品搭載基板
JP2008108625A (ja) * 2006-10-26 2008-05-08 Tatsuta System Electronics Kk 導電性接着剤
JP2008108629A (ja) * 2006-10-26 2008-05-08 Tatsuta System Electronics Kk 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板
JP2008243391A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Mitsubishi Plastics Ind Ltd ビアホール充填用導電性ペースト組成物とそれを用いた多層配線基板
US7910837B2 (en) 2007-08-10 2011-03-22 Napra Co., Ltd. Circuit board, electronic device and method for manufacturing the same
KR101329695B1 (ko) 2006-12-20 2013-11-14 에스케이케미칼주식회사 재작업이 가능한 에폭시 수지 조성물
JP2013247339A (ja) * 2012-05-29 2013-12-09 Tdk Corp 電子部品モジュールの製造方法
WO2016136204A1 (ja) * 2015-02-27 2016-09-01 タツタ電線株式会社 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板
CN111128442A (zh) * 2020-01-07 2020-05-08 北京梦之墨科技有限公司 一种液态金属导电浆料及其制备方法、电子器件
US10887988B2 (en) 2018-09-26 2021-01-05 Nichia Corporation Circuit substrate, component-mounted substrate, and methods of manufacturing circuit substrate and component-mounted substrate
WO2022250073A1 (ja) * 2021-05-25 2022-12-01 タツタ電線株式会社 導電性ペースト、及びこれを用いた多層基板

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016178121A (ja) 2015-03-18 2016-10-06 タツタ電線株式会社 ストレッチャブルケーブルおよびストレッチャブル回路基板

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006080247A1 (ja) * 2005-01-25 2006-08-03 Fujikura Kasei Co., Ltd. 導電性ペースト
JPWO2006080247A1 (ja) * 2005-01-25 2008-06-19 藤倉化成株式会社 導電性ペースト
JP2007019006A (ja) * 2005-06-08 2007-01-25 Hitachi Chem Co Ltd 導電ペーストおよびそれを用いた電子部品搭載基板
JP2008108625A (ja) * 2006-10-26 2008-05-08 Tatsuta System Electronics Kk 導電性接着剤
JP2008108629A (ja) * 2006-10-26 2008-05-08 Tatsuta System Electronics Kk 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板
KR101329695B1 (ko) 2006-12-20 2013-11-14 에스케이케미칼주식회사 재작업이 가능한 에폭시 수지 조성물
JP2008243391A (ja) * 2007-03-26 2008-10-09 Mitsubishi Plastics Ind Ltd ビアホール充填用導電性ペースト組成物とそれを用いた多層配線基板
US7910837B2 (en) 2007-08-10 2011-03-22 Napra Co., Ltd. Circuit board, electronic device and method for manufacturing the same
US8217280B2 (en) 2007-08-10 2012-07-10 Napra Co., Ltd. Circuit board, electronic device and method for manufacturing the same
US8609999B2 (en) 2007-08-10 2013-12-17 Napra Co., Ltd. Circuit board, electronic device and method for manufacturing the same
JP2013247339A (ja) * 2012-05-29 2013-12-09 Tdk Corp 電子部品モジュールの製造方法
JP6001231B1 (ja) * 2015-02-27 2016-10-05 タツタ電線株式会社 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板
WO2016136204A1 (ja) * 2015-02-27 2016-09-01 タツタ電線株式会社 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板
CN106537519A (zh) * 2015-02-27 2017-03-22 拓自达电线株式会社 导电性糊剂及使用其的多层基板
US10153066B2 (en) 2015-02-27 2018-12-11 Tatsuta Electric Wire & Cable Co., Ltd. Conductive paste and multilayer board using the same
US10887988B2 (en) 2018-09-26 2021-01-05 Nichia Corporation Circuit substrate, component-mounted substrate, and methods of manufacturing circuit substrate and component-mounted substrate
US11864317B2 (en) 2018-09-26 2024-01-02 Nichia Corporation Sn—Bi and copper powder conductive paste in through hole of insulating substrate
CN111128442A (zh) * 2020-01-07 2020-05-08 北京梦之墨科技有限公司 一种液态金属导电浆料及其制备方法、电子器件
WO2022250073A1 (ja) * 2021-05-25 2022-12-01 タツタ電線株式会社 導電性ペースト、及びこれを用いた多層基板

Also Published As

Publication number Publication date
JP4468750B2 (ja) 2010-05-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4191678B2 (ja) 導電性ペースト、これを用いた多層基板及びその製造方法
JP4949802B2 (ja) 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板
JP4468750B2 (ja) 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板
JP6001231B1 (ja) 導電性ペースト及びこれを用いた多層基板
CN101151728A (zh) 各向异性的导电结构
JP6310954B2 (ja) 導電性接着剤および電子基板の製造方法
JP4778114B2 (ja) 多層配線基板の製造方法及びそれにより得られる多層配線基板
TW201348400A (zh) 導電性組成物
JP4933217B2 (ja) 導電性接着剤
JP6632618B2 (ja) 実装用導電性ペースト
US20040014842A1 (en) Die-attaching paste and semiconductor device
JP4109156B2 (ja) 導電性ペースト
JP4437946B2 (ja) 導電性ペースト
JP4722286B2 (ja) 液状エポキシ樹脂組成物
JP3695226B2 (ja) 一液熱硬化型樹脂組成物
JP2005317491A (ja) 導電ペーストおよびそれを用いた電子部品搭載基板
JP2944363B2 (ja) 低応力接着剤樹脂組成物を用いてなる半導体装置
TW202322153A (zh) 導電性糊及使用其之多層基板
TW202334367A (zh) 導電性糊及多層基板
JP2020044551A (ja) 電極の接続方法および電子基板の製造方法
JP2000336251A (ja) 導電性ペースト組成物
JPH11329068A (ja) 導電性ペースト

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070320

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090918

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091006

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091202

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100216

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100225

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4468750

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130305

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140305

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250